講演申込

1．講演申込要領

（1） 発表形式

一般講演，シンポジウムおよびポスターセッションのいずれかを選んでください。

◆一般講演，シンポジウム

発表10分，討論5分，発表時の使用機器は「液晶プロジェクター」といたします。講演者はノート型パーソナルコンピュータをご持参ください。

◆ポスターセッション

ポスター展示・討論3時間といたします。

（2）講演種別

学術講演（学術的視点に立つ発表），または技術講演（技術的視点に立つもので，新しい結果を含んでいれば断片的な発表でもよい。）のいずれかを選んでください。

（3）講演分野

シンポジウム講演募集テーマ，または講演分野の分類に示す分類をご参照のうえ，最も適切と思われる講演分野を選んでください。

（4）発表資格

申込者，登壇者は会員（団体正会員に所属の個人を含む）に限りますので，事前に入会手続きを完了してください。これ以外の共同発表者は非会員でも差し支えありません。入会申込は，本会Webサイトの「入会申込」からお申し込みください。

2．講演申込方法

◆講演申込み手順

1．「講演申込書」ファイル（Excel）をローカルディスクに保存する。

2．「申込シート」を選択し，必要事項を入力する。

3．「確認シート」を選択し，エラーが表示されていないことを確認する。

4．「講演申込書」のファイル名を「所属略称-登壇者氏名」とし，保存する。
（ファイル名の例：「表協大-神田次郎」）

5．電子メールの件名を「講演申込」とする。

6．「講演申込書」ファイルを添付し，第147回講演大会係あて送信する。
（E-mail：meeting@sfj.or.jp）

7．本会から自動返信されるメールを確認する^※。

◆注意事項

^※　件名が「講演申込」，かつ講演申込書が添付されているものについて，自動返信するよう設定されています。なお，複数の講演申込書を送信する場合には，ひとつのメールに全ての講演申込書を添付のうえ，ご送信ください。同じメールアドレスから続けて届いた場合には，最初のメールにのみ自動返信されます。

◆個人情報保護方針

ここでご登録いただいた情報は，講演の申込登録，講演プログラムの作成および公開（要旨集・会誌・ウェブサイト）にのみ使用されます。どの分野への関心が高いのかを把握するため，ご登録いただいた情報の一部を講演分野の分類に関する統計にも使用させていただきますが，これに個人を特定する情報が含まれることはございません。

申込書に記載された個人情報について，ご本人の許可なく第三者に個人情報を開示いたしません。また，法律の適用を受ける場合や法的強制力のある請求以外には，いかなる個人情報も開示いたしません。

また個人情報への不正アクセス，紛失，き損，改ざん，漏洩を防止するための適切な管理措置を講じます。個人情報に関して，ご本人から情報の開示，訂正，削除，また利用の拒否を求められた場合は，誠意をもって迅速に対応いたします。

3．講演要旨原稿

学術委員会の審査で講演が認められたのち，講演申込者宛に電子メールにて，「講演要旨pdfファイル作成」，「講演要旨の送付方法と注意事項」を登載した旨をご連絡いたします。 （講演要旨参照）

講演要旨締切：2023年1月20日（金）

4．著作権

講演要旨集に掲載されたすべての内容の著作権は，たとえ当該講演がキャンセルされた場合であっても，本会に帰属するものとします。詳細は，本会webサイトにある「著作権規程」をご参照ください。

5．大会参加登録

登壇者も含めて全ての参加者には参加登録が義務づけられています。12月下旬頃に参加申込書を登載いたしますので，事前登録されることをお勧めいたします。（参加登録参照）。

6．シンポジウム講演募集テーマ　（印刷用PDF）

S1　エネルギー関連科学技術と表面技術

企画：学術委員会

（趣旨）エネルギー関連分野における表面技術の重要性に焦点をあて，エネルギーの生成，変換及び輸送や貯蔵などのための機器・材料に関わる表面技術について，その分析・評価手法も含めた総合的な発信・議論の場として本シンポジウムを設ける。また，種々のエネルギー関連機器の要素技術あるいはその高度化及び低CO₂排出化の実現に資する表面技術に関して，多くの方々からの一般講演を歓迎する。

S2　液相プラズマを利用した高機能触媒合成の最先端

企画：ヘテロ界面制御部会

（趣旨）ソリューションプラズマは，これまでの溶液化学とプラズマが融合した新規な化学反応場であるが，その活用により優れた触媒合成が可能となってきた。その第一人者にご講演いただき，近年のソリューションプラズマによる触媒合成の最先端について解説していただく。

S3　エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開

企画：表協エレクトロニクス部会

（趣旨） 毎回春季講演大会時に実施している標記部会シンポジウムを継続的に開催し，進展著しい当該分野の最新の情報をタイムリーに提供する。

S4　新しいめっき技術

企画：将来めっき技術検討部会

（趣旨）近年，非水溶媒を使用しためっき技術や，高密度実装技術でのめっき技術など，現在までとは異なった新しいめっき技術が活発に研究開発され，実用化も進んでいる。このような時に，将来のめっき技術を検討している当部会がシンポジウムを企画し，研究開発や実用化を加速する。

S5　アノード酸化の基礎と機能的応用

企画：アノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）

（趣旨）アノード酸化技術はアルミニウムやマグネシウムの表面処理による耐食性，耐摩耗性の改善から接合，着色用途まで幅広く工業的に利用されている。一方，自己規則化構造を利用したナノレベルでの構造制御技術の発展も著しい。さらに，酸化チタンナノチューブ皮膜，鉄・ステンレス鋼の多孔質アノード酸化皮膜，シリコンや化合物半導体のエッチングなど新たな展開も活発化しており，その生成機構や機能的応用への関心が高まっている。
本シンポジウムでは，アノード酸化に関する基礎から機能的応用まで，依頼講演によりわかりやすく解説いただくとともに、最新の研究成果および技術について幅広く一般講演を募集して討論する。

S6　ダイヤモンド電極と電気化学的応用

企画：めっき部会，材料機能ドライプロセス部会

（趣旨）CVDによりボロンをドープした導電性ダイヤモンドの合成が可能であり，レジスト除去や不純物除去で応用されている。その電位窓の広さから，様々な酸化剤の生成が可能であるダイヤモンド電極と工業的応用について討論する。

7．講演分野の分類　（印刷用PDF）

A．表面の物理的被覆に関わる分野

A01. 物理蒸着（PVD）

A02. 溶射

A03. 溶融めっき

A04. 吸着

A05. 塗布・塗装

A06. 泳動電着

A07. ライニング

A08. イオン注入

A09. 拡散被覆

A10. その他（新技術を含む）

B．表面の化学的被覆に関わる分野

B01. 化学蒸着（CVD）

B02. 電気めっき・電鋳

B03. 無電解めっき

B04. アノード析出

B05. 熱分解・ゾル-ゲル法

B06. 熱処理（酸化・窒化・炭化）

B07. アノード酸化

B08. 化成処理

B09. その他（新技術を含む）

C．表面からの物質除去に関わる分野

C01. 機械研磨・研削

C02. 化学研磨・電解研磨

C03. 化学エッチング・電解エッチング

C04. 気相エッチング

C05. 電解加工

C06. 洗浄

C07. その他（新技術を含む）

D．表面処理の実務に関わる分野

D01. プロセス管理（省力・省エネルギー）

D02. 検査・品質管理

D03. 作業環境対策

D04. 廃ガス・廃水・廃棄物対策

D05. 資源リサイクル対策

D06. 工場設備・機器・部品

D07. その他

E．表面技術に関連する諸分野

E01. 表面解析・表面分析

E02. 表面物性

E03. 表面機能応用（触媒，センサーなど）

E04. 電析応用（金属微粉など）

E05. 腐食・防食

E06. 微細加工プロセス（半導体など）

E07. エネルギー（電池など）

E08. その他

8．第29回学術奨励講演賞

若手会員の表面技術に関する研究を奨励する目的で「学術奨励講演賞」を設けております。本賞は，春季講演大会の講演申込みとともに応募していただいた方から，選考により若手研究者（10名以内）に授与するものです。

対象および資格など詳細につきましては，「学術奨励講演賞」ページをご参照ください。

9．注意事項

（1）プログラムは，「講演申込」ファイルによって編成いたしますので，申込後の変更・追加は認めません。また，学術講演および技術講演から関連するシンポジウムでご講演いただくことがあります。

（2）原則として，講演題目，研究者氏名の変更は認めません。

（3）講演の取り消しは，大会運営上，種々の支障をきたしますので，申込の際には十分留意してください。

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