第114回講演大会プログラム
10月13日(金) A会場(午前)
＜電解・電着＞
13A-1 フラーレン含有炭素膜の作製
(千葉工大院, 千葉工大*) ○有馬慎一郎, 高谷松文*
13A-2 電気泳動堆積法により作製した金属酸化物薄膜の結晶性と光起電力
(埼玉工大工) ○矢嶋龍彦, 阿部竜一郎, 笹山敦司, 井野晴洋, 岡部芳雄
13A-依頼講演 ①泳動電着法によるPb-Zr-Ti-Nb-Si-O系強誘電厚膜の作製および評価
（東京理科大学 理工学部工業化学科） 井手本康
10:45 (休憩)
13A-7(技) 電解オゾン生成用電極の開発2
(三洋電機ヒューマンエコロジー研) ○金田和博, 木塚健太, 池松峰男, 井関正博, 安田昌司
(東京理科大理学部) 樋口透, 服部武志, 塚本桓世
13A-8 金属酸化被覆の電極による活性酸素種同時生成能について
(三洋電機ヒューマンエコロジー研) ○木塚健太, 金田和博, 池松峰男, 井関正博, 安田昌司
(東大院･工) 堂免一成 (東工大院･総合理工) Ahmad Mahmoud Mohammad Ahmad, 大坂武男
13A-9 IrO2-Ta2O5/Ti電極における触媒層の非晶質化と酸素発生触媒能
(同志社大工, 九工大院*) ○盛満正嗣, 豊永誠*, 松永守央*
13A-10 電着ポリイミド薄膜の製膜過程の解析
(産総研, ピーアイ技研*) ○横島時彦, 仲川博、青柳昌宏, 中島慎太郎*, ウィンモーソー*
10月13日(金) A会場(午後)
13：00 会長挨拶
13：05 第65回武井記念講演会
「インフルエンザウイルスの生態 －鳥インフルエンザとパンデミック－」
北海道大学大学院獣医学研究科 喜田 宏
＜めっき・電析＞
13A-11 有機触媒ゲル電解質を用いた部分めっき法の開発
(東理大理工) ○四反田功, 中村航, 渡辺邦洋, 板垣昌幸
13A-12 CNTを含有した機能性複合Niめっき被膜の開発(第1報)
－ スルファミン酸Ni浴による複合めっき条件の検討 －
(山形県工技セ, ジャスト(株)*) ○鈴木庸久, 今野高志*, 衣袋光*
13A-13 CNTを含有した機能性複合Niめっき被膜の開発(第2報)
－ 小径軸付きダイヤモンド電着砥石への応用 －
(山形県工技セ, ジャスト(株)*) ○鈴木庸久, 今野高志*, 衣袋光*
13A-14(技) スルファミン酸ニッケル浴からのPR波形における内部応力と機械的特性
(極東精機, 名市工研) 北野毅, 犬飼英司, ○用田久教, 三宅猛司
13A-15(技) フォームめっきによるNi皮膜のピンホール評価
(東京農工大学院工学府) 藤沢洋佑, ○三ツ屋静可, 山田喜康, 市原祥次, 臼井博明
15:30 休憩
13A-17 錯化剤添加浴からのNi-P硬質電気めっき
(室蘭工大) ○木村豪志, 春木佳奈, 佐伯功, 佐藤忠夫
13A-18 Ni-P電解めっき浴の劣化挙動
(室蘭工大) ○佐伯功, 村越陽一, 佐藤忠夫
13A-19 Ni/MoS２複合めっきにおける粒子表面処理の影響
(東工大院理工) ○岡田典晃, 佐治哲夫
13A-20 Ti(Ⅲ)イオン加水分解反応を利用したNi/Ti化合物複合めっき
(岡山大院自然科学) 林秀考, ○水野真伍, 岸本昭
13A-21 非懸濁水溶液からのNi-Ce化合物めっき
(岡山大院自然科学) 林秀考, ○見津正一, 岸本昭
13A-22 Ni-Al hydroxide/Cu多層膜の構造と耐食性
(岡山大院自然科学) 林秀考, ○平石晴宜, 岸本昭
10月13日(金) B会場(午前)
＜無電解めっき＞
13B-1 無電解Ni-Pめっきにおける各種錯化剤の影響
(表面工学研究所*, 関東学院大学工学部**) ○有田匡史*, 斎藤裕一*, 田代雄彦*, 山下嗣人*,**, 本間英夫*,**
13B-2 高精細配線対応無電解Ni-Pめっき技術 －異常析出発生原因の解明と抑制前処理液－
(日立化成工業, 日立化成エレクトロニクス*) ○江尻芳則, 中島澄子, 畠山修一, 川上裕*
13B-3 無電解Ni-P析出プロセスにおける添加剤チオ尿素の作用機構の密度汎関数法による解析
(早大理工) ○遠藤一顕, 島田拓哉, 中井浩巳, 本間敬之
13B-4 無電解Ni-Pめっきにおける析出レートの流速依存性
(富士電機アドバンストテクノロジー(株), 富士電機デバイステクノロジー(株)*,
富士日立パワーセミコンダクタ(株)**, 山梨大学大学院医工***) ○佐藤圭輔, 中嶋経宏*, 井川修**, 柴田正実***
13B-5 無電解ニッケルめっきの耐食性に及ぼす触媒担持法の影響
(山梨大院医工) ○石井まゆみ, 柴田正美
10:45 休憩
13B-7 無電解Au/Pd/Niめっきプロセスにおける下地無電解Niめっき皮膜の重要性
(小島化学薬品株式会社, 関東学院大学表面工学研究所*, 関東学院大院**, 関東学院大工***)
○渡辺秀人, 村松健, 齋藤裕一*, 寺島肇**, 小岩一郎***, 本間英夫***
13B-8 無電解Ni/Auめっきにおけるボンディング特性に及ぼすNi-P皮膜の影響
(関東学院大学*,関東学院大学表面工学研究所**, 小島化学薬品株式会社***)
○寺島肇*, 齋藤裕一**, 村松健***, 渡辺秀人***, 小岩一郎*,**, 本間英夫*,**
13B-9 大環状金属錯体を用いた無電解Ni-P-X合金めっき液に関する研究
(奥野製薬) 山口直美, 下地輝明, 村田俊也
13B-10(技) 次亜リン酸Naを還元剤とした無電解Cu-Ni合金めっき
(奥野製薬) ○村上朋央, 片山順一
10月13日(金) B会場(午後)
13B-11 Ni-P/WC複合めっきの作成と諸性質の検討
(東工大大学院 理工学研究科) ○石井慎太郎, N.K.シュレスタ, 佐治哲夫
13B-12 線繊維上へのニッケル-多層カーボンナノチューブ無電解複合めっき
(岡山大院自然科学) ○林秀孝, 森岡拓也, 岸本昭
13B-13 Ni-B/ダイヤモンド複合めっきの作製と硬度・耐摩耗性の検討
(東京工大院理工) ○原淳, N.K.Shrestha, 佐治哲夫
13B-14 ニオブのナノパウダーを使用した分散めっきとその熱処理特性
(関東学院大学*, 関東学院大学表面工学研究所**) ○配島雄樹*,**, 小岩一郎*,**, 本間英夫*,**
15:15
13B-15 複合無電解めっき法による新規磁性砥粒の作製とそのCMP技術への応用
(宇都宮大院工) ○半沢啓子, 吉原佐知雄, 白樫高史
15:30 休憩
13B-17 無電解めっきおよび電気めっきを用いたセラミックス上へのPt厚膜コーティング
(北大院工, (株)フルヤ金属*) ○渡邉健, 菊地竜也, 高橋英明, 丸子智弘*
13B-18 白金ナノ粒子担持MWCNTの化学還元析出反応に及ぼす各種条件の影響
(信州大工) ○小倉雅之, 新井進, 遠藤守信
13B-19 ポリオール法による銅ナノ粒子の合成
(名大院工) ○岡本健, Yang Jian-guang, 市野良一, 興戸正純
13B-20 シリコン上に無電解置換析出する金属微粒子の成長過程
(兵庫県立大院工*, JST-CREST**) ○奈須紀明*, 松田貴士*, 福室直樹*, 八重真治*,**, 松田均*
13B-21 光触媒による表面改質を用いた導電性微粒子の作製
(関東学院大学大学院, (株)関東学院大学表面工学研究所*1) ○石川久美子, 井上浩徳,
小岩一郎, 本間英夫*1
13B-22 有機分子保護銅ナノ粒子の合成
（甲南大理工）○森雅啓, 赤松謙祐, 縄舟秀美
10月13日(金) C会場(午前)
＜ドライプロセス＞
13C-1 ナノメータ膜厚TiO2層の超親水性
(埼玉工大工) ○岡部芳雄, 矢嶋龍彦
13C-2 反応性スパッタリング法を用いて作製したTiO2薄膜の光機能特性
(工学院大工) ○濱口純一, 鷹野一朗
13C-3 溶液滴下法によるTiO2系薄膜の堆積における反応条件と膜の微構造の関係
(東京理大理工) ○浅田良幸, 藤本憲次郎, 伊藤滋
13C-依頼講演 ②自己修復型ホウ酸系潤滑皮膜の形成
（室蘭工業大学 工学部 材料物性工業科）佐藤忠夫
10:45 休憩
13C-7 Ⅲ-Ⅳ族化合物半導体の結晶成長に関する研究
(東京高専電気工, 芝浦メカトロニクス*, サンバック**) ○伊藤浩, 川又由雄*, 大山昌憲**
13C-依頼講演 ③ハーフメタル系ホイスラー合金薄膜を用いたエピタキシャル強磁性トンネル接合の制作
（北海道大学大学院情報科学研究科 情報エレクトロニクス専攻）山本眞史
10月13日(金) C会場(午後)
13C-11 高周波グロー放電発光分析による窒化処理層の定量
(千葉工大・院, 千葉工大・工*) ○大澤丈治, 寺島慶一*, 松坂菊生*
13C-12 イオン照射された生分解性樹脂の機械的特性に対するエネルギー依存性
（工学院大学工）○鷹野一朗, 尾上謙二, 矢ヶ﨑隆義, 木村雄二
13C-13（技） マイクロブラストによる硬脆材料の加工
(近畿大理工*, 近畿大大学院**, 近畿大リエゾンセンター**)
窪堀俊文*, ○西山渉**, 乾保之*, 生田稔郎***
13C-14 フォトブラスティングにおける砥粒入射角度と加工断面形状
(弘前大理工, 豊橋技科大) ○葛西恒二, 後藤全男, 峯田貴, 牧野英司, 柴田隆行
13C-15 月の模擬砂のナノインデンテーションかたさ特性
(日工大 先端研, NASA GRC*) ○三好和寿, 鈴木学, Phillip B. Abel*
15:30 休憩
13C-17 PTFE系固体潤滑膜の形成
(日本工大) ○三木祥光, 渡部修一
13C-18 プラズマ軟窒化による鋼の表面改質
（千葉工業大学・研究生, 千葉工業大学*）○伊藤孝洋, 坂本幸弘*, 高谷松文*
13C-19 反応性スパッタ法で作製した(Ti,Cr)N皮膜の摩擦摩耗特性に及ぼす組成の影響
(豊田工大) ○今田康夫, 本多文洋
13C-20 各種表面硬化処理材のトライボロジー特性
(日本工大, (株)キャスデック) ○木元マイケン, 渡部修一, 稲津宣之*, 飯島茂*
13C-21 Tribology
of titanium coatings fabricated by Warm Spray process with in-situ zircon beads
addition
(
13C-22 すべり軸受におけるオーバレイの結晶粒組織と機械的特性
（大同メタル工業(株)）○高柳聡, 辻秀雄, 羽根田成也, 大川広衛
10月13日(金) D会場(午前)
＜バイオ・生体材料＞
13D-依頼講演 ④バイオ／デバイス接合界面の時空間制御
（東北大学工学研究科 バイオロボティクス専攻） 西澤松彦
13D-4 光導波路分光法による自己組織化単分子膜上におけるフィブリノゲンの吸着挙動
(名大院工, 名大エコトピア*) ○松野正幸, 齋藤永宏, 井上泰志*, 高井治*
13D-5 フィブリノーゲン吸着に及ぼす表面官能基の効果
(名大院工, 名大エコトピア*) ○藤井聡之, 齋藤永宏, 井上泰志*, 高井治*
10:45 休憩
13D-7 表面ナノ構造・マイクロパターンによる細胞の増殖とアポトーシス
(名大院工, 名大エコトピア*) ○中西一生, 齋藤永宏, 井上泰志*, 高井治*
13D-8 オンチップ細胞サージェリーシステムのためのマイクロニードルアレイの開発
(豊橋技科大, 弘前大理工*) ○中西彬, 柴田隆行, 川島貴弘, 堀内宰, 峯田貴*, 牧野英司*
13D-9 誘電泳動を用いた異種細胞の交互ラインパターンの構築
(東北大院環境科学) ○安川智之, 鈴木雅登, 珠玖仁, 末永智一
13D-10 ヒアルロン酸分子の伸長方向の制御とAFMによる観察
(弘前大理工) ○金沢未央, 峯田貴, 牧野英司, (弘前大医) 菅原卓, 藤哲, 高垣啓一
10月13日(金) D会場(午後)
＜微細加工＞
13D-依頼講演 次元・トポロジー・ジオメトリー制御と物質科学
（北海道大学大学院工学研究科 応用物理学専攻） 丹田聡
13D-14（技） 電解処理によるAl薄膜の微細加工
(山梨工技セ) ○勝又信行, 石田正文, 斎藤修
13D-15 円筒形アクチュエータ形成のためのTiNiCu形状記憶合金のエッチング
(弘前大理工) ○出口智絵, 峯田貴, 牧野英司
13D-17 電析法による水酸化コバルトナノチュ－ブ構造の作製とEC特性
（首都大）吉野隆子
13D-18（技）電鋳の密着性改善による微細構造体の作製
(京都府中小技セ, TOWA株式会社*) ○北垣寛, 宮内宏哉, 國松真也*, 北田良二*
13D-19 アミノシラン自己集積化分子膜のルテニウム配位による機能化
(京大院工) ○森口隆広, 浅井省吾, 邑瀬邦明, 杉村博之
13D-20 自己集積化によるTi(Ⅳ)-有機酸積層膜の作製
(京大院工) ○浅井省吾, 米澤裕之, 李庚晃, 邑瀬邦明, 杉村博之
13D-21 水素終端化シリコン基板表面へのヘキサデシルSAM形成
(京大院工) ○佐野光, 笠原大爾, 邑瀬邦明, 杉村博之
10月13日(金) E会場(午前)
＜表面機能化＞
13E-1 撥水表面上の液滴に対する風圧の影響
(神奈川科学技術アカデミー*, 東工大理工**, 東大工***) ○橋本綾子*, 宋政桓*, 酒井宗寿*,
鈴木俊介*,**, 吉田直哉*,***, 亀島欣一*,**, 中島章*,**
13E-2 還元活性な界面活性剤を用いた有機顔料薄膜生成への親水基の効果
(東工大院理工) ○藤田晴子, 小和瀬裕介, N.K.Shrestha, 佐治哲夫
13E-3 閉口系における金属酸化物の乾式カップリング処理による疎水化
(富山大学工学部) 佐貫須美子, (富山大学大学院生) ○永原暖志, (チタン工業(株)研究開発部)好永俊宏
13E-4 人尿の電解処理 －窒素・リン除去とフラッシュ水としての再利用－
(三洋電機HE研) ○池松峰男, 木塚健太, 金田和博, 井関正博, 安田昌司
10:30 休憩
13E-6 光照射下における亜りん酸水溶液の溶存酸素による酸化反応
(富山工業高等専門学校) ○岩井正雄, 光野純二
13E-7 半導体レーザクラッディング法によるプラスチック板へのSn基膜の作製
(近畿大理工, 大阪大接合研*) 森本純司, 加藤豊, 尾崎泰介, 阿部信行*, 塚本雅裕*
13E-8 真空蒸留法によるマグネシウム合金の高純度リサイクル
(富山高専、富山大工*) ○井上誠, 岩井正雄, 島政司, 會田哲夫*, 松木賢司
13E-9 Pd／Snコロイド触媒の生成過程の解明
(荏原ユージライト(株)) 横山景, ○衣幡和男
13E-10 Al合金膜のジンケート処理プロセスにおける表面電位と膜成長との関係
(早稲田大学・ナノテクノロジー研究所*, 三菱電機(株) 先端技術総合研究所**)
○齋藤美紀子*, 前川武之**, 本間敬之*
10月13日(金) E会場(午後)
＜溶融塩・非水溶媒＞
13E-11（技）溶融Alめっき鋼板の加熱剥離現象に及ぼす加熱雰囲気の影響
(新日本製鐵(株)) ○真木純, 末廣正芳
13E-12 溶融Alめっき鋼のコンクリート付着強度の改善
(武蔵工大, 伸光金属*) ○千葉和茂, 月岡泰夫*
13E-13 塩化物系低温溶融塩からのAl-Zn合金めっき
(北大院工) ○宗形彩加, 上田幹人, 大塚俊明
15:00 休憩
13E-依頼講演 ⑥非水溶媒を用いるアルミニウム電析の表面技術への応用
(東北大学多元物質科学研究所) 平藤哲司
13E-18 中低温の疎水性イオン液体を用いる電気化学的Cu-Sn合金形成の熱力学
(京大院工、東北大多元研*) ○邑瀬邦明, 黒崎良一, 平藤哲司*, 杉村博之, 粟倉泰弘
13E-19 CuCl系常温型溶融塩からのCuの電析 －常温での電析と浴構造－
(東理大理工) 小浦延幸, 宇井幸一, ○高橋康明, 中矢清隆
13E-20 常温溶融塩を用いたAlの無電解めっき
(東京理科大理工) 小浦延幸, ○長瀬浩, 熊倉慎太郎, 佐藤淳, 宇井幸一
13E-21 Mg－Mg2Ni混相体の合成とその脱水素化挙動
(首都大院環境科学) ○武井泰憲, 石渡直矢, 釜崎清治
10月14日(土) A会場(午前)
＜めっき・電析＞
14A-1 光強度変調によるCuおよびNiのp型Si上への電析形態制御
(京大エネ理工研) ○川村洋介, 作花哲夫, 尾形幸生
14A-2 PR電鋳銅の内部応力に及ぼす結晶構造の影響
(九工大工, 旭金属工業(株)*, 中菱エンジニアリング(株)**, 三菱重工業(株)***) ○菊池仁志, 津留豊, 中村止*,
田尻桂介**, 壁谷善三郎***, 梶間一広***
14A-3 Cr(VI)電析機構の半経験的分子軌道法によるアプローチ
(千葉工大・院, 千葉工大・工*) ○中嶋美緒, 寺島慶一*, 松坂菊生*
14A-4 銅の電析における磁場効果の解析（Ⅰ）－理論的背景－
(能開大*, 埼玉県産総セ**, 早大材研***) ○青柿良一*, 森本良一**, 杉山敦史***
14A-5 銅の電析における磁場効果の解析（Ⅱ）－実験的検証－
(埼玉県産総セ*, 早大材研**, 能開大***) ○森本良一*, 杉山敦史**, 青柿良一***
10:30 休憩
14A-7 有機溶媒を含む電解液を用いた銅電析皮膜
(三井金属総研, 東理大理工*) ○小野俊昭, 薦田康夫, 板垣昌幸*
14A-8 硫酸銅浴を用いたCu-MWCNT複合めっき
(信州大工) ○斉藤隆, 新井進, 神谷洋輔, 遠藤守信
14A-9 電気銅めっきの異方性成長を利用したレジストレス銅配線形成
(日立材料研*, 日立電線**) ○端場登志雄*, 鈴木斉*, 佐藤直人*, 赤星晴夫*, 珍田聡**
14A-10 ULSI微細配線の形成を目的としたマイクロコンタクトプリンティング法を利用する銅電析プロセス
(甲南大学理工学部, 石原薬品(株)*, (株)大和化成研究所**) ○尾山祐斗, 赤松謙祐, 内田衛*, 中尾誠一郎**, 縄舟秀美
14A-11 電気銅めっき膜のセルフアニーリングに対する添加剤の影響
(早大理工*,早大理工総研**) 長谷川円*, 沖中裕**, 逢坂哲彌*,**
10月14日(土) A会場(午後)
14A-12 二液相界面電析法における亜鉛成長におよぼす溶液組成の影響
(秋田大工学資源, 秋田大学生*) ○多田英司, 篠崎裕己*, 金児紘征
14A-13 亜鉛めっき皮膜中の水素分析
(名市工研) 三宅猛司, 加藤雅章
14A-14 塩化物浴からの鉄族系合金の磁気特性とその電析挙動
(九産大・工) ○松野昌幸, 小林繁夫, 津留壽昭
(九大・院) 大上悟, 中野博昭, 福島久哲
14A-15 Sn系合金めっき膜のウィスカ発生に与える結晶粒径及び結晶構造の影響
(早大ナノテク研) ○佐々木弘幸, 加藤邦男, 鳥羽環, 斎藤美紀子, 本間敬之
14A-16 中性浴からの光沢スズ－鉄3元合金めっき
(兵庫工技セ) 園田司
14:15 休憩
14A-18 酸性水溶中からのBi－Cuの電解析出
(名大院工) ○西坂康弘, 和田仁志, 市野良一, 興戸正純
14A-19 Bi2Te3熱電半導体薄膜の電析とその熱電特性評価
(名大院工, 名大院環境*) ○萩原健司, 許弼源*, 市野良一, 興戸正純
14A-20 Ni－B合金複合めっき
(信州大工, 群馬大工*) ○笠井脩司, 新井進, 荘司郁夫*
14A-21 Ni－MWCNT複合めっき膜の熱処理による組織変化
(信州大工) ○窪田健一郎, 新井進, 斎藤隆, 遠藤守信
14A-22 Ni－P合金複合めっき
(信州大工, 群馬大工*, 仁テック**) ○鈴木陽介, 新井進, 荘司郁夫*, 小林栄仁**
15:45 休憩
14A-24（技）プローブ用の非シアン硬質Auめっき
(信州大学, (株)みくに工業*) ○藤重雅嗣*, 新井進, 王峰, 遠藤守信, 牧嵜貞文*,
牛山幹夫*
14A-25 超臨界を応用したパラジウム－銀合金めっきと水素分離への応用
(岐阜大工) ○上宮成之, 川村啓之, 手綱洋, 義家亮, 西村誠
14A-26 電析法によるCo－Pt薄膜磁石の作製
(奈良工業高等専門学校*,日本エレクトロプレイティング・エンジニヤース(株) **,長崎大学***)
福本和也*, 和知弘**, 笹平昌男**, 鈴木純二***, 中野正基***, 福永博俊***, ○藤田直幸*
14A-27 銅板上へのAgめっきに影響を及ぼす因子
(三菱伸銅(株)開発部) ○褚松竹, 石川誠一, 鈴木和彦, 熊谷淳一
10月14日(土) B会場（午前）
＜無電解めっき＞
14B-1（技）ガラス基板上への無電解銅めっき
(アルプス電気プロセス技術開発センター) ○三森健一, 鈴木邦明, 久保田浩
14B-2 ガラス上への直接無電解銅めっきを用いた回路形成
(関東学院大学表面工学研究所*, 関東学院大学**) ○齋藤裕一*,**, 清田浩之**, 和久田陽平**, 本間英夫*,**
14B-3 光化学還元法によるガラス基板上への銅のダイレクトパターニング
(石原薬品(株)*, 甲南大学理工学部**) ○有村英俊*,**, 内田衛*, 木村明寛**, 赤松謙祐**, 綱舟秀美**
14B-4 平滑ポリイミド樹脂上への高密着性Cuめっき膜の作製
(早大理工1, テルアビブ大2) ○若月啓1, 吉野正洋1, 笹野順司1, 松田五明1, Yosi Shacham-Diamand2, 逢坂哲彌1
14B-5 UVによる表面改質法を用いたポリイミド上へのメタライジング
(関東学院大学大学院*, (株)関東学院大学表面工学研究所**) ○松井貴一*,**, 石川久美子*,**, 井上浩徳*,**,
小岩一郎**, 本間英夫**
10:30 休憩
14B-7 フォトリソグラフ法および表面改質を利用したポリイミド樹脂上への銅微細回路形成
(甲南大学理工学部, 神戸大学工学部*, トヨタ自動車(株)**) ○青木智美, 赤松謙祐, 田川雅人*, 柳本博**, 縄舟秀美
14B-8 銅箔上のシラン皮膜の構造とプリント樹脂基板との接着強度
(関東学院大院, 関東学院大工*) ○高橋勝, 山下嗣人*
14B-9 光触媒によるABS樹脂改質処理メカニズム
(関東学院大学表面工学研究所1, トヨタ自動車2, 関東学院大学工3) 杉本将治1, 田代雄彦1, 別所毅2, 小岩一郎1,3, 本間英夫1,3
14B-10 微細配線溝埋め込み用無電解銅めっきにおける添加剤効果の解析
(早大理工, Tel-Aviv大*, 早大理工総研**) ○山近紀行, 長谷川円, 沖中裕**, Y.Shacham-Diamand*, 逢坂哲彌**
14B-11 高アスペクト比スルーホールへの無電解銅めっき
(関東学院大学大学院Ⅰ, 日立プリント基板ソリューション(株)Ⅱ, 関東学院大学表面工学研究所Ⅲ) ○樋口峰進Ⅰ, 王子雅裕Ⅰ,
井上浩徳Ⅰ, 宮崎智行Ⅱ, 依田健太郎Ⅱ, 本間英夫Ⅲ, 小岩一郎Ⅲ
10月14日(土) B会場(午後)
＜機能薄膜形成と評価＞
14B-12 メチル系有機シリコン化合物を原料に用いたプラズマCVDにおけるAr分圧の影響
(名大院工, 名大エコトピア*) ○吉田敬典, 尹龍燮, 島津徳文, 齋藤永宏, 井上泰志*, 高井治*
14B-13（技）反応性スパッタリング法によるSiON膜を用いた金属の耐高温酸化性向上
(ヤマハ発動機) ○高橋尚久, 村越功
14B-14 電子線カルシネーションによるメソポーラスシリカ薄膜の作製
(産総研) ○穂積篤, 木村辰雄
14B-15 金属モードを用いた高速反応性スパッタによるSiOX膜の組成と堆積速度
(成蹊大 理工) ○飯村靖夫, 田中邦佳, 柴田雄介, 中野武雄, 馬場茂
14B-16 溶液滴下法によるSiO2系薄膜の室温堆積における反応条件と膜の微構造の関係
(東京理科大理工) ○石塚浩貴, 藤本憲次郎, 伊藤滋
14:15 休憩
14B-18 塩化ナトリウムフラックス蒸発法による塩素アパタイト単結晶皮膜の形成
(信大工) ○櫻井光男, 手嶋勝弥, 鈴木孝臣, 大石修治
14B-19 フラックス蒸発法によるルビー単結晶皮膜の作製
(信大工) ○手嶋勝弥, 鈴木孝臣, 大石修治
14B-20 水系大気圧プラズマによる難燃性高分子被膜の高速分解
(埼玉大工) 杉山和夫, ○鈴木克則, 平方史生, 黒川秀樹, 三浦弘
14B-21 表面波プラズマ照射による基板表面ラジカルを利用したポリマー改質
(名大院工, 名大エコトピア*) ○横田隆史, 齋藤永宏, 高井治*
15:30 休憩
14B-23 lnN薄膜のエレクトロクロミック特性に与えるGa添加の影響
(名大院工, 名大エコトピア*) ○鷹羽秀隆, 倉永知英, 齋藤永宏, 井上泰志*, 高井治*
14B-24（技） トリアジンチオール蒸着膜の重合に及ぼす金属表面の影響
((地独) 岩手県工業技術センター, (株)東亜電化*) ○鈴木一孝, 三浦由美子, 藤原真希,
大宮忠仁*, 佐々木八重子*
14B-25 蛍光性色素で修飾したガラスの分光学的特性に関する研究
(山梨大院医工) ○萱原あゆみ, 桑原哲夫, 柴田正実
14B-26（技） イオンプレーティング法を用いた銀合金薄膜の反射率と耐環境性の向上
(新明和工業(株)) ○小泉康浩, 丸山淳平, 米山信夫, 笹川孝市, 武内清
14B-27 スラブ光導波路分光法を用いたITO電極／電解質溶液界面における電子移動
反応のその場測定
(産総研 実環境計測・診断計測ラボ) ○松田直樹、綾戸勇輔
10月14日(土) C会場(午前)
＜ドライプロセス＞
14C-1 固液界面接触分解法により合成したナノ炭素材料の電界電子放出特性
(凸版印刷総研, 東洋大院工*, 東洋大・先端光センター**, 物材機構***) ○蒲生秀典, 柴崎健*,
中川清晴**, 安藤寿浩***, 蒲生西谷美香*,**
14C-2 誘導加熱法によるC/CコンポジットへのSiの含浸処理
(埼玉大工) 杉山和夫, ○田端勇祐, 池田典隆, 黒川秀樹, 三浦弘
14C-3 レーザー蒸発法を用いたフッ素添加多面体状グラファイトの合成と評価
(産総研, 三重大工1, 名城大2) ○石原正統, 小海文夫1, 中山敦子2, 長谷川雅考, 古賀義紀, 飯島澄男
14C-4 酸化ダイヤモンド担持Pd触媒を用いたカーボンナノコイルの選択合成
(東洋大院工*, 東洋大・先端光センター**, 凸版総研***, 物材機構・物質研****) ○菊地真由子*, 中川清晴**,
蒲生秀典***, 安藤寿浩****, 蒲生西谷美香*,**
14C-5 酸化ダイヤモンド－繊維状炭素複合体の気相合成と電界電子放出特性
(東洋大院工*, 凸版総研**, 東洋大・先端光センター***, 物材機構・物質研**** ) ○菊地真由子*, 蒲生秀典**,
中川清晴***, 安藤寿浩****, 蒲生西谷美香*,***
10:30 休憩
14C-7 熱プラズマCVDによるダイヤモンド合成における基板位置の影響
(千葉工大・院, 千葉工大・学*, 千葉工大**, 日本高周波株式会社***, 東大名誉教授****)○鬼澤光一郎, 須田慎太郎*,
坂本幸弘**, 高谷松文**, 篠原己拔***, 神田稔***, 木山信道***, 明石和夫****
14C-8 マイクロ波プラズマCVDによるダイヤモンド合成における反応ガスの影響
(千葉工業大学・大学院, 千葉工業大学*, 大亜真空**) ○高見義人, 坂本幸弘*, 高谷松文*, 中田洋一**, 冨江崇**, 井上英明**
14C-9 ボロンドープダイヤモンドの気相成長に対する窒素添加効果
(東洋大院工*, 東洋大・先端光センター**, 凸版総研***, 物材機構・物質研****) ○岩崎幸治*,****, 蒲生西谷美香*,**,
蒲生秀典***, 中川清晴**, 安藤寿浩****
11:30
14C-10 熱フィラメントCVDによるダイヤモンド合成における反応ガスの影響
(千葉工大・院, 千葉工大*, MPS**, 大亜真空***) ○渡邊一永, 坂本幸弘*, 高谷松文*, 高橋善則**,
中田洋一***, 井上英明***, 冨江崇***
14C-11 マイクロ波プラズマCVDによる天然ガスからのダイヤモンド合成
(千葉工大, MPS*) ○坂本幸弘, 高谷松文, 高橋善則*
10月14日(土) C会場(午後)
14C-12 大気圧グロープラズマ技術を用いた高ガスバリア非晶質炭素膜の作製
(慶應義塾大学理工, 神奈川科学技術アカデミー*, キリンビール**) ○植田恭輔, 児玉英之*, 飯泉智,
中谷正樹**, 白倉晶**, 堀田篤, 鈴木哲也
14C-13（技） ナノパルスプラズマ源を用いた大気圧下でのDLC成膜（Ⅱ）
(日本ガイシ) 斎藤隆雄, 近藤好正, 寺澤達矢, (名大)大竹尚登
14C-14 環状炭化水素を前駆体とするDLC-Si膜の合成
((株)豊田中央研究所) ○伊関崇, 森広行, 太刀川英男, 中西和之
14C-15 Cr添加DLC膜の作製とその評価
(九工大院工, 九工大工*, 山口産技セ**, 大阪産大院工***) ○中願寺美里, 坂本佳輝*,
井手幸生**, 恵良秀則*, 岸武勝彦***
14C-16 PBIID炭素膜生成時の基板温度によるラマンスペクトルの変化
(芝工大院, 芝工大院(現)NTN(株)*, 都産技研**, 芝工大***) 上野哲朗, 塩谷健郎*, 森河和雄**, 今井八郎***
14:15 休憩
14C-18 DLC-Si膜表面におけるシラノール基の誘導体化XPS分析
(豊田中研) ○高橋直子, 森広行, 木本康司, 村瀬篤, 大森俊英
14C-19 DLC-Si膜の無添加鉱油中における低摩擦特性
(豊田中研) ○森広行, 高橋直子, 中西和之, 太刀川英男, 大森俊英
14C-20 分子動力学法による表面シラノール基上の水の動的構造解析
(豊田中研) ○鷲津仁志, 三田修三, 大森俊英, (トヨタ自動車) 鈴木厚, 西野典明
14C-21（技） PMMAマイクロ化学チップの耐薬品性に及ぼすDLC保護膜の効果
(日本工大) ○伴雅人, 湯原拓, 塩野入真
14C-22 Ti-DLC薄膜の摩擦・摩耗特性と雰囲気ガス依存性
(理研, 工学院大工*) ○佐々木道子, 鷹野一朗*, 岩木正哉
15:45 休憩
14C-24 イオンビームアシスト法によるステンレス基板とDLC薄膜の界面制御
(工学院大工) ○足立真宏, 鷹野一朗
14C-25 水素化DLC膜の形成とその機械的特性評価
(日本工大) ○杉山裕一, 渡部修一
14C-26 DLC皮膜の密着性に及ぼす下地めっきの影響
(武蔵工大, 千代田第一工業(株)*) 白木尚人, ○松下直樹, 碓田研一朗, 浜村尚樹, 鈴木信夫*, 新国哲也
14C-27 トリメチルボレートを原料としたBN膜の作製
(石川工試) ○安井治之, 粟津薫, (金沢工大) 池永訓昭, 作道訓之
10月14日(土) D会場(午前)
＜腐食・防食＞
14D-1 アルミニウムイオンを含む三価クロム化成処理と耐食性
(福島県ハイテクプラザ) ○宇津木隆宏, 渡部修
14D-2 ６価クロムフリー化成処理皮膜の耐食性
(九産大・工) ○平井琢雄, 小林繁夫, 津留壽昭
14D-3 クロメート皮膜の形成における基板材料の影響
(凸版印刷総研) 阿部秀夫, 松浦孝浩, 島崎広美 (芝浦工業大工学部) 渡辺徹
14D-4 Application of stannate and titanate chemical conversion coatings for magnesium and magnesium alloys to improve corrosion resistance.
(Graduate school of Engineering, Hokkaido university) ○Elsentriecy Hassan, Kazuhisa Azumi and Hidetaka Konno
14D-5 強ひずみ加工Al合金の陽極酸化後の耐食性に及ぼす熱処理の影響
(九大院工, 九産大工*) ○孫仁俊, 大上悟, 中野博昭, 福島久哲, 堀田善治, 小林繁夫*
14D-6 pH8.4ホウ酸塩水溶液中、不働態鉄表面への繰り返しマイクロインデンテーション中に観測される電流応答
(北大院工) ○山本隆登志, 伏見公志, 幅崎浩樹, 瀬尾眞浩, (JFEスチール) 釣之郎,
(日本冶金) 足達哲男
14D-8 亜鉛電析反応を利用したメニスカス層構造評価の試み
(九州工大(工)) ○津留豊, 田平基樹
14D-9 Pb代替材料の耐食性
(大豊工業, 名古屋大学) ○和田仁志, 冨川貴志, 市野良一*, 興戸正純*
14D-10 JBMA法によるPbレス黄銅の耐脱亜鉛腐食性の評価
(芝浦工大院, 芝浦工大工*) ○山口怜, 今井八郎*
14D-11 トリアジンジチオール誘導体の吸着状態の金属の腐食抑制効果に及ぼす影響
(神奈川大院工, 産総研*, 神奈川大工**) ○金子信悟, 渡辺雅紀, 吉本惣一郎*, 澤口隆博*, 鹿倉健太,
亀山敦**, 小早川紘一**, 佐藤裕一**
10月14日(土) D会場(午後)
14D-12 有機塗装鋼板の塗膜劣化過程における表面電位の変化
(NIMS) ○片山英樹, 升田博之
14D-13 低合金鋼の大気腐食挙動に及ぼす合金元素の影響
(芝浦工大院, 芝浦工大工*, NIMS**) ○大森隆裕, 野田和彦*, 片山英樹**, 升田博之**
14D-14 塩化物イオンを含む環境下での亜鉛めっき鋼板の腐食挙動と防食特性
(東理大院) ○武川哲 (東理大理工) 板垣昌幸, 渡辺邦洋 (NIMS) 片山英樹, 升田博之
14D-15 表面処理鋼板の海浜環境下における耐食性評価
(芝浦工大院, 芝浦工大工*) ○平野富晴, 野田和彦*
14:00 休憩
14D-17 多チャンネル電極測定法の開発と隙間腐食系への適用
(北大院工) ○長沼淳, 伏見公志, 安住和久, 幅崎浩樹
14D-18 SUS315鋼の塩化物水溶液中におけるすきま腐食挙動
(芝浦工業大学大学院, 芝浦工業大学工*) ○渡辺佳代子, 豊島崇行, 御山雅代, 今井八郎*
14D-19
電気化学センサーを用いた磁気的傾斜機能材料の局部腐食性評価
(芝浦工大院, 芝浦工大・工*, 名古屋工大院**) ○斉藤知, 掛札健司*, 野田和彦*, 渡辺義見**
15:00 休憩
＜接合・接着＞
14D-依頼講演 ⑦サイズに依存する材料の生体反応－マイクロ/ナノサイジング効果－
(北海道大学大学院歯学研究科 口腔健康科学講座) 亘理文夫
14D-24 銀ナノ粒子複合熱可塑性ポリアミド酸微粒子の作製および新規接合材料への応用
(甲南大学理工学部) ○寺畑博晃, 赤松謙祐, 縄舟秀美
14D-25（技）絶縁被覆銅線の電気抵抗ろう付挙動と接合部特性
(㈱日立製作所) ○寺門一佳, 小野瀬伸
14D-26（技） アゾール処理による銅表面改質後の特性評価
(新日鐵化学株式会社) ○新田龍三, 川里浩信, 松村康史
14D-27 マグネシウム合金とアルミニウム合金のエポキシ樹脂系接着剤による接着強さ
(千葉工大・院, 千葉工大*) ○高井学, 高谷松文*
10月14日(土) E会場(午前)
＜アノード酸化膜＞
14E-1 非水溶媒－水混合溶液中でTa薄膜上に形成した陽極酸化膜の電子特性
(三菱化学半導体材料研) ○水谷文一
14E-2 アノード酸化された単結晶Ta(110)面の荷重－深さ曲線における不連続挙動について
(北大院) ○瀬尾眞浩, 倉田祐介, 川真田大輔, 伏見公志 (旭川高専) 千葉誠
14E-3 タンタル・ニオブアノード酸化皮膜の絶縁特性に及ぼす種々のカソード材料の接触効果
(山大工, 山大院理工*) ○赤峰広規*, 舘謙太*, 立花和宏, 遠藤孝志, 仁科辰夫*, 尾形健明
14E-4 Nb-Al複合酸化物皮膜を用いたアルミニウム固体電解コンデンサの試作
(北大院工, 日本ケミコン*) ○石川直弥, 菊地竜也, 長原和宏, 高橋英明, 五光賢次*
14E-5 Structure and dielectric properties of anodic films formed on Ti-Si alloys
(
10:30 休憩
14E-7 非水溶媒・水混合溶液によるAl合金への陽極酸化特性
(三菱化学(株)) ○河瀬康弘, 水谷文一, 石川誠
(東北大学) 北野真史, 白井泰雪, 大見忠弘
14E-8 アノード酸化皮膜化成Al上への局部ピロリン酸銅めっき
(北大院工, 日軽蒲原*, 日軽金アクト**) ○斉藤貴雄, 菊地竜也, 高橋英明, 久保立身*, 佐藤恵一**
14E-9 リード溶接によるAl集電体の有機電解液中におけるブレークダウン電圧の降下とその制御
(山大工*, 山大院理工**) ○田中智**, 阿部智幸**, 立花和宏*, 仁科辰夫**, 遠藤孝志*, 尾形健明*
14E-10 Alアノード酸化皮膜細孔中へのAgの電析によるフリップフロップ現象の発現
(近畿大理工*, 近畿大分子研**) ○中村浩一郎*, 安井晃仁**, 岩崎光伸*, 多田弘明*, 伊藤征司郎*,**
14E-11 固体基板上におけるアノード酸化を利用した二次元周期構造体の作製
(工学院大工) ○内堀航太, 阿相英孝, 小野幸子
10月14日(土) E会場(午後)
14E-12 液相鋳型炭素化により作製したカーボンナノフィラメントのリチウム二次電池負極レート特性
(北大院工) ○桐生雅彦, 幅崎浩樹, 伏見公志, 金野英隆
14E-13 Siの陽極化成表面の局所的フォトルミネッセンス(PL)発光スペクトルの分布
(成蹊大 理工) ○大澤修一, 飯村靖夫, 中野武雄, 馬場茂
14E-14 マグネシウム合金陽極酸化皮膜の作製とそのトライボロジー性
(千葉工大・院, 千葉工大*) ○河野立樹, 高谷松文*
14E-15 電気泳動ゾル-ゲルコーティング／アノード酸化複合プロセスによるAl-Nb複合酸化物皮膜の形成
(北大院工) ○小山瞬, 菊地竜也, 高橋英明
14E-16 フェレートの製造と応用
(千葉工大, 吉野電化*, 産総研**) ○大津英彦, 安田和哉*, 小山和也**, 山下智司
14:15 休憩
14E-18（技）電解研磨表面の評価方法の確立及び規格化
(マルイ鍍金, 都立産技研*, 東京工科大**) 谷口昌平*, 金城康人*, 村松宏**, ○津高文幸,青木哲也, 高谷茂
14E-19 ナノインデンテーションによる化学研磨で生成されたアルミニウム表面皮膜の解析
(武蔵工大) ○新藤恵美, 吉田明, 浜村尚樹
14E-20 エチレングリコール電解液系におけるチタンの電解研磨(2)鏡面形成過程でチタン試料の表面近傍に生成する粘性液の分析
(埼玉工大工, 埼玉県産技セ*) ○南圭一, 出口貴久*, 界外健太郎, 井野晴洋, 岡部芳雄, 矢嶋龍彦
14E-21 アルミニウムの化学研磨により生成された皮膜断面のEELSによる解析の試み
(武蔵工業大学) ○吉田明, 新藤恵美, 浜村尚樹
14E-22 ラマン分光法及び分子軌道法による塩化クロム(Ⅲ)電析液の溶液構造の検討
(千葉工大･院, 千葉工大･工*) ○中嶋美緒, 寺島慶一*, 松坂菊生*
15:45 休憩
＜微細構造解析＞
14E-24 亜鉛ナノクラスターのab-initio分子軌道法計算
(北大院工) ○五百旗頭敬, 田地川浩人, 安住和久
14E-25 Ti･Cr基BCC水素吸蔵合金の合成と水素化･脱水素化特性評価
(首都大院 都市環境科研) 釜崎清治, ○木下大輔, 桜井隆幸
14E-26 ハニカム状疎水性パターンを利用したナノ微粒子集積
(工学院大工) ○阿相英孝, 小野幸子
14E-27 ゾルゲル法による酸化ハフニウム薄膜の生成
(千葉工大院, 千葉工大*) ○小林道雄, 坂本幸弘*, 高谷松文*
以 上