第１０８回講演大会講演次第
９月１７日（水）
Ａ会場
9:30 17A-1
Sn/Agナノ粒子複合めっきの連続電解
（キザイ，阪市工研*）○楢原泰栄子，丸田正敏，藤原 裕*
9:45 17A-2 金属および半導体素地へのAgナノ粒子の吸着とAg薄膜の成長
（阪市工研，関西大工*）○藤原 裕，新宮 亨*，斉藤耕太郎*，星加 洋*
10:00 17A-3 擬似配線溝を用いたCu埋め込みめっきの検討
（住友鉱山市川研，京大院工*）○桜田毅彦，古田成生*，島田雅博*，守山実希*，
邑瀬邦明*，粟倉泰弘*，村上正紀*
10:15 17A-4 実装基板上のはんだ接合信頼性に及ぼす部品表面処理の影響
（エスペック）○田中浩和，青木雄一
10:30
17A-5 ス－パ－コネクトレベルの微細配線パタ－ンに対する電気的信頼性のEISによる評価
（宇都宮大院工）○佐藤 誠，横田淳一郎，吉原佐知雄，白樫高史
10:45 （休 憩）
11:00 17A-7 金ナノ粒子の選択的集積による微細配線形成プロセスの開発
（甲南大理工）○長谷川潤，赤松謙祐，縄舟秀美
11:15
17A依頼講演① エレクトロニクス実装における先端めっき技術
（新光電気工業） 若林信一
12:00（休 憩）
13:00 （特別講演・第59回武井記念講演会）
磁気研磨法とその応用 （宇都宮大学大学院工学研究科）進村武男
14:05（休
憩）
14:15 17A-11 ULSI微細配線の形成を目的とした添加剤の予備吸着を利用する銅電析プロセス
（甲南大理工，石原薬品*）○橋本守人，赤松謙祐，縄舟秀美，内田 衛*
14:30 17A-12
ビアフィリングにおける添加剤の効果およびその経時変化
（関東学院大院，関東学院大工*） ○西中山宏，渡邊新吾，山口和紀，
小山田仁子，香西博明*，本間英夫*
14:45
17A-13 TiO2光触媒を用いたビルドアップ材料の表面改質とそのめっき法への応用
（関東学院大院，関東学院大工*，関東学院大表面工学研**，トヨタ自動車***）○藤村 翼，
井上浩徳*，渡辺健冶，本間英夫**，別所 毅***，平岡基紀***
15:00
17A-14 高アスペクト比トレンチ内における無電解めっきの均一析出性
（関東学院大院，関東学院大工*）○岡部敏之，加藤 瑛*，小山田仁子，本間英夫*
15:15 17A-15 Ti（Ⅲ）イオンを還元剤として用いた無電解めっきによる銅配線上へのキャップメタルの形成
（京大院工，住金鉱山中研*）○八木俊介，桜田毅彦*，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
15:30 （休 憩）
15:45
17A-17 ビアホ－ルへの均一析出性向上のための無電解銅めっき添加剤作用メカニズム（1）
（日立基礎研，日立日立研*，日立プリント基板ソリュ－ション**）
○板橋武之，赤星晴夫*，飯田 正**
16:00
17A-18 ビアホ－ルへの均一析出性向上のための無電解銅めっき添加剤作用メカニズム（2）
（日立基礎研，日立日立研*，日立プリント基板ソリュ－ション**）
○板橋武之，赤星晴夫*，飯田 正**
16:15 17A依頼講演②
電気化学ナノテクノロジ－の展開
（早大理工）
逢坂哲彌
Ｂ会場
9:45 17B-2 グルコン酸塩浴からのNi-Mo合金めっきの作製
（阪府産総研） ○北村浩司，森河 務，中出卓男，横井昌幸
10:00 17B-3 銅電析におけるPEGおよびCl－の挙動の電気化学的解析
（関東学院大院工，関東学院大工） ○山口 仁，山下嗣人，本間英夫
10:15 17B-4 クエン酸ニッケルめっき浴におよぼす浴pHの影響
（都産技研，都多摩振興セ，関東学院大工）○土井 正，水元和成，田中慎一，山下嗣人
10:30 17B-5 セリウム化成処理によるニッケルめっきの高温耐酸化特性向上効果
（阪市工研） ○小林靖之，藤原 裕
10:45-11:00 （休 憩）
11:00 17B-7 スズウィスカー発生に及ぼす真鍮板表面処理の影響
（九州工大工） ○佐藤 毅，津留 豊
11:15 17B-8 三価クロム浴を用いた黒色クロムめっき膜の開発
（大日野工業，早大理工総研，早大理工） ○神林秀昭，横島時彦，逢坂哲弥
11:30 17B-9 優れた吸放熱特性を有する黒色Cr（VI）フリー表面処理鋼板の開発
（JFEスチール） ○中丸裕樹，海野 茂，加藤千昭
11:45 17B-10 亜鉛めっきしたネジへの３価クロメート処理
（富士セイラ，芝浦工大工） 榎本利夫，○今井啓裕，佐藤敏彦
12:00（休憩）
13:00 （特別講演・第59回武井記念講演会）
14:05（休憩）
14:15 17B-11 四級アンモニウムイミド系室温溶融塩からのZn-Mg合金電析
（京大院工） ○篠原伸樹，片瀬琢磨，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
14:30 17B-12 四級アンモニウムイミド系室温溶融塩中での希土類の酸化還元挙動
（京大院工） ○片瀬琢磨，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
14:45 17B-13 アンモニア－アルカリ浴からのCdTe電析におよぼす塩化物イオンの影響
（京大院工） ○荒井健太郎，川口 潤，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
15:00 17B-14 クエン酸浴からのZnTe薄膜の電析及びその膜の評価
（早大理工） ○大友健志，石崎貴裕，不破章雄
15:15 17B-15 Fe-Ni合金めっき膜の内部ひずみに及ぼすめっき条件の影響
（九工大工） ○津留 豊，藤中明子
15:30-15:45 （休 憩）
15:45 17B-17 組成傾斜構造を持つFe-Cr合金めっき皮膜の作製
（宇都宮大院工，宇都宮大工，日本プレーテック） ○久保田賢治，延本要介，吉原佐知雄，
白樫高史，及川 渉，工藤南海夫
16:00 17B-18 溶融塩電気化学プロセスによるステンレス鋼の表面窒化とその制御
（京大院エネルギー科学） ○辻村浩行，後藤琢也，伊藤靖彦
16:15 17B-19 ガソリン中におけるイオン窒化ステンレス鋼などの耐磨耗性
（日立日立研，日立オートモーティブシステムグループ） ○山口 静，馬場 昇，寺門一佳，
鍵山 新，町村英紀
16:30 17B-20 アルミニウム陽極酸化皮膜の回転摩擦と往復摩擦による摩擦挙動の比較検討
（千葉工大工，表面技研） 高谷松文，○前島正愛
16:45 17B-21 室温における水溶液からのベーマイトライク薄膜の作製
（東理大理工）○伊藤 滋，新有希子，佐藤世一，藤井 孝
Ｃ会場
9:30 17C-1 不均化反応を利用した無電解銅めっきの検討
（宇都宮大院工）○川上 昭，吉原左知雄，白樫高史
9:45 17C-2 絶縁性基板上に形成された触媒核と初期析出めっき粒子の観察
（姫路工大院工*，兵庫工技セ**）○鵜川博之*，三俣宣明*,**，山岸憲史*，福室
直樹*，八重真治*，松田 均*
10:00 17C-3 銀触媒を用いた無電解めっきの析出性に対する触媒付与後処理の効果
（奥野製薬工業?，大阪市工研*）○北 晃治，大塚邦顕，岩松克茂，片山順一，
藤原 裕*
10:15 17C-4 Pd-Au混合触媒を用いたサファイア基板上への無電解Ni-Pめっき
（２）
（山梨大院医工，山梨工技セ*）○望月千裕，有泉直子*，柴田正実
10:30 17C-5 TiO2光触媒反応を利用する
Direct Patterning プロセス
（甲南大理工）○松原弘招，赤松謙祐，縄舟秀美
10:45 （休憩）
11:00 17C-7 光触媒反応を利用したマグネシウム素地上への無電解めっきとその特性
（姫路工大院工*，JST
CREST**）○福室直樹*，加藤陽平*，八重真治*,**，松田
均*
11:15 17C-8 無電解析出を用いた酸化亜鉛層の形成における基板前処理の影響
（宇都宮大院工，上村工業株式会社*）○江尻教夫，高橋久弥，吉原左知雄，白樫高史，
西條義司*
11:30 17C-9 次亜リン酸を還元剤とした無電解ニッケルめっき過程のQCM法を併用した反応解析
（宇都宮大院工）○坂井勇磨，二柴由江，吉原左知雄，白樫高史
11:45 17C-10 ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの浴組成制御による高導電率化
（姫路工大院工）○濱田隆弘，横山敦之，伊藤 潔，福室直樹，八重真治，松田
均
12:00（休憩）
13:00 （特別講演・第59回武井記念講演会）
14:05（休憩）
14:15 17C-依頼講演③ 21世紀を支えるエレクトロニクス産業における電子部品の技術動向
（日本ケミコン?）○内山郁夫
15:00 17C-14 Alアノード酸化皮膜と電解質との界面構造が耐電圧に及ぼす影響
（北大院工，日本ケミコン?*）○山田麻由，坂入正敏．高橋英明，野上勝憲*，内秀則*
15:15 17C-15 Nb2O5を被覆したEtched-Al箔のアノード酸化挙動
（岡山大工，北大院工*，室蘭大工**，東北大金研***）○渡辺恵司，坂入正敏*，
高橋英明*，平井伸治**，永田晋二***
15:30 17C-16 MOCVD/アノード酸化によりエッチドAl箔上に生成する複合酸化物の誘電的性質
（北大院工）○阪田英治，坂入正敏，高橋英明
15:45 （休憩）
16:00 17C-18 遷移金属を含むアルミニウム合金のアノード酸化時の酸素ガス発生について
（北大院工，慶応大経済*）○幅崎浩樹，金野英隆，清水健一*
16:15 17C-19 アルミニウム薄膜上に形成した陽極酸化皮膜の応力（?）
（三菱化学，法大工*）○水谷文一，鷹羽 寛，高山新司*
16:30 17C-20 Alアノード酸化皮膜のコバルトによる電解着色
（近畿大理工*，近畿大分子研**）○安井晃仁*，岩崎光伸*，
16:45 17C-21 PVDチタン,ニオブのアノード酸化による干渉色発色
（黒田表面技研，ダイゴールド?*，テクノWING大田**）○黒田孝一，佐藤 勝*，
岩淵孝子**，梶川治彦**
Ｄ会場
9:30 17D-1 遷移金属ドープカーボン薄膜の電気的・機械的性質
（千葉工業大学，NTTアフティ*，和歌山大学**）○矢部光範，小畑大志，上坂勇，松橋伸介，梅村茂，廣野滋*，金子礼三**
9:45 17D-2 HCD法で作製した炭素系硬質膜の特性に対する成膜温度の影響
（アルバック筑波超材料研究所）○野末竜弘，稲川幸之助，村上裕彦
10:00 17D-3 反応性イオンプレーティングによって形成したCr-DLC膜の摩擦特性
（日本工大）○小竹克幸，渡部修一，三宅正二郎
10:15 17D-4 高温環境における固体潤滑積層膜のトライボロジー特性
（日本工大）○野城淳一，渡部修一，三宅正二郎
10:30 （休憩）
10:45 17D-6 基板上にc軸配向したセレン化ガリウム(GaSe)薄膜の作製と光物性評価
（東京高専）○伊藤浩，大山昌憲
11:00 17D-7 電子ビーム蒸着法により作製した硫化ガリウム(GaS)薄膜の光物性
（東京高専）○大山昌憲，伊藤浩
11:15 17D-8 フタロシアニン薄膜の結晶性と電気伝導
（茨城大工）○土屋利一，久下谷任洋，金海峰，竹内学
11:30 17D-9 反応性スパッタリングによるαアルミナの成膜
（神戸製鋼）○小原利光，玉垣浩，碇賀充
11:45 17D-10 N+，C+イオン注入によるTiO2の光触媒効果の可視光化
（工学院大学工） ○関陽一，中村勲，鷹野一朗，沢田芳夫
12:00（休憩）
13:00 （特別講演・第59回武井記念講演会）
14:05（休憩）
14:15 17D-11 微細構造制御したInN薄膜のEC有効表面の評価
（名大院工，名大環境量子*，名大理工総研**）○山口敦，藤原卓矢，井上康志*，高井治**
14:30 17D-12 窒化処理後TiN皮膜を施した複合表面改質層の密着特性
（武蔵工大）○小林貫人，杉山好弘，中澤洋二，白木尚人
14:45 17D-13 TiN蒸着膜への紫外線照射によるマイナスイオン発生技術
（松下電器産業(株），電化住設研）○口野邦和，野村幸生，守屋好文
15:00 17D-14 RFプラズマCVDによるヨウ素含有炭素合成時の基板バイアスの影響
（千葉工大・院，千葉工大*）○内山剛史，坂本幸弘*，高谷松文*
15:15 17D-15 マイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素の低温合成における基板バイアスの影響
（千葉工大，千葉工大・研究生*）○坂本幸弘，羽根田成也*，高谷松文
15:30 （休憩）
15:45 17D-17 窒化炭素被覆ポリマーの機械的特性
（名大院工，名大環境量子*，名大理工総研**）○太田理一郎，李庚晃，斎藤永宏，井上康志*，杉村博之，高井治**
16:00 17D-18 大気圧窒素プラズマの発生と窒化チタン成膜への応用
（埼玉大工）杉山和夫，○桑島秀介，青木洋介，黒川秀樹，三浦弘
16:15 17D-19 高周波誘導プラズマを用いたTi-Cr合金の表面窒化
（東理大理工）○伊藤滋，荒木尊，藤井孝，明石和夫
16:30 17D-20 CO2，Ar混合ガスを用いたプラズマCVDによる超はっ水膜の作製
（名大院工，名大環境量子*，名大理工総研**，科学技術交流財団***）別家誠，呉雲影***，井上康志*，杉村博之，高井治**
16:45 17D-21 PECVDシリカ膜のガス透過性 －化学組成および構造依存性－
（大日本印刷研開セ*，名大院工**，名大環境量子***，名大理工総研****）手嶋勝弥*,**，杉村博之**，井上康志***，高井治****，高野敦*
９月１８日（木）
Ａ会場
9:15 18A-1 銅微細配線形成における添加剤の効果－動的モンテカルロシミュレーション－
（京大情報、管沢大理＊、上村工業（株）＊＊）○金子豊、樋渡保秋＊、小原勝彦＊＊、村上
透＊＊
9:30 18A-2 高速伝送プリント配線板の開発
（熊本大※１、日本ヒーオン※２、凸板印刷※３、熊本テクノ産業財団※４、上村工業※５、緒方工業※６、熊本防錆※７）○本武幸一※１、内田大輔※２、栗林幸一郎※６、野田智子※７、杉村正彦※２、
脇坂康尋※２、土岐荘太朗※３、佐々木淳※３、古屋明彦※３、筑間光靖※５、萩原宗明※４、久保田弘※１
9:45 A18-3 レーザ照射による選択的なはんだバリアエリアの形成
（大和電機工業、東洋大＊）○野口真、柳沢政志、倉科匡、吉田善一＊
10:00 18A-4 無電解還元反応による球状金属粒子の生成メカニズム
（日立金属（株）冶金研究所、（財）秋田県資源技術開発機構＊）○野坂勉、湯瀬栄一郎＊
10:15 18A-5 官能基に依存した自己組織化分子膜上での無電解金属核形成
（名大院工、名大理工総研＊）○井村真一郎、齋藤永宏、杉村博之、高井治＊
10:30 （休憩）
10:45 18A-7 酸化イリジウム系アノードの触媒層焼成温度と二酸化鉛の電着
（九工大工、ダイソー＊）○盛満正嗣、松元浩一、音川隆一＊、松永守央
11:00 18A-8 Ａｇ単結晶電極上におけるＡｇＢｒ超薄膜の電気化学的エピタキシャル成長
（東北大院工、科技団ＣＲＥＳＴ＊）○犬飼潤治、下岡泰真、板谷謹悟＊
11:15 18A-依頼講演④ 皮膚表面の外界に対する防御機能：皮膚表面はなぜ簡単には乾燥しないのか？
なぜ物質が簡単 には浸入しないのか？ （花王（株））芋川玄爾
12:00（休憩）
13:00 18A-依頼講演⑤ 先進自動車エネルギーシステムと表面技術 （本田技術研究所）佐藤登
13:45（休憩）
14:00 18A-依頼講演⑥ 電機二重層キャパシタにおける非水電解液
（㈱三菱化学科学技術研究センター）武田政幸
14:45 18A-19 ボロンドープダイヤモンド／活性炭ハイブリッド電極を用いた電気二重層キャパシタ
（宇都宮大院工）○木暮和良、張延栄、江口博章、吉原佐知雄、白樫高史
15:00 18A-20 トリアジンジチオール有機メッキを用いた高シール性電気二重層キャパシタ用ケースカバーの開発 （本田技 術研、東亜電化＊、トーノ精密＊＊）○駒月正人、五十嵐和明、安田範史、斎聖一＊、小林伊智郎＊＊
15:15 18A-21 鉛担持活性炭電極のキャパシタ性能の検討（宇都宮大院工）○岡本晋一郎、吉原佐知雄、白樫高史
15:30 （休憩）
15:45 18A-依頼講演⑦ 次世代リチウム二次電池用スズ合金めっき負極
（兵庫県立工業技術センター）園田司
16:30 18A-26 泳動電着法による酸化物粒子と炭素粒子の共析膜の作製
（東理大理工）宇井幸一、○府野真也、井手本康、小浦延幸
16:45 18A-27 V基固溶体・金属間化合物Ti２Ni混相体の水素化・脱水素化挙動
（都立大院工）○穴原賢、池田耕平、見崎吉成、釜崎清治
17:00 18A-28 Ti-V-Ni-Co多元合金の電気化学的水素化・脱水素化特性
（都立大院工）○池田耕平、穴原賢、釜崎清治
Ｂ会場
9:15 18B-1 マロン酸電解液におけるアノード酸化ポーラスアルミナの自己規則化条件
（工学院大工）○斉藤真希子，阿相英孝，小野幸子
9:30 18B-2 アノード酸化ポーラスアルミナの孔発生過程に対する素地表面形状の影響
（工学院大工）○小野幸子，石原秀憲，阿相英孝
9:45 18B-3 アルミ素地角部における陽極酸化皮膜割れの理論的検討
（武蔵工大院，武蔵工大*）○岩崎晶夫，
10:00 18B-4 アノード酸化／AFMプロセッシング／電解析出による銅の析出挙動
（北大院工）○加藤善大，坂入正敏，高橋英明
10:15 18B-5 アノード酸化を用いたシリコン基板の微細パターニング
（工学院大工）○阿相英孝，生出章彦，小野幸子
10:30 （休憩）
10:45 18B-7 Low-voltage, high resolution SEMによるAl合金腐食初期過程の観察
（慶大経，日本FEI*，北大院工**）○清水健一，藤谷 洋*，幅崎浩樹**
11:00 18B-8 シリコンウェハ表面の局所的な活性の制御によるナノ金属構造体形成
（早大理工）○本藤洋佑，久保鴨宏，本間敬之，逢坂哲彌
11:15 18B-9 磁性ナノ粒子複合ポリイミド樹脂の作製および垂直磁気特性
（甲南大理工）○新開寛之，赤松謙祐，縄舟秀美
11:30 18B-10 交互積層法を利用した半導体ナノ粒子三次元構造体の構築
（甲南大理工）○鶴岡孝章，赤松謙祐，縄舟秀美
11:45 18B-11 有機分子保護金ナノ粒子の合成と基板上への固定化
（甲南大理工，阪市大院工*）○藤本麻美，赤松謙祐，縄舟秀美，片山博之*，小澤文幸*
12:00 （休憩）
13:00 18B-12 樹脂の表面改質を利用するポリイミド樹脂上へのITO系薄膜の作製および光・電気特性 （甲南大理工）○田口秀幸，赤松謙祐，縄舟秀美
13:15 18B-13 銅ナノ粒子を利用した銅めっき皮膜／ポリイミド樹脂の界面ナノスケール接合
（甲南大理工，神戸大工*）○池田慎吾，赤松謙祐，縄舟秀美，出来成人*
13:30 18B-14 電解時に生成する水酸化物微粒子を共析させたニッケル系複合皮膜
（岡山大工）○林 秀考，梅村博和
13:45 18B-15 複合めっき法によるTiO2分散Ni-Mo合金皮膜の作製と評価
（京大院工）○石田雅人，邑瀬邦明，平藤哲司，栗倉泰弘
14:00 18B-16 分散めっき法により作製したAg-TiO2(A)粒子分散膜の光触媒活性
（近能大*，東理大理工）山口文雄*，○藤田知宏，金賀康洋，宇井幸一，井手本 康，小浦
延幸
14:15 （休憩）
14:30 18B-18 パルス電解法によるニッケル電鋳の作製
（極東精機，名市工研*）北野 毅，犬飼英司，○大木 誠，三宅猛司*
14:45 18B-19 銅電鋳を利用した界面強度測定法とその測定例
（三菱重工業，中菱エンジニアリング*，日本原子力研究所**，高エネルギー加速器研究機機構***）○梶間一広，壁谷善三郎，田尻桂介*，金正倫計**，内藤富士雄***，斉藤芳男***
15:00 18B-20 無電解UBM形成におけるめっき表面の平滑化について
（メルテックス）○小山有一，合田達哉，川島 敏
15:15 18B-21 無電解UBM形成におけるNiスパイクの抑制について
（メルテックス，早大ナノテク研*）○小山有一，合田達哉，川島 敏，本間敬之*
15:30 18B-22 金属イオンレドックス系還元剤を用いる中性無電解銅めっき浴の電解再生
（甲南大理工）○森川裕司，赤松謙祐，縄舟秀美
15:45 （休憩）
16:00 18B-24 無電解Ni-Pめっき皮膜とアルミニウム基材との密着性
（岡山工技セ，オーエム産業*，岡山理大工**）○日野 実，村上浩二，平松 実，陳 慧江
*，金谷輝人**
16:15 18B-25 ガラス基板上への無電解めっきの密着性改善
（関東学院大工）○藤波知之，石本健太郎，畠山法明，本間英夫
16:30 18B-26 無電解Ni-Pめっき皮膜析出速度の高速化に関する検討
（宇都宮大院工，桑名商事（株）*）○三柴由江，坂井勇磨，吉原佐知雄，白樫高史，鈴木亜矢*，桑名 朗*
Ｃ会場
9:15 18C-1 ガスフロースパッタリングによる高活性光触媒皮膜の作製に関する研究 （宇都宮大院工、宇都宮大工*）○安在直人、久保田賢治、鈴木大祐、由利 聖*、吉原佐知雄、白樺高史、黒川和成、石井 清*
9:30 18C-2 酸化チタン／酸化亜鉛ハイブリッド型光触媒被膜の作製 （宇都宮大院工、宇都宮大工*）○鈴木大祐、久保田賢治、黒川和成、吉原佐知雄、白樺高史、石井 清*
9:45 18C-3 反応性ＤＣスパッタ法で作製した酸化チタン膜の表面形態と光触媒活性 （(株)安川電機）○小熊清典、成田秀夫、大田暢彦
10:00 18C-4 酸化チタン薄膜の光誘起構能 （九大院）○趙 秀夫、有田 誠、増田正孝
10:15 （休憩）
10:30 18C-6 乾式流動研磨に及ぼすメディア運動速度の影響 （上村工業中研）○有田 了、福井洋一、土家和代、鈴木祥一郎
10:45 18C-7 銅表面のChemical Mechanical
Polishingにおける電気化学特性 （上村工業中研）有田 了、福井洋一、土家和代、○鈴木祥一郎
11:00 18C-8 形状記憶NiTi合金の電解研磨条件の検討 （北大院工、Max-Planck鉄鋼研*）○伏見公志、A.
W. Hassel*, M. Stratmann
11:15 18C-9 種々の微生物のゼータ電位が炭素繊維電極への集菌に及ぼす影響 （三洋電機(株)エコ・エネシステム技術開発センターＢＵ、埼玉県産業技術総合センター*）○近藤康人、栗原英紀*、山田 淳、高岡大造、滝沢貴久男、安田昌司
11:30 18C-10 酸化銅をカソードとした硝酸性窒素の電解除去 （三洋電機(株)エコ・エネシステム技術開発センターＢＵ）○金井 大、山本哲也、黒川喜寛、山田 淳、高岡大造、滝沢貴久男、安田昌司
11:45 18C-11 アンモニアの酸化分解 （日本パーカライジング(株)
総合技術研究所）○小嶋隆司
12:00 （休憩）
13:00 18C-12 有機単分子終端化シリコンの作製と電気化学的特性 （名大院工、名大理工総研*）○前田憲哉、齋藤永宏、杉村博之、高井 治*
13:15 18C-13 FBIにより作製したサブミクロン凹凸表面上の微小水滴の観察 （名大院工、名大環境量子*、名大理工総研**）○河野正雄、呉 雲影**、井上泰志*、杉村博之、高井 治**
13:30 18C-14 シアフォース電気化学顕微鏡を利用したプロテインチップの高解像イメージング （東北大院環境・院工、阪大院工*）○真瀬佳朗、平野 悠、小谷松大祐*、安川智之、珠玖
仁、末永智一
13:45 18C-15 誘電泳動を利用した微粒子規制構造の作製および生体機能性分子パターニングへの応用 （東北大院環境・院工）○鈴木雅登、尾形幸子、沢屋敷吉弘、安川智之、珠玖 仁、末永智一
14:00 18C-16 スラブ光導波路分光法を用いた時間分解吸収スペクトルのその場測定 （産総研）○松田直樹、ホセサントス、吉田貴充、祁 志美、高津章子、加藤健次
14:15 （休憩）
14:30 18C-18 金単結晶上におけるトリアジンチオール誘導体の吸着挙動 （神奈川大院工、産総研*）○金子信悟、澤口隆博*、鹿倉健太、亀山 敦、小早川紘一、佐藤祐一
14:45 18C-19 2-アミノ-6-プリンチオール単分子層の吸着構造解析及び機能評価 （産総研
生物機能工学）○澤口隆博、佐藤 縁、水谷文雄
15:00 18C-20 銅の磁気電析における析出形態と結晶構造の検討 （埼玉県産総セ*、学振科技特研**、能開大***）○森本良一*、走出 真*、永井 寛*、杉山敦史*,**、青柿良一*,***
15:15 18C-21 アルゴンプラズマ処理した銅の光電子放出現象 （茨城大工）津福安希人、○鵜沢勅郎、百瀬義広、竹内 学
15:30 18C-22 126nm真空紫外光照射によるアクリル基板の表面特性変化 （産総研）○穂積 篤、白幡直人、横川善之、亀山哲也
15:45 （休憩）
16:00 18C-24 サブミクロン微細構造の転写：超はっ水性ポリマー材料への応用 （名大理工総研、科学技術交流財団*、名大工**、名大環境量子***）○呉 雲影*、古野博文**、杉村博之**、井上泰志***、高井 治
16:15 18C-25 メタノール用活性炭の表面修飾法の開発 （埼玉大工）杉山和夫、○真壁雄一、夏坂英樹、小沼直樹、黒川秀樹、三浦 弘
16:30 18C-26 モレキュラープローブ法を用いた炭素系吸着剤のナノ孔の解析 （埼玉大工）杉山和夫、真壁雄一、○夏坂英樹、小沼直樹、黒川秀樹、三浦 弘
16:45 18C-27 鋳物廃砂を利用したゼオライトの合成とその表面特性 （埼玉大工、永井機械鋳造*、ニチモウ**）杉山和夫、○松岡達也、羽田 智、黒川秀樹、三浦 弘、吉野敦郎*、久保田昇利**
Ｄ会場
9:15 18D-1 直流放電プラズマCVD法による円筒内面へのDLC-Si膜の形式
（豊田中央研究所,日本電子工業*）○中西和之, 森広行, 太刀川英男, 伊藤恭二*, 藤岡幹雄*, 舟木義行*
9:30 18D-2 DLC-Si膜の摩擦摩耗特性に及ぼすSi量の影響
（豊田中央研究所）○森広行, 中西和之, 太刀川英男
9:45 18D-3 RFプラズマCVD法により合成したDLC膜の疲労特性評価
（日本工業大学）○丹治明, 竹内貞雄, 松野健一, 村川正夫
10:00 18D-4 マグネシウム合金のトライポロジー特性向上に関する研究 －ケイ素含有炭素薄膜を中間層とするDLC薄膜コーティングー （栃木県産業技術センター,群馬大工*,東工大応セラ研**）○山田秀雄, 平出孝夫, 竹澤信隆, 小野章夫, 伏木徹, 黒田真一*, 吉本譲**
10:15 18D-5 半導体レーザクラッディング法によるTiO2-ZrO2の硬質膜の形式
（近畿大理工,阪大接合科学研*）○森本純司, 小野田哲也, 伊藤亨, 阿部信行*
10:30 （休憩）
10:45 18D-7 熱吸収性に優れる表面処理鋼板
（新日鐵,鉄鋼研*,君津**）○植田浩平*, 金井洋*, 高橋武寛*, 井上郁也**
11:00 18D-8 容射皮膜の新用途の検討
（芝浦工大材料,東京メタリコン（株）*）○井上輝仁, 佐藤敏彦, 関雅雄*, 石川量大*）
11:15 18D-9 溶射を利用した自動車フロトガラスのリサイクルに関する研究
（阪産大工,第１MPT*）○馬込正勝, 中島武彦, ?東春*, 朴賛植*
11:30 18D-10 溶射皮膜の生体組織反応に関する研究
（阪産大工）○筒井良樹, 馬込正勝
11:45 18D-11 GS-HVOF溶射による耐食合金皮膜形式におけるシュラウドガス種の影響
（NIMS）○川喜多仁, 黒田聖治
12:00 （休憩）
13:00 18D-12 高分子粉体のプラズマ表面処理（Ⅱ）
（茨城大工）○桜井宣文, 竹内学
13:15 18D-13 アミドイミド系高分子膜の大気圧プラズマによる分解
（埼玉大工）○杉山和夫, 青木洋介, 桑島秀介, 黒川秀樹, 三浦弘
13:30 18D-14 気相反応を用いるフッ素系有機単分子膜の生成
（クリスタル光学,（財）応用科学研究所*）○桐野宙治, 鄭容宝*
13:45 （休憩）
14:00 18D-依頼講演⑧ KMFによる低合金鋼の大気腐食のその場観察
（物質・材料研究機構）○升田博之
14:45 18D-19 表面pH分布測定によるステンレス鋼の局部腐食解析
（物質・材料研究機構）○野田和彦, 相良雅之, 小野孝也, 片山英樹, 升田博之
15:00 18D-20 鉄鋼材料の初期腐食過程における結露の影響
（物質・材料研究機構）○片山英樹，野田和彦，小野孝也，升田博之
15:15 18D-21 亜鉛めっきおよび合金めっき鋼板の大気腐食性評価
（物質・材料研究機構）○野田和彦, 片山英樹，小野孝也，加治木俊行，升田博之
15:30 18D-22 亜鉛めっき鋼板上に生成する腐食生成物の物性評価
（物質・材料研究機構）○小野孝也，野田和彦，片山英樹，加治木俊行，升田博之
15:45 （休憩）
16:00 18D-24 Cu単結晶電極上におけるBTAの吸着構造と電気化学的特性
（東北大院工*科技団CREST**）○犬飼潤治*，杉政昌俊*，板谷謹悟*,**
16:15 18D-25 ガルバニック腐食の電気化学インピーダンスとその電流線分布
（東京理科大学理工）○板垣昌幸，田島聡子，渡辺邦洋
16:30 18D-26 模擬酸性雨中におけるSn-Pbハンダ合金の耐食性
（芝浦工大大学院,芝浦工大*）○小松隆志，大伏亮*，今井八郎*
16:45 18D-27 コーティング処理したパイプライン用鋼材の腐食挙動
（芝浦工大大学院,芝浦工大*）○依田豊人, 田辺信行*, 今井八郎*
17:00 18D-28 屋外用エポキシ系絶緑材料の滴定法による劣化解析に関する研究
（宇都宮大院工）○江口博章, 吉原佐知雄, 白樫高史
17:15 18D-29 住宅建材のリニューアルに対応したビスの開発
（ムロ・コーポレーション,神山鉄工所*,加藤建材**,日本プレーテック***）藤田英貴, 朱山祝浩*, 阿久津和隆**,