10月５日（水）
Ａ会場
一般講演：電気めっき－銅めっき
9:30
5A-1 ビアフィリングに及ぼす添加剤の影響
（関東学院大表面工学研，関東学院大工*）○小田倉尚子，長島弘季，杉本将治，小山田仁子，小岩一郎*，本間英夫
9:45
5A-2 硫酸銅浴を用いた銅電析のSPS効果に及ぼすPEG重合度の影響
（関東学院大院，関東学院大工*）○山口 仁，須賀偉人*，山下嗣人*
10:00
5A-3 銅電極上におけるめっき添加剤の挙動
（北大院工，触媒セ*）○安田道央，佐々木健，大澤雅俊*，大塚俊明
10:15
5A-4 ULSI微細配線の形成を目的とした添加剤の予備吸着を利用する銅電析プロセス
（甲南大理工，石原薬品*，大和化成**）○尾山祐斗，赤松謙祐，縄舟秀美，内田 衛*，中尾誠一郎**
10:30 5A-5
10:45 休憩
11:00
5A-7 磁場中での銅電析過程の解析
（埼玉県産総セ，早大材研*，能開大**）○森本良一，杉山敦史*，青柿良一**
11:15
5A-8 イオン液体を用いた接触めっき法によるCu-Sn合金皮膜の形成
（京大院工）○黒崎良一，片瀬琢磨，邑瀬邦明，平瀬哲司，粟倉泰弘
11:30
5A-9 ナノ粒子を用いたCu-P複合めっき
（信州大工，群馬大工*，アタゴ製作所**）○飯高正裕，新井 進，荘司郁夫*，上西正久**，大友 昇**
11:45 5A-10 双方向パルス電解によるFe-Cr合金皮膜形成におよぼす基板組織の影響
（京大院工）○八木俊介，邑瀬邦明，平藤哲司，栗倉泰弘
12:00～13:00
休憩
13:05～14:05 特別講演・第63回武井記念講演会
石川のものづくり－その歴史と文化－
（石川県立美術館長）嶋崎 丞
14:05～14:15 休憩
一般講演：電気めっき－スズめっき，金めっきほか
14:15 5A-11 Sn-Cu合金めっき膜における膜内部応力と結晶構造
（早大ナノテク研）○佐々木弘幸，加藤邦男，齋藤美紀子，和田恭雄，本間敬之
14:30 5A-12(技) Snめっきにおけるウィスカーメカニズムの検討
（荏原ユージライト中研）〇原崎裕介，安田弘樹，渡辺恭延，時尾香苗，君塚亮一
14:45 5A-13 中性浴からの光沢スズ－鉄合金めっき
（兵庫工技セ）園田 司
15:00 5A-14(技) 超微細銅コア半田ボールのめっき法による作製と評価
（新日鐵先端技研）〇山本幸弘，田中将元，小林孝之
15:15 5A-15 金－ヒダントイン錯体から得られるめっき膜の評価とその特性予測
（東理大理工*，東理大界面科研**，田中貴金属***）〇菅原健之*，斉藤 俊*，大谷 豊*,***，小柳津研一**，湯浅 真*,**
15:30 5A-16 ルテニウムめっき
（信州大工）〇宮川優子，新井 進，遠藤守信
15:45 休憩
一般講演：電気めっき-クロムめっき
16:00 5A-18 3価クロムを使用した硬質クロムめっきに関する研究
（武蔵工大院，武蔵工大*）〇尾畑祐輔，眞保良吉*，星野重夫*
16:15 5A-19 めっきスラッジ焼成処理時に生じる六価クロムの抑制
（武蔵工大院，武蔵工大*）〇佐藤 崇，眞保良吉*，星野重夫*
16:30 5A-20 3価クロムめっき液の溶存化学種及び電析機構の検討
（千葉工大院，千葉工大工*）〇中嶋美緒，土屋陽平*，寺島慶一*，松坂菊生*
16:45 5A-21 黒色Crめっきの摩擦特性
（千葉工大院，千葉工大*）〇石井 豪，高谷松文*
Ｂ会場
一般講演：熱処理，ドライプロセス（炭素系薄膜）
9:30 5B-1 半導体レーザによる鋼の表面精密焼入れ
（近畿大理工，阪大接合科学研*,石川県工試**）○森本純司，福原慎士，阿部信行*，塚本雅祐*，舟田義則**
9:45 5B-2 粉末活性化バレル槽を用いたアルミニウムの表面窒化メカニズムの解明
（豊田工大，豊田工大院*）奥宮正洋，恒川好樹，○池田宏嗣*
10:00 5B-3 塩浴窒化処理後TiN皮膜を施した複合表面改質層の密着特性
（武蔵工大院，武蔵工大工*）○伊達昴史，中澤洋二*，白木尚人*
10:15 5B-4 鉄鋼材料の疲労強度特性に及ぼす塩浴軟窒化処理時間の影響
（武蔵工大工，武蔵工大院*）○白木尚人，中澤洋二，笹田剛宏*
10:30 休憩
10:45 5B-6(技) バイポーラ型ナノパルスプラズマ源を用いたDLC膜の高速合成
（日本ガイシ*，東工大院**）○斉藤隆雄*，近藤好正*,**，寺澤達矢*，大竹尚登**
11: 00 5B-7 スパッタソースPSII法によるW-DLC膜の作製
（長崎工技セ）馬場恒明，○畑田瑠理子
11: 15 5B-8 DLC膜の密着性に及ぼすSiCブラスト処理の影響
（同志社大工，奈良工技セ*）松岡 敬，○川添裕介，三木靖浩*
11: 30 5B-9 高周波プラズマCVD法で作製したDLC膜の微細構造と水素定量
（千葉工大院，ユーテック*，千葉工大工**）○大関武士，早川晴仁*，阿部浩二*，寺島慶一**
11:45 5B-10 DLCを成膜した高分子材料のガス透過性評価
（千葉工大院，ユーテック*，千葉工大工**）○田中雅之，早川晴仁*，阿部浩二*，寺島慶一**
一般講演：ドライプロセス（炭素系薄膜ほか）
14:15 5B-11 構造制御フッ素添加DLC膜の合成と摩擦特性
（産総研，三菱重工*）○石原正統，渡辺俊哉*，田中章浩，古賀義紀
14:30 5B-12 DLC-Si膜の構造解析
（豊田中研）○伊関 崇，森 広行，長谷川英雄，太刀川英男，中西和之
14:45 5B-13 潤滑油環境下におけるDLC-Si膜の摩擦摩耗特性
（豊田中研）○森 広行，中西和之，太刀川英男，村瀬 篤，大森俊英
15:00 5B-14 DLC-Si被覆による耐食性の向上
（豊田中研）○大島 正，中西和之，小坂 悟，梶野正樹，太刀川英男，長谷川英雄
15:15 5B-15 直流プラズマCVD法によるDLC-Si膜の大量処理の検討
（豊田中研，豊田工機*，日本電子工業**，CNK***）○中西和之，森 広行，太刀川英男，安藤淳二*，齊藤利幸*，酒井直行*，近藤恭二**，舟木義行**，橋富弘幸***
15:30 休憩
15:45 5B-17 熱フィラメントCVDによるダイヤモンド合成における基板位置の影響
（千葉工大院，千葉工大*，大亜真空**）○渡邊一永，坂本幸弘*，高谷松文*，宇田川啓**，中田洋一**，井上英明**，冨江 崇**
16:00 5B-18 マイクロ波プラズマCVDによるダイヤモンド合成におけるマイクロ波出力の影響
（千葉工大，千葉工大院*，大亜真空**）○坂本幸弘，羽根田成也*，高見義人，高谷松文，中田洋一**，冨江 崇**，井上英明**
16:15 5B-19 ボロンドープダイヤモンドのモルフォロジーに対する窒素添加効果
（東洋大院工*，凸版印刷総研**，物材機構物質研***）○岩崎幸治*,***，蒲生西谷美香*，蒲生秀典**，中川清晴***，安藤寿浩***
16:30 5B-20 窒素添加した炭素系材料の電界電子放出特性
（千葉工大，武蔵工大*）○坂本幸弘，浜村尚樹*，高谷松文
16:45 5B-21 有機シリコン分子を原料としたシリカ系機能性薄膜のプラズマCVD
（名大院工，名大エコトピア*）○吉田敬典，折山延樹，井上泰志*，齋藤永宏，高井 治*
Ｃ会場
シンポジウム：溶融金属めっき
9:30 5C-1(技) 溶融亜鉛めっき上のりん酸亜鉛処理の適用例
（オーエム工業）斎藤貞司，藤田日出雄，○鈴木庸一
9:45
5C-2(技) テトラエトキシシランから調製したシリカゾルを被覆した溶融亜鉛めっき鋼板の耐食性評価
（田中亜鉛鍍金，同志社大工*）○米田哲也，廣田 健*，高野嘉彦，坂井一樹
10:00 5C-3 溶融亜鉛合金めっきによる高張力鋼の耐食性と耐腐食疲労性の改善
（鈴鹿高専）岡部純一
10:15
5C-4 被覆処理された溶融亜鉛めっき鋼材をコンクリートに埋設した時の付着性と耐食性について
（三重科技振興セ，愛知亜鉛鍍金*，森定興商**，鈴鹿高専***，名大****）○村上和美，永見美典*，木村恵光**，兼松秀行***，沖 猛雄****
10:30 5C-依頼講演① 塩害環境下における溶融亜鉛めっき鉄筋コンクリートの暴露実験
（日本溶融亜鉛鍍金協会）○永見美典，高野嘉彦，仲松庸一郎
11:15 5C-依頼講演② ビスマス(Bi)の諸特性について
（三井金属鉱業）吉田貞司
シンポジウム：溶融金属めっき
14:15 5C-11 溶融Zn-Al合金めっき高張力鋼の回転曲げ疲労強度
（武蔵工大）○千葉和茂，萩原芳彦
14:30 5C-12 溶融亜鉛めっきを模擬した電気Znめっきの熱処理界面挙動
（名大工，鈴鹿高専*）○市野良一，兼松秀行*，沖 猛雄
14:45 5C-13(技) 溶融亜鉛めっきの性状に及ぼす金属元素の影響
（エム･エスジンク，住友金属鉱山*）日下部武，○工藤万雄*，畑 修二*
15:00 5C-14 溶融亜鉛めっき鋼の中間層抑制について
（鈴鹿高専，三重科技振興セ*，名大**）兼松秀行，村上和美*，沖 猛雄**
15:15 休憩
15:30 5C-依頼講演③ 環境に優しいめっきを目指して
(1)溶融亜鉛-アルミニウム合金めっきおよびその一浴を利用した高純度亜鉛めっき
(2)溶融亜鉛-スズ合金めっき
（興和工業所）角田治彦
16:15 5C-依頼講演④ 新環境対応型溶融亜鉛めっき～鉛なし，カドミなしめっき～
（シーケー金属）上坂美治，茂古沼紀彦，○大橋一喜，牧野 治
Ｄ会場
一般講演：腐食・防食
9:30 5D-1 強ひずみ加工処理したAlの耐孔食性
（九大院工，九産大工*）○孫 仁俊，大上 悟，中野博昭，福島久哲，堀田善冶，小林繁夫*
9:45 5D-2 チャンネルフロー電極を用いた鉄電極の局部腐食に関する検討
（東理大理工）○板垣昌幸，中島大輔，渡辺邦洋
10:00 5D-3 マルチモニタリングシステムによる炭素鋼の大気腐食性評価
（NIMS，東理大理工*）○片山英樹，升田博之，遠藤正憲*，板垣昌幸*，渡邊邦洋*
10:15 5D-4 鉄腐食における濡れ性の変化とその評価
（九州工大工）○津留 豊，末松 仁，吉井由香
10:30 休憩
10:45 5D-6 給水栓用黄銅の耐脱亜鉛腐食性の評価について
（芝浦工大院，芝浦工大工*）○田辺信行，山口 怜，大野川直人*，今井八郎*
11:00 5D-7 亜鉛と炭素鋼のHCO３-，NO３-及びCaCO３を含む水溶液中での電位電流挙動
（芝浦工大院，芝浦工大工*）○堺 高宏，漆畑真樹，今井八郎*
11:15
5D-8 ホウ酸浴とクエン酸浴からの光沢Ni-Crめっき鋼板の屋外暴露試験による腐食寿命の比較
（武蔵工大工）藤田 実
11:30 5D-9 研削によるインプロセス表面改質とその効果発現メカニズムの解明
（理研，慶応大*）○片平和俊，大森 整，水谷正義*，小茂鳥潤*
一般講演：表面構造，表面解析
14:15 5D-11 銅基板表面と自己組織化シラン単分子膜の界面反応の検討
（関東学院大院，関東学院大工*）○高橋 勝，山下嗣人*
14:30 5D-12(技) 銅表面のbis-silane処理による低誘電樹脂との高接着化
（日立化成）○伊藤豊樹，井上文男，中祖昭士
14:45 5D-13(技) 有機系表面処理による銅とポリイミドの接着性向上の検討
（新日鐵化学）新田龍三，川里浩信，○松村康史
15:00 休憩
15:15 5D-依頼講演⑤
マイクロスケールからナノスケールのバイオミネラルの構造
（金沢大院自然科学）田崎和江
16:00 5D-18 アルカリ水溶液中におけるチタンの多孔質化に及ぼす水素の影響
（久留米高専，都立航空高専*，都産技研**）○田中慎一，廣瀬徳豊*，棚木敏幸**
16:15 5D-19 繊維芽細胞接着を支配する表面特性因子
（名大院工，名大エコトピア*）○中西一生，齋藤永宏，井上泰志*，井藤 彰，本多裕之，高井 治*
16:30 5D-20 Dip-Penナノリソグラフィによるシラン誘導体のナノスケールパターニング
（東北大院環境科学）○末永智一，相子直人，安川智之，珠玖 仁
16:45 5D-21 原子間力顕微鏡によるヒアルロン酸の分子像観察
（弘前大理工，弘前大医*）○金沢未央，若松陽雅，峯田 貴，牧野英司，菅原 卓*，藤 哲*，高垣啓一*
17:00 5D-22 Cu UPD反応に伴うメルカプトプロパンスルホン酸単分子層の吸着構造変化
（産総研生物機能，ゲノムファクトリー*）○澤口隆博，丹羽 修，水谷文雄*
Ｅ会場
一般講演：ドライプロセス（機能材料形成ほか）
9:30 5E-1(技) 時間変調ホローカソード蒸着（HCD）法による多元金属化合物薄膜の形成
（オンワード技研）○長谷川祐史，大村佳史
9:45 5E-2 誘導結合コイルプラズマ支援パルススパッタリング法による薄膜構造の制御
（金沢工大高度材料科学研開セ，オリンパス*）○松林秀忠，草野英二，出口武司*，川俣 健*
10:00 5E-3 反応性スパッタリング法を用いて作製したAl-Cr-N系皮膜の機械的特性
（山口産技セ，和興産業宇部*）○井手幸夫，前原博志*
10:15 5E-4(技) 工業用スパッタリング装置を用いて作製されたAl-Cr-N皮膜の機械的特性とその応用
（和興産業宇部，山口産技セ*）○前原博志，井手幸夫*
10:30 休憩
10:45 5E-6 反応性スパッタリング法を用いて作製したTiO2薄膜の光触媒特性の改善
（工学院大）○有路 巧，中村 元，鷹野一朗
11:00 5E-7 CVD法によるTiO2薄膜の作製とそのガスセンサ特性
（東理大理工）○大内聡洋，藤本憲次郎，伊藤 滋
11:15 5E-8 イオンビームアシスト法により作製したDLC薄膜の炭化水素ガス圧依存性
（工学院大）○足立真宏，鷹野一朗
11:30 5E-9 WS2/DLCナノコンポジット膜の摩擦特性とその構造評価
（日本工大）○野城淳一，渡部修一，櫻井貴彦，三宅正二郎
11:45 5E-10 反応性イオンプレーティングにより形成したB-C-N薄膜
（日本工大）○三木祥光，渡部修一，三宅正二郎
一般講演：ドライプロセスによる機能材料形成
14:15 5E-11 微粒子ピーニング処理を施したSUJ2の摩耗特性に及ぼす処理時間の影響
（同志社大院工，トライボロジー研）松岡 敬，平山朋子，○礒貝さやか
14:30 5E-12 フラッシュ真空蒸着したTiNi形状記憶合金薄膜の機械的性質
（弘前大理工，豊橋技科大*）○牧口大輔，久保 悠，峯田 貴，牧野英司，柴田隆行*
14:45 5E-13 電子ビーム蒸着法によるGaSe薄膜成長と光物性
（東京高専）○大山昌憲，伊藤 浩
15:00 5E-14 シリコン単結晶基板上におけるGaSe薄膜成長と構造評価
（東京高専）○伊藤 浩，大山昌憲
15:15 5E-15 プラズマプロセスを応用したバイオセンサー用Au薄膜の作製について
（東洋大工）○長谷川裕之，柏木邦宏，益子貴志，今川 宏*，角量佑*
15:30 休憩
15:45 5E-17 マイクロ波表面波水素プラズマによる表面処理効果
（ミクロ電子，東洋大工*，コンサルタント事務所PTC**）○中山貴道，滝沢 力，梅原幸太郎，柏木邦宏*，坂本雄一**
16:00 5E-18 電子部品Au-Sn共晶接合層の組成分析－PVD多層膜からのAuとPtの拡散－
（九大応力研，愛媛大工*）○松原監壮，黄木景二*，高雄善裕，岡部永年*
16:15 5E-19 プラズマプロセスによる薄膜形成中の発光分光分析
（東洋大，日本電子*）○阿部一彦，柏木邦宏，佐田洋平，高島 徹*，本間義和*
10月６日（木）
A会場
一般講演：電気めっき－合金めっき，複合めっき
9:15 6A-1 コバルト－鉄合金電析に及ぼす浴組成および浴pHの影響
（九州工大工，三島光産*）○菊池仁志，津留 豊，大溝利行*，松尾正昭*
9:30 6A-2 パルス電析法によるCo-Pt薄膜磁石の厚膜化
（奈良高専，EEJA*，長崎大**）○甘崎晋次郎，島岡三義，和知 弘*，笹平昌男*，鈴木純二**，中野正基**，福永博俊**，藤田直幸
9:45 6A-3 電析法による強磁性金属ナノワイヤーの作製
（長崎大工，長崎大院*）○大貝 猛，野村茂樹*，水本将之，香川明男
10:00 6A-4(技) イオン交換膜プロセスを用いたFe-W合金めっきの作製法
（阪府産技研，野村鍍金*）○森河 務，中出卓男，横井昌幸，濱田隆弘*，石田幸平*
10:15 6A-5 パルス電解によるCo/Cu多層膜への水酸化アルミニウム共析
（岡山大院自然科学）林 秀考，○平石晴宜，岸本 昭
10:30 6A-6 回転リングディスク電極を用いた界面pH測定のNi-Al(OH)3めっきへの応用
（岡山大院自然科学）林 秀考，○見津正一，岸本 昭
10:45 休憩
11:00 6A-8 パルス電解法によるZn-Ni合金めっき
（名市工研）○三宅猛司，久米道之
11:15 6A-9 ナノ粒子を用いたZn-In2O3複合めっき
（信州大工）○宮脇 学，新井 進
11:30 6A-10 分子動力学法とモンテカルロ法の統合手法による電気めっきのシミュレーション
（京大院情報，金沢大院自然科学*，上村工業中研**）○金子 豊，三上崇志，樋渡保秋*，小原勝彦**，浅富士夫**
11:45 6A-11 キャンセル
一般講演：電気めっき－複合めっき
13:00 6A-12 ニッケル電鋳における剥離性の検討
（凸版印刷総研）○阿部秀夫，井田勇人，松浦孝浩
13:15 6A-13(技) ニッケル電鋳の機械的特性
（極東精機，名市工研*）北野 毅，犬飼英司，○藤吉敦恭，三宅猛司*
13:30 6A-14 ニッケルめっき膜の残留応力形成に及ぼすサッカリン添加および水素発生の影響
（九州工大工，山口産技セ*）○愛甲洋平，津留 豊，横野照尚，山田隆裕*
13:45 6A-15 電気ニッケルめっきによるマイクロバンプ作成時の撹拌の影響
（関東学院大表面工学研，関東学院大工*）○中丸弥一郎，角田貴徳，小岩一郎*，本間英夫
14:00 6A-16 Ti(Ⅲ)イオン加水分解反応を利用したNiめっき皮膜へのTi酸化物の共析
（岡山大院自然科学）林 秀考，○水野真伍，岸本 昭
14:15 休憩
14:30 6A-18 Ni金属を被覆したSiC粒子を用いたNi/SiC複合めっき
（神奈川大院工，ディスコ*）○浅井良規，岸本圭介*，小早川紘一，佐藤祐一
14:45 6A-19 高含有Ni/疎水化SiO2複合めっきにおける諸性質の検討
（東工大理工）○加藤信弘，小林弦太，N.K.シュレスタ，佐治哲夫
15:00 6A-20 高含有Ni-P/ダイヤモンド複合めっきの硬度及び耐摩耗性に関する研究
（東工大理工）原 淳，N.K.Shrestha，佐治哲夫
15:15 6A-21 ナノ粒子を用いたNi-P複合めっき
（信州大工，群馬大工*，仁テック**）○鈴木陽介，新井 進，荘司郁夫*，小林栄仁**
15:30 6A-22 ナノ粒子を用いたNi-B複合めっき
（信州大工，群馬大工*）○笠井脩司，新井 進，荘司郁夫*
15:45 休憩
16:00 6A-24 パルス電解を用いたNiとWCナノ粒子の複合皮膜の作成
（東工大院理工）○羽迫義浩，N.K.シュレスタ，佐治哲夫
16:15 6A-25 電析Ni-W-P合金めっきの耐食性
（阪府産技研，三重大工*）○中出卓男，森河 務，横井昌幸，太田清久*
16:30 6A-26(技) ニッケル系合金浴からの着色めっき膜作製
（京都府中小技セ，現京都府商工部*）○中村知彦，松田 実*
Ｂ会場
一般講演：無電解めっきの新展開
9:15 6B-1 改質処理を用いたポリイミド上へのメタライジング
（関東学院大表面工学研，荏原ユージライト*，関東学院大工**）○石川久美子，小田倉尚子，井上浩徳，三浦修平*，小岩一郎**，本間英夫
9:30 6B-2 UV/VUV照射および還元助剤の塗布を利用したガラス基板上への銅のダイレクトパターニング
（甲南大理工）○木村明寛，赤松謙祐，縄舟秀美
9:45 6B-3(技) ノリル樹脂への直接硫酸銅めっき法の検討
（奥野製薬）○中里純一，今村真琴，佐藤一也
10:00 6B-4 有機分子保護金ナノ粒子を触媒とする無電解めっき法によるガラス基板上への微細金配線の形成
（甲南大理工）○寺畑博晃，赤松謙祐，縄舟秀美
10:15 6B-5 厚付けノーシアン型無電解金めっきプロセス
（関東学院大表面工学研，小島化学薬品*，関東学院大工**）○長島弘孝，寺島 肇，角田貴徳，小林未奈子*，渡辺秀人*，小岩一郎**，本間英夫
10:30 6B-6 無電解Auめっきにおよぼす下地めっきの影響
（関東学院大表面工学研，小島化学薬品*，関東学院大工**）○寺島 肇，長島弘孝，角田貴徳，渡辺秀人*，小岩一郎**，本間英夫
10:45 休憩
11:00 6B-8 無電解ニッケルめっきの密着性に及ぼす皮膜作成条件の影響
（関東学院大院，関東学院大工*）○石本健太郎，武藤裕太*，山下嗣人*
11:15 6B-9 アルミニウム合金上への置換法を用いた無電解ニッケルめっき
（関東学院大表面工学研*，関東学院大**）○齋藤裕一*，配島雄樹**，田代雄彦*，小岩一郎*,**，本間英夫*,**
11:30 6B-10 Al合金上へのPd核析出挙動および無電解Niめっき
（山梨大院医工）○愛葉公志，柴田正実
11:45 6B-11 シュベルトマナイトを用いたリン酸系アニオンの除去
（名大院工）○高桑敏裕，黒田健介，市野良一，興戸正純
12:00～13:00 休憩
13:00 特別講演 日本国際博覧会 愛・地球賞－持続可能な未来をつくる100の地球環境技術－
無排水処理エコプレーティング 亜鉛めっき
（名市工研）久米道之
14:00 6B-依頼講演⑥ 亜鉛めっき系におけるELV指令の対応について
（サーテックカリヤ）竹内克弘
14:45 休憩
15:00 6B-20 n-Si上へのナノ金属粒子の置換析出
（兵庫県立大院工*，JST-CREST**）○奈須紀明*，八木崇晃*，福室直樹*，八重真治*,**，松田 均*
15:15 6B-21 QCMを用いたZnO薄膜の無電解析出挙動の観測
（京大院工，阪市工研*）○邑瀬邦明，多田裕俊，品川 勉*，伊崎昌伸*，粟倉泰弘
15:30 休憩
15:45 6B-23 塩化アンモニウムを用いた無電解ニッケルめっきとそのサイズ依存性
（関東学院大工，KAST*，JST PRESTO**，東大工***，関東学院大****）○加藤育洋，物部秀二*,**，大津元一***，本間英夫****
16:00 6B-24 微小領域無電解ニッケルめっきのためのフタル酸塩を用いたセンシタイジング
（神奈川科学技術アカデミー*，科学技術振興機構さきがけ**，東大電子工***）○物部秀二*,**，大津元一***
16:15 6B-25 無電解めっきにおけるCu, Ni表面上の次亜リン酸反応素過程の密度汎関数法による解析
（早大理工）○小田切秀一，島田拓哉，中井浩巳，本間敬之
16:30 6B-26 低加速FE-SEM/ESBによるプラスチックめっき断面の観察
（慶応大経，カールツァイス*，三井金属**，北大院工***）○清水健一，立花繁明*，花田 剛*，笠原暢順**，幅崎浩樹***
Ｃ会場
一般講演：表面改質・半導体・機能材料形成
9:15 6C-1 Si含浸処理による炭素材料の耐酸化性能の向上
（埼玉大工）杉山和夫，○田端勇祐，黒川秀樹，三浦 弘
9:30 6C-2 酸化イリジウム被覆チタン電極の熱分解温度・結晶構造とアノード特性
（同志社大工，九州工大院*）○盛満正嗣，松元浩一*，松永守央*
9:45 6C-3 塩化ランタンとチオ尿素のガス硫化による各種基板上へのLa2S3薄膜の作製
（室蘭工大JSPS，室蘭工大院*，室蘭工大**，物材機構物質研***）太田道広，三澤航多*，○平井伸治**，朝日秀定**，西村聡之***，上村揚一郎***
10:00 6C-4(技) トリアジンジチオール蒸着膜の作製に及ぼすステンレス鋼板の還元剤処理効果
（岩手県工技セ，いわて産振セ*，岩手大工**）○鈴木一孝，三浦由美子*，大宮忠仁*，森 邦夫**
10:15 休憩
10:30 6C-6 オートクレーブを用いた高温でのCdTe電析
（京大院工）○萩原壮一，高山昭一，荒井健太郎，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
10:45 6C-7
CdS/TCO/glass上への塩基性浴からのCdTe電析
（京大院工）○荒井健太郎，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
11:00 6C-8 酸性水溶液からのBi2Te3熱電半導体膜の電析
（名大院工，名大院環境*）○萩原健司，許 弼源*，市野良一，興戸正純
11:15 6C-依頼講演⑦ 電析法を利用した色素／酸化亜鉛ナノハイブリッド薄膜の作製とフィルム型カラフル太陽電池への応用
（岐阜大院工）箕浦秀樹
一般講演：光反応・機能材料形成
13:00 6C-12 酸化亜鉛の光結晶化プロセス
（名大院工，名大エコトピア*）○稗田純子，齋藤永宏，井上泰志*，高井 治*
13:15 6C-13 ゾルゲル電気泳動電着法による酸化チタン薄膜の作製とその応用
（宇都宮大院工，日本プレーテック*）○延本要介，吉原佐知雄，白樫高史，及川 渉*，工藤南海夫*
13:30 6C-14 水溶液を原料に用いたTiO2薄膜およびZrO2薄膜の作製
（東理大理工）○伊藤 滋，江島陽子，松崎加奈子，古川尚稔，藤本憲次郎
13:45 6C-15 水溶液を原料に用いたSnO2薄膜およびWO3薄膜の作製
（東理大理工）○古川尚稔，藤本憲次郎，伊藤 滋
14:00 休憩
14:15 6C-17 光触媒を用いた各種樹脂材料へのエッチング代替処理の影響
（関東学院大表面工学研，トヨタ自動車*）○杉本将治，田代雄彦，別所 毅*，小岩一郎，本間英夫
14:30 6C-18 光触媒を用いたABS樹脂へのエッチング代替処理
（関東学院大表面工学研，トヨタ自動車*）○家中 徹，田代雄彦，別所 毅*，小岩一郎，本間英夫
14:45 6C-19 光触媒のアセトアルデヒド分解活性に関する反応速度論的取扱いと評価(2)
（埼玉工大工）○矢嶋龍彦，森田剛旭，岡部芳雄
15:00 6C-20 フォトカルシネーションを利用したクラックフリーなメソポーラスシリカ薄膜の作製
（産総研，名大院*）○穂積 篤，小島智之*，永野修作*，関 隆広*
15:15 休憩
15:30 6C-22 ナノメータ膜厚を有するanatase型TiO2層のキャラクタリゼーションと光触媒特性
（埼玉工大工）○岡部芳雄，矢嶋龍彦
15:45 6C-23(技)
固液界面接触分解法によるカーボンナノチューブの合成 －コバルト触媒の物理化学状態と生成物の関係－
（東洋大院工，凸版印刷総研*，物材機構物質研**）○柴崎 健，蒲生西谷美香，浦生秀典*，中川清晴**，安藤寿浩**
16:00 6C-24 基板Ti材を用いてのC2H5OH浴中での通電加熱によるCNT作製
（千葉工大院，千葉工大*，産総研**）○熊谷隆仁，高谷松文*，坂本幸弘*，梅原博行**
16:15 6C-25 全湿式プロセスによる銅/ポリイミド樹脂界面における微細構造制御
（甲南大理工，三ツ星ベルト*）○池田慎吾，赤松謙祐，縄舟秀美，柳本 博*
16:30 6C-26 振動電析反応により形成される金属微細格子の構造制御
（阪大院基礎工*，CREST-JST**）○深見一弘*，中西周次*，山崎はるか*，園田憲太郎*，中戸義禮*,**
Ｄ会場
一般講演：化学研磨，Ａｌアノード酸化皮膜
9:15 6D-1 研磨による銅の表面修飾
（上村工業中研）○鈴木祥一郎，有田 了，福井洋一，土家和代
9:30 6D-2 アルカリ性化学研磨によるアルミニウム表面皮膜の深さ方向解析(1)
（武蔵工大）○浜村尚樹，新藤恵美，吉田 明
9:45 6D-3 アルカリ性化学研磨によるアルミニウム表面皮膜の深さ方向解析(2)
（武蔵工大）○新藤恵美，吉田 明，浜村尚樹
10:00 6D-4 化学研磨によるアルミニウム表面皮膜の網目状組織と素地結晶粒の関係
（武蔵工大）○吉田 明，新藤恵美，浜村尚樹
10:15 休憩
10:30 6D-6 イオン性液体中におけるアルミニウムのアノード酸化とブレークダウン電圧
（山形大院理工，山形大工*，上海交通大**）○田中良樹，立花和宏*，仁科辰夫，遠藤孝志*，楊 立**，尾形健明*
10:45 6D-7 ヨウ素添加油の耐摩耗性
（千葉工大院，千葉工大*）〇岡崎徹也，高谷松文*
11:00 6D-8 ヨウ素化合物含浸シュウ酸陽極酸化皮膜の潤滑性及び抗菌性評価
（千葉工大）高谷松文，〇前嶋正受
11:15 6D-9 Alアノード酸化皮膜をテンプレートとした貴金属ナノロッドの合成における二次電解条件の影響
（近畿大理工*，近畿大分子研**）○安井晃仁*，岩崎光伸*，多田弘明*，伊藤征司郎*,**
11:30 6D-10 ポーラスアルミナの自己規則化に及ぼすアルミニウムイオン添加の影響
（工学院大工）○田村修一，阿相英孝，小野幸子
11:45 6D-11 含水非水溶媒中で形成したアルミニウム陽極酸化膜の解析
（東北大未来科学技術共同研*，三菱化学半導体材料研**）○河瀬康弘*,**，北野真史*，森永 均*，白井泰雪*，大見忠弘*，水谷文一**，石川 誠**
一般講演：アノード酸化皮膜の機能化
13:00 6D-12 アノード酸化/レーザー照射/電解重合によるポリピロールアクチュエータの試作とその性能
（北大院工）○秋山好之，菊地竜也，上田幹人，坂入正敏，高橋英明
13:15 6D-13 アノード酸化皮膜化成アルミニウム上への銅めっき －レーザー照射により形成した不連続素地金属露出部からの析出追跡－
（北大院工，日軽蒲原*，日軽金アクト**）○斉藤貴雄，菊地竜也，高橋英明，久保立身*，佐藤恵一**
13:30 6D-14 結晶性ニオブアノード酸化皮膜の生成に影響する因子の検討
（北大院工，慶応大*，東北大金研**）○小笠原健，幅崎浩樹，金野英隆，清水健一*，永田晋二**
13:45 6D-15 タンタルおよびニオブのアノード酸化ポーラス皮膜の成長
（工学院大工）○長坂 匠，阿相英孝，小野幸子
14:00 6D-16 非水溶媒－水混合溶液中でTa薄膜上に形成した陽極酸化膜中へのC取り込み(Ⅲ)
（三菱化学半導体材料研）○水谷文一，榊原利明，石川 誠
14:15 休憩
14:30 6D-18 定電位アノード酸化皮膜の温度条件とバルブメタルアノード酸化皮膜の構造変化
（山形大院理工）立花和宏，○赤峰広規，風間 晃，遠藤孝志，仁科辰夫，尾形健明
14:45 6D-19 耐熱性タンタル焼結素子のポア体積
（高純度物質研）和田浩明
15:00 6D-20 β-Ti合金への硬質火花放電陽極酸化膜の形成
（北大院工，神鋼メタルプロダクツ*，富士重工**）○小野寺恭志，幅崎浩樹，金野英隆，高沢祐之*，豊武孝太郎*，柏瀬 一**
15:15 6D-21(技) 陽極火花放電法による複合セラミック皮膜の摺動特性
（日本パーカ）○吉岡信明，中村文英，森 和彦
15:30 休憩
15:45 6D-23 アルミニウムとマグネシウム合金の接着強さ
（千葉工大院，千葉工大*）○関口将士，高井 学*，高谷松文*
16:00 6D-24 AZ91Dマグネシウム合金への電気めっきに及ぼす前処理の影響
（岡山工技セ，オーエム産業*，堀金属表面処理工業**）○日野 実，平松 実，村上浩二，陳 慧江*，高見沢政男*，西條充司**
16:15 6D-25(技) 表面処理によるマグネシウム圧延板の加工性向上
（東洋鋼鈑技研）駒井正雄，○吉岡 興
Ｅ会場
一般講演：イオン注入・プラズマ利用による機能付与
9:15 6E-1 PSII法による管内壁への金属イオン注入および薄膜形成
（長崎工技セ）○馬場恒明，畑田留理子
9:30 6E-2 イオン照射した高分子材料の表面構造と状態変化
（横浜工技支援セ，千葉工大工*）○井出美江子，山崎喜弘，松坂菊生*，寺島慶一*
9:45 6E-3(技) 高エネルギーイオン照射した超高分子量ポリエチレンの摩擦摩耗特性
（都産技研）○谷口昌平，関口正之，宮崎則幸，金城康人
10:00 6E-4 イオン注入したPTFEのトライボロジー特性
（理研）○佐々木道子，小林知洋，岩木正哉
10:15 6E-5 大気圧プラズマ処理によるPETシートの表面改質
（兵庫工技セ，ライト黒坂製作所*，阪大院工**）○柴原正文，稲垣官司*，山村和也**，佐野泰久**，遠藤勝義**，森 勇蔵**
10:30 休憩
10:45 6E-依頼講演⑧ 石川県におけるイオン注入研究の取り組み
（石川県工試）粟津 薫
11:30 6E-10 プラズマイオン注入による炭素膜生成における基板温度の検討
（芝浦工大院，都産技研*，都産労局**，芝浦工大***）○塩谷健郎，内田 聡*，森河和雄*，三尾 淳**，今井八郎***
14:45 6E-11 低エネルギーイオン照射によるPMMAの硬度および化学安定性（2）
（武蔵工大）○浜村尚樹，初谷恵美子，岩尾 徹，湯本雅恵
一般講演：表面分析・エッチング・電池
13:00 6E-12 ハイブリッドナノダイヤモンド（HND）膜中の水素分析
（石川県工試, 金沢工大*, オンワード技研**）○安井治之,
栗津 薫, 池永訓昭*, 作道訓之*, 長谷川祐史**
13:15 6E-13 WC系サーメット溶射皮膜のマイルド摩耗特性
（物材機構, 千葉工大*）○石川泰成, 黒田聖治, 川喜多仁, 坂本幸弘*,
高谷松文*
13:30 6E-14 HVOFで形成したサーメット溶射皮膜の特性に関する研究
（大阪産業大工）○馬込正勝, 金 正浩, 金 泰俊
13:45 6E-15 蓄光ガラス複合皮膜の性質に関する研究
（大阪産業大工）○馬込正勝, 金 晶日, 岡本征四郎, 加藤義和
14:00 6E-16 ウレタンフォームをテンプレートとするリチウムイオン二次電池負極用Si-C-Oガラス状化合物の合成
（北大院工, 愛工大院*）○金野英隆, 森下隆広*, 佐藤修也,
幅崎浩樹, 稲垣道夫*
14:15 – 14:30 休憩
14:30 6E-18(技) 金属選択性金エッチング液の開発
（関東化学中研）○高橋秀樹, 黒岩健次, 加藤 勝
14:45 6E-19 コロイド結晶をマスクとしたシリコン基板の電解エッチング
（工学院大工）○阿相英孝, 小野幸子
15:00 6E-20(技) 分散めっき用分散液の分散分布簡易測定方法の開発
（高砂鐡工）○若狭智明, 山本章夫
15:15 6E-21(技) 新規応力計によるめっき皮膜応力の経時的観察
（関東学院大院，山本鍍金試験器*，関東学院大**）○小山田仁子, 高橋智賀子*, 秋山勝徳*,
山本 渡*, 小岩一郎**, 本間英夫**
15:30 休憩
15:45 6E-23 リチウム二次電池用Alめっき負極の開発とその電極挙動の解析
（東理大理工）○宇井幸一, 石川恒平, 井手本 康, 小浦延幸
16:00 6E-24 再結晶法によるMg-Mg2Niミクロ混相体の創成
（首都大院工, 首都大工*）釜崎清治, ○武井泰憲, 石渡直矢*
16:15 6E-25 V基合金の水素吸蔵放出特性に及ぼすMo添加効果
（首都大院工, 首都大院工*）釜崎清治, ○桜井隆幸*, 池田耕平*,
穴原 賢*