講演申込

講演申込の受付は終了いたしました。
講演申込書 (Windows Excel 2000で作成)
講演申込方法に記載の講演申込み手順および注意事項をご確認の後,上記の講演申込書ファイルを使用のうえ,お申し込みください。
(講演申込締切:平成25年12月6日(金)[厳守]
1.講演申込要領
(1) 発表形式

一般講演,シンポジウムおよびポスターセッションのいずれかを選んでください。

◆一般講演,シンポジウム

発表10分,討論5分,発表時の使用機器は「液晶プロジェクター」といたします。講演者はノート型パーソナルコンピュータをご持参ください。

◆ポスターセッション

ポスター展示・討論3時間といたします。

(2) 講演種別

学術講演(学術的視点に立つ発表),または技術講演(技術的視点に立つもので,新しい結果を含んでいれば断片的な発表でもよい。)のいずれかを選んでください。

(3) 講演分野

シンポジウム講演募集テーマ,または講演分野の分類に示す分類をご参照のうえ,最も適切と思われる講演分野を選んでください。

(4) 発表資格

申込者,登壇者は会員(団体正会員に所属の個人を含む)に限りますので,事前に入会手続きを完了してください。これ以外の共同発表者は非会員でも差し支えありません。入会申込は,本会Webサイトの「入会申込にあたって」をご参照のうえ,お申し込みください。

2.講演申込方法
◆講演申込み手順

1.「講演申込書」ファイル (Excel) をローカルディスクに保存する。

2.「申込シート」を選択し,必要事項を入力する。

3.「確認シート」を選択し,エラーが表示されていないことを確認する。

4.「講演申込書」のファイル名を「所属略称-登壇者氏名」とし,保存する※1,※2
( ファイル名の例:「表協大-神田次郎」)

5.電子メールの件名を「講演申込」とする。

6.「講演申込書」ファイルを添付し,第129回講演大会係あて送信する。
(E-mail:meeting@sfj.or.jp

7.本会から自動返信されるメールを確認する※3

◆注意事項

※1 「講演申込書」ファイルの記入・保存に際しては,Excel97〜Excel2003を使用してください。

※2 Excel2007以降をご使用の場合,ファイルの保存形式を「Excel97-2003ブック(*.xls)」で保存してください。

※3 件名が「講演申込」,かつ講演申込書が添付されているものについて,自動返信するよう設定されています。なお,複数の講演申込書を送信する場合には,ひとつのメールに全ての講演申込書を添付のうえ,ご送信ください。同じメールアドレスから続けて届いた場合には,最初のメールにのみ自動返信されます。

◆個人情報保護方針

ここでご登録いただいた情報は,講演の申込登録,講演プログラムの作成および公開(要旨集・会誌・ウェブサイト)にのみ使用されます。どの分野への関心が高いのかを把握するため,ご登録いただいた情報の一部を講演分野の分類に関する統計にも使用させていただきますが,これに個人を特定する情報が含まれることはございません。

申込書に記載された個人情報について,ご本人の許可なく第三者に個人情報を開示いたしません。また,法律の適用を受ける場合や法的強制力のある請求以外には,いかなる個人情報も開示いたしません。

また個人情報への不正アクセス,紛失,き損,改ざん,漏洩を防止するための適切な管理措置を講じます。個人情報に関して,ご本人から情報の開示,訂正,削除,また利用の拒否を求められた場合は,誠意をもって迅速に対応いたします。

3.講演要旨原稿

学術委員会の審査で講演が認められたのち,講演申込者宛に電子メールにて,「講演要旨の書き方」,「講演要旨の送付方法」などを,「プログラム速報版」,「発表要領」とともに本サイトに登載いたしました旨,ご連絡いたします(12月20日予定)。 なお,講演要旨は市販のA4版用紙をご使用ください。

講演要旨締切:平成26年2月7日(金)

4.著作権

講演要旨集に掲載されたすべての内容の著作権は,たとえ当該講演がキャンセルされた場合であっても,本会に帰属するものとします。詳細は,本会webサイトにある「著作権規程」をご参照ください。

5.大会参加登録

登壇者も含めて全ての参加者には参加登録が義務づけられています。平成26年2号に掲載予定の会告に従い,事前登録されることをお勧めいたします。なお,会告に掲載する参加登録のご案内は,本サイトの「参加登録」ページにも登載いたします。

6.シンポジウム講演募集テーマ (印刷用PDF
S1 光触媒の科学と技術
企画:東京理科大学 光触媒国際研究センター,学術委員会

(趣旨)光触媒は日本発の世界をリードする科学技術の一分野であり,エネルギー・環境問題を解決する科学技術として将来性が非常に注目されている。近年の光触媒及び関連する技術は,住宅関連分野,浄化機器分野,生活・医療分野を中心に応用展開され,光触媒評価の標準化(ISO)に関する国際協調事業も進行しているが,蛍光灯の光でも屋内を十分浄化できる高効率可視光応答型光触媒の開発など,いくつかの課題は依然として残されたままで,そこには表面での様々な現象を解明していく必要がある。本シンポジウムでは光触媒に関わる新展開や問題点について情報交換の場を設けたい。

S2 表面処理および構造とその機械的特性
企画:ナノテク部会

(趣旨)表面改質・加工処理は様々な目的で用いられるが,特に硬度,耐摩耗性,疲労強度,摩擦低減など,機械的な特性を制御する目的で行われるものも多い。本シンポジウムでは,このような機械的特性制御に関する最新の手法とその微視的メカニズムについて議論を行う。

S3 エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開
企画:表協エレクトロニクス部会

(趣旨)ここ数年,春季講演大会でのシンポジウムテーマを「エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開」と固定し,進展著しいエレクトロニクス実装分野の最新情報を提供している。今回のシンポジムにおいても,最新情報を提供するとともに,一般講演および技術講演によって,当該分野の新しい展開を概観したい。

S4 将来のめっき技術と今後のビジネス環境の克服
企画:将来めっき技術検討部会

(趣旨)日本の産業界が衰退していく中で,めっき技術が5-10年先に必要になる「将来めっき技術」を議論することが重要であると考えている。従来のめっき技術に加えて,磁気ヘッドや銅配線などに代表される新しいめっき技術が実用化されているが,産業全体としては,必ずしも発展しているとは言えない。本シンポジウムでは,基礎・応用の両面から「将来のめっき技術」に焦点を絞り,シンポジウムを開催する。

S5 アノード酸化技術の新展開
企画:金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)

(趣旨)アノード酸化技術はこれまで金属や半導体の表面処理にとどまらず様々ま機能化が図られてきたが,近年さらに新規な表面特性が注目されるようになった。本シンポジウムでは,機能性酸化皮膜形成,エッチングをはじめとする広くアノード酸化に係わる技術の新しい展開と可能性について検討する。

S6 進化する炭素系材料:炭素系材料による表面処理と炭素系材料の表面処理を考える
企画:材料機能ドライプロセス部会

(趣旨)ダイヤモンドやDLC,金属炭化物等に代表される炭素系材料が,表面硬化・耐摩耗性被覆として実用化されて久しい。近年では,グラフェン系炭素材料が大きな関心を集めている。炭素系材料を基とする表面技術のさらなる進化には,炭素系材料による表面処理技術プロセスの開発ばかりでなく,炭素系材料をさらに表面処理し高機能化するアプローチも重要となる。本シンポジウムでは,炭素骨格を主構造とする有機分子・高分子材料系も含めた炭素系材料全般での関連講演を募集し,その表面技術としての役割について考えてみたい。

7.講演分野の分類 (印刷用PDF
A.表面の物理的被覆に関わる分野

A11. 物理蒸着(PVD)

A12. 溶射

A13. 溶融めっき

A14. 吸着

A15. 塗布・塗装

A16. 泳動電着(電着塗装→A15)

A17. ライニング

A21. イオン注入

A22. 拡散被覆

A30. その他(新技術を含む)

B.表面の化学的被覆に関わる分野

B11. 化学蒸着(CVD)

B12. 電気めっき・電鋳

B13. 無電解めっき

B14. アノード析出

B15. 熱分解・ゾル−ゲル法

B21. 熱処理(酸化・窒化・炭化)

B22. アノード酸化

B23. 化成処理

B30. その他(新技術を含む)

C.表面からの物質除去に関わる分野

C 1. 機械研磨・研削

C 2. 化学研磨・電解研磨

C 3. 化学エッチング・電解エッチング

C 4. 気相エッチング

C 5. 電解加工

C 6. 洗浄

C 7. その他(新技術を含む)

D.表面処理の実務に関わる分野

D 1. プロセス管理(省力・省エネルギー)

D 2. 検査・品質管理

D 3. 作業環境対策

D 4. 廃ガス・廃水・廃棄物対策

D 5. 資源リサイクル対策

D 6. 工場設備・機器・部品

D 7. その他

E.表面技術に関連する諸分野

E 1. 表面解析・表面分析

E 2. 表面物性

E 3. 表面機能応用(触媒,センサーなど)

E 4. 電析応用(金属微粉・電池など)

E 5. 腐食・防食

E 6. 微細加工プロセス(半導体など)

E 7. その他

8.第20回学術奨励講演賞

若手会員の表面技術に関する研究を奨励する目的で「学術奨励講演賞」を設けております。本賞は,春季講演大会の講演申込みとともに応募していただいた方から,選考により若手研究者(10名以内)に授与するものです。対象および資格など,詳細につきましては,「学術奨励講演賞」ページをご参照ください。

9.注意事項

(1) プログラムは,「講演申込」ファイルによって編成いたしますので,申込後の変更・追加は認めません。また,学術講演および技術講演から関連するシンポジウムでご講演いただくことがあります。

(2) 原則として,講演題目,研究者氏名の変更は認めません。

(3) 講演の取り消しは,大会運営上,種々の支障をきたしますので,申込の際には十分留意してください。