講演申込

1．講演申込要領

（1） 発表形式

一般講演またはシンポジウムのいずれかを選んでください。

◆一般講演，シンポジウム

発表10分，討論5分，発表時の使用機器は「液晶プロジェクター」といたします。講演者はノート型パーソナルコンピュータをご持参ください。

（2）講演種別

学術講演（学術的視点に立つ発表），または技術講演（技術的視点に立つもので，新しい結果を含んでいれば断片的な発表でもよい。）のいずれかを選んでください。

（3）講演分野

シンポジウム講演募集テーマ，または講演分野の分類に示す分類をご参照のうえ，最も適切と思われる講演分野を選んでください。

（4）発表資格

申込者，登壇者は会員（団体正会員に所属の個人を含む）に限りますので，事前に入会手続きを完了してください。これ以外の共同発表者は非会員でも差し支えありません。入会申込は，本会Webサイトの「入会申込にあたって」をご参照のうえ，お申し込みください。

2．講演申込方法

◆講演申込み手順

1．「講演申込書」ファイル（Excel）をローカルディスクに保存する。

2．「申込シート」を選択し，必要事項を入力する。

3．「確認シート」を選択し，エラーが表示されていないことを確認する。

4．「講演申込書」のファイル名を「所属略称-登壇者氏名」とし，保存する。
（ファイル名の例：「表協大-神田次郎」）

5．電子メールの件名を「講演申込」とする。

6．「講演申込書」ファイルを添付し，第150回講演大会係あて送信する。
（E-mail：meeting@sfj.or.jp）

7．本会から自動返信されるメールを確認する^※。

◆注意事項

^※　件名が「講演申込」，かつ講演申込書が添付されているものについて，自動返信するよう設定されています。なお，複数の講演申込書を送信する場合には，ひとつのメールに全ての講演申込書を添付のうえ，ご送信ください。同じメールアドレスから続けて届いた場合には，最初のメールにのみ自動返信されます。

◆個人情報保護方針

ここでご登録いただいた情報は，講演の申込登録，講演プログラムの作成および公開（要旨集・会誌・ウェブサイト）にのみ使用されます。どの分野への関心が高いのかを把握するため，ご登録いただいた情報の一部を講演分野の分類に関する統計にも使用させていただきますが，これに個人を特定する情報が含まれることはございません。

申込書に記載された個人情報について，ご本人の許可なく第三者に個人情報を開示いたしません。また，法律の適用を受ける場合や法的強制力のある請求以外には，いかなる個人情報も開示いたしません。

また個人情報への不正アクセス，紛失，き損，改ざん，漏洩を防止するための適切な管理措置を講じます。個人情報に関して，ご本人から情報の開示，訂正，削除，また利用の拒否を求められた場合は，誠意をもって迅速に対応いたします。

3．講演要旨原稿

学術委員会の審査で講演が認められたのち，講演申込者宛に電子メールにて，「講演要旨pdfファイル作成」，「講演要旨の送付方法と注意事項」を登載した旨をご連絡いたします（6月下旬予定）。（講演要旨参照）

講演要旨締切：2024年7月19日（金）

4．著作権

講演要旨集に掲載されたすべての内容の著作権は，たとえ当該講演がキャンセルされた場合であっても，本会に帰属するものとします。詳細は，本会webサイトにある「著作権規程」をご参照ください。

5．大会参加登録

登壇者も含めて全ての参加者には参加登録が義務づけられています。6月下旬頃に参加申込書を登載いたしますので，事前登録されることをお勧めいたします。（参加登録参照）。

6．シンポジウム講演募集テーマ　（印刷用PDF）

S1　電池における表面技術の新展開

企画：学術委員会，実行委員会

（趣旨） 環境やエネルギー問題が広く認知されるようになって久しい時代において，電池関連分野における表面技術の重要性がますます高まっている。そこで本シンポジウムでは，電池関連技術に焦点を当て，一次電池，二次電池，燃料電池などの領域に関連した表面技術について議論する。具体的には，電極触媒などの材料設計やセル構造から解析評価技術にわたって，さまざまな視点からのアプローチを取り上げる。第一線の研究者の方に招待講演を依頼するとともに，多岐にわたるエネルギー関連技術に関する一般講演も大いに期待する。

S2　半導体関連で期待される表面技術の新展開

企画：学術委員会，実行委員会

（趣旨） 2 nmノードの先端半導体実現において，そのコア材料はプラスチックからガラスへ変わると考えられており，30年ぶりの材料変更に向け研究開発が盛んに行われている。本シンポジウムでは先端半導体及びその実装に求められる要素技術としての表面技術に関して広く議論する。本分野において表面技術が関連する第一線の研究者に招待講演を依頼するとともに，Atomic layer deposition（ALD）などの極薄機能膜の形成や密着性に関する研究，材料，接合技術，微細配線形成など，関連する幅広い研究内容について広く講演を募集する。

S3　新しいめっき技術（特に非水系溶媒を用いためっき技術）

企画：将来めっき技術検討部会

（趣旨） 近年，非水溶媒を用いためっき技術の研究が活発に行われている。有機溶媒やイオン液体だけではなく，濃厚塩化カルシウム溶媒なども活発に研究されている。従来のめっき技術や，新しい合金技術などもテーマとする。

S4　機能を生み出す界面創製の最先端技術

企画：界面部会

（趣旨） 材料を機能化する上で，機能を生み出す異種材料を付着・接着・析出させることが重要となる。例えば，めっきを行うためには，その密着性を改善するための母材の前処理が重要であり，その前処理技術が開発されてきた。気相プロセスのプラズマ等で基材に機能性薄膜を形成する上でも，その密着性を改善するための前処理が施されている。このように，ある材料に優れた機能を付与するためには，ある材料と機能性材料を結びつけるための界面制御が重要となる。本シンポジウムでは，優れた機能性を付与するために必要となる界面制御技術に焦点を当て，第一線の研究者の方に招待講演を依頼するとともに，当該分野に関する一般講演についても広く公募する。

7．講演分野の分類　（印刷用PDF）

A．表面の物理的被覆に関わる分野

A01. 物理蒸着（PVD）

A02. 溶射

A03. 溶融めっき

A04. 吸着

A05. 塗布・塗装

A06. 泳動電着

A07. ライニング

A08. イオン注入

A09. 拡散被覆

A10. その他（新技術を含む）

B．表面の化学的被覆に関わる分野

B01. 化学蒸着（CVD）

B02. 電気めっき・電鋳

B03. 無電解めっき

B04. アノード析出

B05. 熱分解・ゾル-ゲル法

B06. 熱処理（酸化・窒化・炭化）

B07. アノード酸化

B08. 化成処理

B09. その他（新技術を含む）

C．表面からの物質除去に関わる分野

C01. 機械研磨・研削

C02. 化学研磨・電解研磨

C03. 化学エッチング・電解エッチング

C04. 気相エッチング

C05. 電解加工

C06. 洗浄

C07. その他（新技術を含む）

D．表面処理の実務に関わる分野

D01. プロセス管理（省力・省エネルギー）

D02. 検査・品質管理

D03. 作業環境対策

D04. 廃ガス・廃水・廃棄物対策

D05. 資源リサイクル対策

D06. 工場設備・機器・部品

D07. その他

E．表面技術に関連する諸分野

E01. 表面解析・表面分析

E02. 表面物性

E03. 表面機能応用（触媒，センサーなど）

E04. 電析応用（金属微粉など）

E05. 腐食・防食

E06. 微細加工プロセス（半導体など）

E07. エネルギー（電池など）

E08. その他

8．第26回優秀講演賞および第13回学生優秀講演賞

優秀講演賞は，秋季講演大会の講演申込の際，本賞に応募のあった講演者の中から，選考により若手研究者に授与するものです。過去，数多くの応募をいただいておりますが，特に企業サイドからの発表を大歓迎いたします。

また，学生優秀講演賞は，優秀講演賞に応募のあった学生会員による講演の中から，選考によって授与するものです。

対象および資格など詳細につきましては，「優秀講演賞」ページをご参照ください。

9．注意事項

（1）プログラムは，「講演申込」ファイルによって編成いたしますので，申込後の変更・追加は認めません。また，学術講演および技術講演から関連するシンポジウムでご講演いただくことがあります。

（2）原則として，講演題目，研究者氏名の変更は認めません。

（3）講演の取り消しは，大会運営上，種々の支障をきたしますので，申込の際には十分留意してください。

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