講演申込

講演申込の受付は終了いたしました。
講演申込書　（Windows Excel 2000で作成）
講演申込方法に記載の講演申込み手順および注意事項をご確認の後，上記の講演申込書ファイルを使用のうえ，お申し込みください。
（講演申込締切：平成24年12月7日(金)[厳守]）
1．講演申込要領
(1) 発表形式

一般講演，シンポジウムおよびポスターセッションのいずれかを選んでください。

◆一般講演，シンポジウム

発表10分，討論5分，発表時の使用機器は「液晶プロジェクター」といたします。講演者はノート型パーソナルコンピュータをご持参ください。

◆ポスターセッション

ポスター展示・討論3時間といたします。なお，概要発表は行いません。

(2) 講演種別

学術講演(学術的視点に立つ発表)，または技術講演(技術的視点に立つもので，新しい結果を含んでいれば断片的な発表でもよい。)のいずれかを選んでください。

(3) 講演分野

シンポジウム講演募集テーマまたは 講演分野の分類に示す分類をご参照のうえ，最も適切と思われる分野を選んでください。

(4) 発表資格

申込者，登壇者は会員(団体正会員に所属の個人を含む)に限りますので，事前に入会手続きを完了してください。これ以外の共同発表者は非会員でも差し支えありません。入会申込は，本会Webサイトの「入会申込にあたって」をご参照のうえ，お申し込みください。

2．講演申込方法
◆講演申込み手順

1．「講演申込書」ファイル (Excel) をローカルディスクに保存する。

2．「申込シート」を選択し，必要事項を入力する。

3．「確認シート」を選択し，エラーが表示されていないことを確認する。

4．「講演申込書」のファイル名を「所属略称-登壇者氏名」とし，保存する※1，※2。
（ ファイル名の例：「表協大-神田次郎」）

5．電子メールの件名を「講演申込」とする。

6．「講演申込書」ファイルを添付し，第127回講演大会係あて送信する。
（E-mail：meeting@sfj.or.jp）

7．本会から自動返信されるメールを確認する※3。

◆注意事項

※1 「講演申込書」ファイルの記入・保存に際しては，Excel97〜Excel2003を使用してください。

※2　Excel2007以降をご使用の場合，ファイルの保存形式を「Excel97-2003ブック（*.xls）」で保存してください。

※3　件名が「講演申込」，かつ講演申込書が添付されているものについて，自動返信するよう設定されています。

◆個人情報保護方針

ここでご登録いただいた情報は，講演の申込登録，講演プログラムの作成および公開（要旨集・会誌・ウェブサイト）にのみ使用されます。どの分野への関心が高いのかを把握するため，ご登録いただいた情報の一部を講演分野の分類に関する統計にも使用させていただきますが，これに個人を特定する情報が含まれることはございません。

申込書に記載された個人情報について，ご本人の許可なく第三者に個人情報を開示いたしません。また，法律の適用を受ける場合や法的強制力のある請求以外には，いかなる個人情報も開示いたしません。

また個人情報への不正アクセス，紛失，き損，改ざん，漏洩を防止するための適切な管理措置を講じます。個人情報に関して，ご本人から情報の開示，訂正，削除，また利用の拒否を求められた場合は，誠意をもって迅速に対応いたします。

3．講演要旨原稿

学術委員会の審査で講演が認められたのち，講演申込者宛に電子メールにて，「講演要旨の書き方」，「講演要旨の送付方法」などを，「プログラム速報版」，「発表要領」とともに本サイトに登載いたしました旨，ご連絡いたします（12月10日予定）。 なお，講演要旨は市販のA4判用紙をご使用ください。

講演要旨締切：平成25年2月8日（金）

4．著作権

講演要旨集に掲載されたすべての内容の著作権は，たとえ当該講演がキャンセルされた場合であっても，本会に帰属するものとします。詳細は，本会webサイトにある「著作権規程」をご参照ください。

5．大会参加登録

登壇者も含めて全ての参加者には参加登録が義務づけられています。平成25年2号に掲載予定の会告に従い，事前登録されることをお勧めいたします。なお，会告に掲載する参加登録のご案内は，本サイトの「参加登録」ページにも登載いたします。

6．シンポジウム講演募集テーマ　（印刷用PDF）
S1　密着性の科学と技術
企画：学術委員会

（趣旨）表面への皮膜形成やデバイス作製における異種界面の接合において「密着性」は必要不可欠の重要要素である。しかしながら，密着性の発現機構については学術的に不明な点も多く，密着性を改善する手法についても，個々の技術分野ごとに経験的な手法がとられている場合が多い。本シンポジウムでは密着性の発現機構などに関する学術的な内容（学術講演）とともに，改善のための手法に関する技術的な内容（技術講演）についても講演発表を幅広く募集し，表面技術に携わる多くの研究者・技術者に役に立つ情報交換の場を設けたい。

S2　表面の微細構造と機能性
企画：ナノテク部会

（趣旨）近年，機能性の表面処理や被膜形成技術の重要性は高くなる一方であり，その機能性発現の手段として様々な構造を表面に導入する例も多い。本シンポジウムでは，機能性表面の構造に焦点を当て，特に様々なサイズスケールの構造を幅広く扱う。これより，分子レベルからnm，μｍなど加工法も大きく異なる構造を持つ材料群について，相関やアナロジーを見出し相互に新しい技術アイデアを共有することを目的に議論を行う。

S3　エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開
企画：表協エレクトロニクス部会

（趣旨）ここ数年，春季講演大会でのシンポジウムテーマを「エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開」と固定し，進展著しいエレクトロニクス実装分野の最新情報を提供している。今回のシンポジムにおいても，最新情報を提供するとともに，一般講演および技術講演によって，当該分野の新しい展開を概観したい。

S4　めっき技術の将来展開
企画：将来めっき技術検討部会

（趣旨）日本の産業界が衰退していく中で，現在のめっき技術が5-10年先のものづくりにも必要不可欠な「将来のめっき技術」に進展してゆくことが重要であると考えている。本シンポジウムでは，「将来めっき技術」に関する学問的な研究も当然歓迎するが，ナノ粒子を使用したもの，また，応用として将来の自動車や医療，さらにそれを支えるエレクトロニクスについても発表を歓迎する。さらに，識者の方への依頼講演もお願いする。

S5　アノード酸化の新展開
企画：金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）

（趣旨）近年，従来のAlだけでなくTi，Zr，Zn，ステンレス鋼などのアノード酸化でも自己規則化ポーラス酸化皮膜も生成されることが分かり，アノード酸化皮膜の研究が活況を呈するようになった。またanodic porous alumina filmもさらに微細構造の制御が進みnanotechnology materialsとして鋭意研究が進められている。これらを一同に発表することで，さらに機能的開発の伸長が期待される。

S6　ドライプロセスによる表面処理の現状と将来展望
企画：材料機能ドライプロセス部会

（趣旨）ドライプロセスによる表面処理は，プラズマや真空に関する基礎科学の発展とともに，実用的産業技術として用いられてきた。一方，ドライプロセスの入門書，特に初学者に向けた表面処理分野に絞った教科書の不備が懸念されている。このような状況を踏まえ，本部会では，「ドライプロセスによる表面処理（基礎編）」の発刊準備を進めている。これを記念し，本大会においてドライプロセス全般をカバーするシンポジウムを企画することとした。ドライプロセスに関する基礎，薄膜形成・表面改質による機能表面創製および関連分野での研究発表を通じ，本分野をさらに発展させる契機としたい。

7．講演分野の分類　（印刷用PDF）
A．表面の物理的被覆に関わる分野

A11. 物理蒸着(PVD)

A12. 溶射

A13. 溶融めっき

A14. 吸着

A15. 塗布・塗装

A16. 泳動電着(電着塗装→A15)

A17. ライニング

A21. イオン注入

A22. 拡散被覆

A30. その他(新技術を含む)

B．表面の化学的被覆に関わる分野

B11. 化学蒸着(CVD)

B12. 電気めっき・電鋳

B13. 無電解めっき

B14. アノード析出

B15. 熱分解・ゾル−ゲル法

B21. 熱処理(酸化・窒化・炭化)

B22. アノード酸化

B23. 化成処理

B30. その他(新技術を含む)

C．表面からの物質除去に関わる分野

C 1. 機械研磨・研削

C 2. 化学研磨・電解研磨

C 3. 化学エッチング・電解エッチング

C 4. 気相エッチング

C 5. 電解加工

C 6. 洗浄

C 7. その他(新技術を含む)

D．表面処理の実務に関わる分野

D 1. プロセス管理(省力・省エネルギー)

D 2. 検査・品質管理

D 3. 作業環境対策

D 4. 廃ガス・廃水・廃棄物対策

D 5. 資源リサイクル対策

D 6. 工場設備・機器・部品

D 7. その他

E．表面技術に関連する諸分野

E 1. 表面解析・表面分析

E 2. 表面物性

E 3. 表面機能応用(触媒，センサーなど)

E 4. 電析応用(金属微粉・電池など)

E 5. 腐食・防食

E 6. 微細加工プロセス(半導体など)

E 7. その他

8．第19回学術奨励講演賞

若手会員の表面技術に関する研究を奨励する目的で「学術奨励講演賞」を設けております。本賞は，春季講演大会の講演申込とともに応募していただいた方から，選考により若手研究者（10名以内）に授与するものです。対象および資格など，詳細につきましては，「第19回学術奨励講演賞」ページをご参照ください。

9．注意事項

(1) プログラムは，「講演申込」ファイルによって編成いたしますので，申込後の変更・追加は認めません。また，学術講演および技術講演から関連するシンポジウムでご講演いただくことがあります。

(2) 原則として，講演題目，研究者氏名の変更は認めません。

(3) 講演の取り消しは，大会運営上，種々の支障をきたしますので，申込の際には十分留意してください。