○印講演者
平成13年
（注：（技）は技術講演を示す。）
3月14日（水）
A 会 場
シンポジウム/LST銅微細配線の課題（その2）
14A-2 欠陥生成を取り入れた薄膜成長のモンテカルロシミュレーションU（京大情報，金沢大理*,
上村工業中研**）○金子 豊，樋渡保秋*，小原勝彦**，村上 透**
14A-3 めっき厚さシミュレーションソフトの開発とその評価（武蔵工大院，武蔵工大*）○北村 茂，星野重夫*，眞保良吉*
14A-4 微小領域における無電解二ッケルめっき（関東学院大工，関東学院大院*，KAST**，東工大総理工***）○阿部 治，石川 薫*，三浦修平*，物部秀二**，大津元一***，本間英夫
14A-依頼講演@ LSI銅配線とウエットプロセス（三菱電機）大崎明彦
14A-9 中性無電解銅めっきにおける添加剤のフィリング効果（甲南大理，松下テクノリサーチ*）○小畑雄一郎，縄舟秀美,水本省三，村上義樹*
14A-10 添加剤の予備吸着を利用する電気銅めっきのフィリング機構（甲南大理，石原薬品*）○粟野まいこ，縄舟秀美，水本省三,内田 衛*，岡田 隆*
平成13年度論文賞受賞記念講演会
多層膜干渉を利用したアルミニウム陽極酸化皮膜の発色機構（日本軽金属）○塚本由美子，海老原健
電解コンデンサ用アルミニウム箔の直流エッチング挙動に及ぼす結晶性酸化物の影響（住友軽金属）○大澤伸夫，福岡 潔
於：学友会館ホール
シンポジウム/LSI銅微細配線の課題（その2）
14A-依頼講演A LSI銅微細配線とドライプロセス
14A-23 アルマイト電極の耐プラズマ性（千葉工大，九州三井アルミ*）○坂本幸弘，高谷松文，蓮尾俊治*，権田峰夫*
14A-依頼講演B Cu配線とCMPによるプラナリゼーション（東芝）木下正治
14A-28 Immersion Plating of Copper Using（CF3SO3)2Cu
onto Porous Silicon from Organic Solutions（Inst．of
Advanced Energy，Kyoto Univ．）○F．A．Harraz，T．Sakka，Y．H．Ogata
14A-29 Si（100）表面上への無電解Ni析出に及ぼす浴条件の影響（早大理工・材研）○丹羽大介，高野奈央，山田太郎，逢板哲彌
14A-30 ヨウ化水素ガスのエッチング特性（三井化学）○貞本 満，柳川紀行，笹子春男
B 会 場
一般講演
14B-1 炭素繊維電極を用いた電気化学的手法による水溶液中の微生物除去特性（三洋電機）○近藤康人，阿萬 誉，志水康彦，井関正博，滝沢貴久男，須斎 嵩
14B-2 In Situ STMによるチオール混合自己組織化単分子層の表面構造解析（生命工研）○澤口隆博，佐藤 縁，水谷文雄
14B-3(技） 鉛含有銅合金中の鉛除去方法の検討（愛知工技セ）○吉野順子，野口裕臣
14B-4 NiTi形状記憶合金電解エッチング：電解液の基礎的な検討（山形工技セ）○峯田 貴，三井俊明，渡部善幸，小林誠也
14B-5(技）KOH水溶液による等方性エッチングー電圧印加効果一（デンソー，豊田中研*）○山下秀一，田中 浩，阿部吉次，米山孝夫，井上和之*
14B-6 酸化チタン光触媒を用いたFe−Cr合金めっきの光カソード防食の検討（宇都宮大工，宇都宮大院工*，日本プレーテック**）○大和弘之，飯村修志*，吉原佐知雄*，白樫高史*，及川 渉**，工藤南海夫**
14B-7 鉄鋼材料の大気腐食におけるQCMの適用（金材技研）○野田和彦，片山英樹，山本正弘，小玉俊明
14B-8 鉄鋼材料の大気腐食環境下における膜電位測定（金材技研）○野田和彦，西村俊弥，升田博之，小玉俊明
14B-9 高濃度臭化リチウム水溶液中における炭素鋼の分極挙動（第2報）（芝浦工大工，三洋電機*，三洋電機空調**）○町田大輔，今井八郎，米崎孝広*，滝沢貴久男*，須斎 嵩*，伊豆正弥**
14B-10 アルカリ水溶液電解における水素発生と金属カソード表面状態との関連（茨城大工）○高橋一博，江口美佳，百瀬義広
14B-20 自動車外板用溶融亜鉛めっき鋼板の表面性状改質技術（POSCO技研）全 選鎬
14B-21 2種類のコンクリート溶液中における溶融亜鉛めっき材料の腐食挙動（三重工研，鈴鹿高専*，名大**）○村上和美，兼松秀行*，市野良一**，沖 猛雄**
14B-22(技) Mg含有リン酸塩皮膜付与による耐食性向上効果一無機複合めっき鋼板の開発U一（新日鐵広畑技研，新日鐵鉄鋼研*，マツダ**）○石塚清和，林 公隆，新頭英俊，西村一実．黒崎将夫*，中務幹郎**，大迫修二**
14B-23 ステンレス粉末を用いた金属拡散被覆法による自動車鋼板の耐食性（日本工大）田辺 潤
14B-25(技) 電着塗装の膜厚分布シミュレーション2（上村工業，三菱自工*）○小原勝彦，和田 崇*
14B-26(技) 塗装Zn‐11％A1‐3％Mgめっき鋼板の耐食性（新日鐵鉄鋼研，新日鐵君津技研*）本田和彦，木全芳夫，湯淺健正，○野村広正，田中 曉*
14B-27(技）電解研磨によるステンレス鋼表面へのクロムリッチ層の形成（三和産業，山口産技セ*）○宮脇 晃，原 和信，村中武彦*,山田隆裕*
14B-28(技) 希土類磁石用低磁力劣化めっき技術（日立金属磁材研，日立金属熊谷工場*）○安藤節夫，遠藤
実，中村 勉*，福士 徹*
14B-29 セメンタイト単相膜の自然酸化と耐食性の評価（東理大基礎工，川鉄技研*）○永峰佳紀，湯本久美，下斗米
道夫*
C会場
ポスターセッション概要発表（25件）
PC-1 アルマイトQ＆Aのホームページに寄せられた質問（芝浦工大工）○横地言香，今井理裕，佐藤敏彦
PC-2 アルミニウム陽極酸化浴の振動撹拌による浴電圧の変化（芝浦工大工）○福地伸介，今井理裕，佐藤敏彦
PC-3 アルミニウムのD．C．エッチングによるエッチング形態の解析（5）（東理大理工，日本ケミコン*）○猿渡秀郷，北原しのぶ，松本 太，井手本康，牧野 猛*，古川雅一*，内 秀則*，小浦延辛
PC-4 泳動電着法を用いたバインダーフリー炭素材料膜の作製（2）（東理大理工，シャープ*）○對木洋文，寺倉典宏，松本 太，井手本康，小浦延幸，宇井幸一*，山田和夫*，見立武仁*
PC-5 パルス電解法により作製したイリジウム酸化物被覆電極の電気化学的特性（神奈川大工，田中貴金属*）○永山悦子．堀内初巳，小早川紘一，佐藤祐一，西尾一郎*，牛久栄作*
PC-6 水酸化ニッケルを電解析出させた発泡金属多孔体の電極特性U−コバルト添加の影響−（関東学院大院，関東学院大工*）○松井伸夫，若杉憲治*，佐々木康*，山下嗣人*
PC-7 常圧非平衡プラズマを用いた有機皮膜の除去（埼玉大工）杉山和夫，○中村裕介，堀井真吾，黒川秀樹，三浦 弘
PC-8 マイクロ波プラズマCVDにより作製した窒素含有炭素の分光学的評価（千葉工大，千葉工大院*，吉林大**）○坂本直紀，千葉善直*，渡辺芳則*，坂本幸弘，高谷松文，鄭 佛涛**
PC-9 アークイオンプレーティング法により金属ターゲットを用いて作製した3元系窒化膜（慶大理工）○木村綾子，長谷川裕之，河手昌大，鈴木哲也
PC-10 アルカリ系水溶液中でのAuアノード溶出に及ぼす液中イオンの効果（名大院工，名大理工総研*）○清水 準，不破守康，市野良一，興戸正純*
PC-11 ガス燃焼排気凝縮水でのリン脱酸銅の腐食表面形状の変化（芝浦工大工，日本ガス機器検査協*）○土屋 亮，古賀
仁*，小俣靖久，今井八郎
PC-12 亜鉛めっき鋼板の耐食性に及ぼす水性塗料中成分の効果（名大工，名大院工*，名大理工総研**，日板研***）○岩田孝和，市野良一*，興戸正純**，金川泰之***，市川好男***
PC-13 測定したインピーダンスが歪む3つの理由（東理大理工）○田谷彰大，板垣昌幸，渡辺邦洋
PC-14 チャンネルフロー電極（CFDE）を用いた銅の析出反応の解析（東理大理工）○四反田功，板垣昌幸，渡辺邦洋
PC-15 微細構造化自己組織化単分子膜表面の濡れ性評価（名大院，名工研*）○白山晴之，吉村康宏，杉村博之，高井
治，穂積 篤*，横川善之*，亀山哲也*
PC-16 有横シラン系自己組織化単分子膜の表面摩擦に対する温度依存性（名大院工）○林 和幸，杉村博之，高井 治
PC-17 ニッケルめっきの均一性に対する添加剤および電流波形の影響（神奈川大工，ディスコ*）○佐藤康之，小早川紘一，佐藤祐一，岸本圭介*
PC-18 溶融塩中からのZn−Teの還元挙動（名大院工，名大理工総研*) ○坂元隆宏，黒田健介*，市野良一，興戸正純*
PC-19 無電解めっき法における触媒活性化プロセス（VU）−アクセラレーティング処理とインダクションタイムー（姫路工大工，兵庫工技セ*）○岡本尚樹，内野智朗，山岸憲史*，八重真治，松田 均
PC-20 単結晶シリコン上への白金の無電解析出（姫路工大工）○萩原泰三，川本行則，八重真治，松田 均
PC-21 Ni-P皮膜の作製におよぼすニッケル塩アニオンの影響（関東学院大工）○伊藤麻希，佐々木康，山下嗣人
PC-22 無電解ニッケル合金めっきによるULSI銅配線上へのキャップメタルの形成（関東学院大院，関東学院大工*）○高田祐一，石川 薫，三浦修平，本間英夫*
PC-23 Fe（U）イオンを還元剤とする無電解銅めっき（神奈川大工）○曽根倫成，小早川紘一，佐藤祐一
PC-24 無電解めっき法によるNiFeB軟磁性多層膜の作製（早大理工・材研，日立*）○横島時彦．佐藤直昭，逢坂哲彌，西田哲也*，森尻 誠*
PC-25 UV照射下の電位変化による次亜リン酸イオンの定量（関東学院大院，関東学院大工*）○西脇泰二，勝呂貫之*，本間英夫*
一般講演
14C-20 HVOF溶射により成膜したニッケル基合金Hastelloy
Cの腐食挙動（金材技研）○川喜多仁，福島 孟，黒田聖治，小玉俊明
14C-21 単一蒸発容器を用いたMOCVD法による（Ni，Zn，Cu）Fe204薄膜の作製とその磁気特性（東理大理エ）○山本憲治，藤井 孝，伊藤 滋
14C-22 プラズマCVDと酸素プラズマ処理を併用したプロセスによる超はっ水性皮膜の作製および評価（科学技術交流財，名大院工*）○呉 雲影，黒田昌宏*，井
上秦志*，杉村博之*，高井 治*
14C-23 常圧非平衡プラズマによる金属表面のフッ化処理（埼玉大工）杉山和夫，○堀井真吾，中村裕介，熊谷 大，黒川秀樹，三浦 弘
14C-24 気流を用いた大気圧プラズマによるポリプロピレンの表面処理における処理効果のバリア層静電容量依存性（金沢エ大AMSR＆DC）○高筒和得，福島和宏，菊地直人,草野英二，南戸秀仁，金原 粲
休 憩
14C-26 硬質材料に対するテフロンのトライボロジー特性に及ぼす雰囲気湿度の影響（岡山工技セ，阪府大工*）○日野 実，平松 実，辻川正人*，川本 信*
14C-27 化学気相反応法によるアミノシラン自己組織化単分子膜の作製；皮膜特性に及ぼす超音波洗浄の効果（名工研，名大工*，名大院工**）○穂積 篤，横川善之，亀山哲也，白山晴之*，林 和幸**．杉村博之**，高井 治**
14C-28 ナノインデンテーション試験における圧子の三次元形状測定とそれに基づく硬さ値とヤング率の評価（日本工大）佐藤茂夫，○中田康博，内藤健一
14C-29 フレームジェット溶射法による光触媒チタニア皮膜の作製（近畿大理工）○森本純司，太田 実，佐々木洋
14C-30 X線回折の2θ-半価幅散布図によるセラミック溶射皮膜の評価（近畿大理工,近畿大院*）○伊藤 亨，溝口浩一郎，肥田
昭
D会場
シンポジウム／ニューダイヤモンド材料の現状と展望
14D-1 金属添加DLC膜のトライボロジー特性（日本工大）○木島 進，斉藤喬士，渡部修一，三宅正二郎
14D-2 各種金属を添加したDLC膜のスクラッチ特性（日本工大）○鈴木健二，斉藤喬士，渡部修一，三宅正二郎
14D-3 イオンビームアシスト蒸着法により形成したDLC膜の機械的特性（日本工大）○斉藤喬士，渡部修一，三宅正二郎
14D-4 マグネトロンプラズマCVDによるDLC膜の生成(1)−高速成膜−（日本真空千葉超材研）○稲川幸之助，銭谷利宏，日比野直樹
14D-5 マグネトロンプラズマCVDによるDLC膜の生成(2)−特性評価−（日本真空千葉超材研）○稲川幸之助，銭谷利宏，日比野直樹
14D-7 イオンプレーティングによる窒化炭素膜の合成（日本工大）○須藤美恵子，有賀文洋，渡部修一，三宅正二郎，村川正夫
14D-8 マイクロ波プラズマCVDによる窒素含有炭素の作製（千葉工大，千葉エ大院*，吉林大**）○坂本幸弘，高谷松文、千葉善直*，渡辺芳則*，坂本直紀，鄭 佛涛**
14D-9 窒化炭素薄膜からの電界電子放出（名大院工）○杉村博之，田本宏樹，高井 治
14D-10 窒化炭素薄膜のナノインデンテーション（名大院工）○高井 治，鎖是宏磯，川口豊太，杉村博之
シンポジウム／ニューダイヤモンド材料の現状と展望
14D-依頼講演C ニューダイヤモンド薄膜の応用展開-ナノ・マイクロトライボロジー分野ヘ-（日本工大）三宅正二郎
14D-23 ICPを用いたPSII法により作製したDLC膜の特性に及ぼす成膜条件の効果（長崎工技セ）馬場恒明，○畑田留理子
14D-24 高周波プラズマCVD法により作製したDLC膜の諸特性（千葉工大，ユーテック*，横浜工技セ**，都城東セ***）井上麻美，寺島慶一，○小林 巧*，早川晴仁*，井出美江子**,前野智和***
14D-26 放電プラズマ焼結（SPS）法によるダイヤモンド/SiCの接合（日本工大．日本工大院*）〇田辺 潤，岸 将*
14D-27 マイクロマシン用部材としての自立DLC膜の合成と加工特性の評価（日本エ大）○竹内貞雄，宮沢 肇，村川正夫
14D-28(技）ハイブリッド型パルス・プラズマ・コーティング（HPPC）システムにより創製したDLC膜の特性（オンワード技研，フジタ技研*，HIAC＊2，石川県工技セ*3，福井県工技セ*4）○長谷川祐史，岡崎健一*，粟津
薫*2.*3，安井治之*3，佐治栄治*4
14D-29(技）DLC成膜時のフラグメントイオンの影響（HIAC，澁谷工業*，金沢工大*2，オンワード技研*3，フジタ技研*4，石川県工技セ*5，福井県工技セ*6）○粟津
薫，池永訓昭*，作道訓之*2，長谷川祐史*3，岡崎健一*4，安井治之*5，佐治栄治*6
14D-30(技）共鳴核反応分析法によるDLC膜の水素量測定（石川工試*，HIAC*2，フジタ技研*3，オンワード技研*4，原研高崎*5）○安井治之*，粟津 薫*,*2，岡崎健一*3，長谷川祐史*4，楢本 洋＊5
3月15日（木）
A会場
シンポジウム／環境対応技術における表面技術の役割
15A-依頼講演D 電子部品の鉛フリー化の現状
（松下電子部品）潮 憲樹
15A-4(技) 鉛フリーめっきの皮膜特性に及ぼす浴中不純物元素の影響（フジクラ）○市川雅照，鎌田弘之，味村彰治
15A-5 複合めっき法によるSn−Ag合金皮膜のはんだ付け性（阪市工研，関西大工*，阪電通大**）○藤原 裕，榎本英彦,長尾敏光*，星 加洋，八瀬智之**
15A-7 メタンスルホン酸浴からのSn-0.7Cu-0.3Ag三元合金の電析および浴安定性に及ぼすT3HPPの影響（甲南大理，石原薬品*，大和化成**）○芝 一博，縄舟秀美．水本省三，青木和博*，小幡恵吾**
15A-8 スルホコハク酸浴からのスズー亜鉛共晶合金の電析および皮膜特性（甲南大理，石原薬品*，大和化成**）○中谷敏雄，縄舟秀美,水本省三，青木和博*，小幡恵吾**
15A-9 鉛フリーはんだ用Sn-Ag-Cu合金めっき（熊本防錆，熊本大工*）○福田光修，今吉孝平*，松本泰道*
15A-10(技) Pbフリー高速Sn-Cu合金めっき技術（上村工業中研）○辻本雅宣，梁田 勇，岡田哲朗，村上
透
｢第2回優秀講演賞｣及び｢第7国学術奨励講演賞｣授与式
会長あいさつ （司会 実行委員長 三宅正二郎）
特別講演・第54回武井記念講演会｢なぜ青銅器なのか｣（東大名誉教授）白石 振作
於：学友会館ホール
シンポジウム／環境対応技術における表面技術の役割
15A-依頼講演E 6価クロムフリー防錆技術（日本パーカ）○軽部健志，迫 良輔
15A-25(技) クロメートフリー亜鉛めっき鋼板の開発（新日鐵広畑技研，新日鐵鉄鋼研*，新日鐵君津技研*2，新日鐵名古屋技研*3，新日鐵八幡技研*4）○石塚清和，金井
洋*，宮内優二郎*2，仲澤真人*3，伊崎輝明*4
15A-26 鉄酸化菌環境中における溶融亜鉛めっき鋼板の耐食性（鈴鹿高専，名大工*）生貝 初，○兼松秀行，沖 猛雄*
15A-依頼講演F 塗装銅板の劣化評価法（金材技研）片山英樹
15A-30(技) 環境調和型プレコート鋼板の耐食性（新日鐵鉄鋼研，新日鐵君津技研*）○植田浩平，金井 洋，野村広正，古川博康*
B会場
一般講演
15B-1 常温型溶融塩浴からのAl配向電析に関する研究（3）（東理大理工）○田代洋介，松本 太，井手本康，小浦延幸
15B-2 EMIC系常温型溶融塩浴からのNb-Sn合金の電析及び電析浴の解析（東理大理工，千葉工大*）○芝野憲司，松澤秀則*，松本
太，井手本康，小浦延幸
15B-3 アンモニウムイミド系室温溶融塩中での金属イオンの酸化還元挙動（京大院工）○佐藤和之，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
15B-4 室温溶融塩からのAl-Mg合金の誘起共析（九工大工）○盛満正嗣，田中誠忠，松永守央
15B-6 ニッケルめっきの沿面成長を利用した室温接合とその評価（九工大工）○岡本孝三，津留 豊
15B-7 ニッケルめっき膜の残留応力に及ぼす2-プチン-1，4-ジオールおよび共析水素の影響（九工大工）○河原伸也，津留 豊
15B-8(技) クラックフリーCr電析における結晶面制御の研究 第1報（創輝，都立大院工*）○土屋五十洋，大田桂子，佐倉康男，渡辺 徹*
15B-9 高磁場下での銅の電気めっきにおける表面形態変化（埼玉工技セ．科技団埼玉研*）○森本良一，走出 真，永井
寛，青柿良一*
15B-10 カーボン繊維摺動電析の加工精度と皮膜特性（武蔵工大院，武蔵工大*）○薗田昌幸，星野重夫*，眞保良吉*
15B-22 電析によるZn-Ni-B系めっき膜の作製とその評価（名大院工，名大理工総研*）○中島寿信，市野良一，興戸正純*
15B-23 二浴法によるSn/Ni多層膜の作製（名市工研，岐阜大*）○三宅猛司，久米道之．伊東祥子*，箕浦秀樹*
15B-24 低熱膨張Ni-Fe合金めっき皮膜の熱膨張係数に及ぼす熱処理温度の影響（京都市工試）○永山富男，水谷 泰，中村俊博，篠原長政
15B-25 Ni-W-P合金めっきの耐食性（阪府産技研）○中出卓男，森河 務，左藤眞市，横井昌幸
15B-27 アンモニアーアルカリ浴からの光アシストCdTe電析における電解電位の影響（京大院工）松井雅樹，邑瀬邦明，○平藤哲司，粟倉泰弘
15B-28 アンモニアーアルカリ浴からのCdTe電析におよぼすアニオンの効果（京大院工）○三宅正男，邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
15B-29 Zn−Te系の電析法による半導体薄膜の作製（早大理工）○石崎貴裕，不破章雄
15B-30 電析法によるNi及びCu添加ZnO薄膜の作製（東理大基礎工）○近江篤史，久保田理央，湯本久美
C会場
一般講演
15C-1 アノード電解法による亜鉛めっき上への高耐食性酸化皮膜作製に関する研究（名市エ研，BAM*）○松本宏紀，矢嶋恭子，久米道之，W．Paatsch*）
15C-2 モリブデン酸溶液からの皮膜生成反応について（住友特殊金属，龍谷大理工*）○菊川 篤，菊井文秋，竹内麻弥*，藤原 学*
15C-3 非水溶液中で形成した陽極酸化皮膜の電子特性（Z）（三菱化学筑波研，CACs筑波セ*）○水谷文一，鷹羽 寛，宇恵 誠，杉山 淑*，吉田陽一郎*，佐藤成昭*
15C-4 K3FeCN6を含む酸性クロメート浴中で生成した化成皮膜の特異構造（Palermo
Univ．，慶大経*）M．Santamaria，F．Di．Quarto，○清水健一
15C-6（技） マグネシウム合金上へのノンクロメート化成処理（三井金属総研）○百武正浩，松嶋英明，附田竜馬，半澤規子，鈴木光夫，土橋 誠，笠原暢順
15C-7 マグネシウム成形品表面処理前表層のGD−OESによる解析（広島国際学院大工，日本製鋼所*，横浜市技セ**）松板菊生，遠藤敏郎，○荒木克之*，中津川勲*，斉藤 研*，志田あづさ**
15C-8 クロムフリー浴を用いたマグネシウム合金陽極酸化皮膜の作製とその評価（九州ノゲデン，熊本大工*) ○福田晴人，峯田一隆*，松本泰道*
15C-9 ゾル−ゲル法を用いたマグネシウム合金の表面改質（都産技研）○水元和成，土井 正，茅島正資
15C-10 蒸着Alのアノード酸化/ゾル−ゲル法によるガラス基板上へのTiO2ナノ構造体の作製（無機材研）○楮 松竹，和田健二，井上 悟，轟 眞市
15C-22 Scanning Laser Microscopy of Al 5052
Alloy Anodized in Sulfuric Acid（Hokkaido
Univ.)○S.-M. Moon，M. Sakairi, H. Takahashi
15C-23 リン酸水溶液中におけるAl陽極酸化時のAFM観察（名大院工，名大理工総研*）○近藤俊介，市野良一，興戸正純*
15C-24 アノード酸化とレーザー照射によるアルミニウム表面の微細加工−微細パターン形成における酸化皮膜の厚さの影響−（北大院工，道工試*）○菊地竜也，坂入正敏，高橋英明，阿部芳彦*，片山直樹*
15C-25 アルミニウムアノード酸化皮膜の孔径評価（千葉工大）○小野幸子，永岡陽太，増子 昇
15C-27 アルミニウム陽極酸化皮膜を用いたミクロフィルターの気体流動特性（武蔵工大院，武蔵工大*）○堺谷竜男，星野重夫*
15C-28 バリヤー型Alアノード酸化皮膜内における酸素ガス発生と不純物金属イオンとの関連について（慶大経，北大院工*）○清水健一，幅崎浩樹*
15C-29 アルミニウム陽極酸化皮膜と含OH有機化合物との反応およびその表面特性（富山工技セ，東工大院理工*，名城大理工**）○石黒智明，鈴村燒男*，小川宏隆**
15C-30（技）アルミニウム素材の乾式流動研磨（上村工業中研）○有田 了，福井洋一，土屋和代，鈴木祥一郎
D会場
シンポジウム／ニューダイヤモンド材料の現状と展望
15D-1（技） 熱フィラメントCVD法による平板状ダイヤモンド合成の試み（日本工大，東海大工*）三橋和広，柳田 浩，川田圭輔，○石川 豊，広瀬洋一*
15D-2 窒素濃度と結晶方位の異なる単結晶ダイヤモンドのCLスペクトル（日本工大）○竹内貞雄，村川正夫
15D-3 CVDダイヤモンドの電界電子放出特性−反応ガスの影響−（千葉工大院，千葉工大*）渡邊芳則，坂本幸弘*，高谷松文*
15D-4 CVDで作製した炭素系膜のラマン分光法による評価U（千葉工大院，千葉工大*）○貝沼数敏，坂本幸弘*，高谷松文*
15D-5 燃焼炎法によるダイヤモンド合成時の発光スペクトル（千葉工大院，千葉工大*）○千葉善直，貝沼数敏，坂本幸弘*，高谷松文*
15D-7 マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜合成における磁界の影響（茨城大院，茨城大工*，秋田県立大**）○大沼一平，鬼沢高志，浦尾亮一*，長南安紀*
15D−依頼講演G 気相合成ダイヤモンドの最近の研究動向（無機材研）佐藤洋一郎
シンポジウム／ニューダイヤモンド材料の現状と展望
15D−依頼講演H ダイヤモンド（001）面のホモエピタキシャル成長と表面化学構造（無機材研）安藤寿浩
15D-25 原子間力顕微鎮によるボロンドープCVDホモエピタキシャルダイヤモンド（001）表面のモルフォロジー観察（CREST*，筑波大*2，茨城大*3，無機材研*4）○荻原裕介*,*2，Khoo
Khyou Pin*,*3，浦尾亮一*3，蒲生西谷美香*,*2，安藤寿浩*,*4
15D-27 Ar/H2/CH4マイクロ波プラズマを利用したシリコン基板上へのダイヤモンドの合成（JFCC，物質研*）○Sung-Pill
Hong，古川博道，和住光一郎，Cedric Morel，古賀義紀*
15D−依頼講演I FTCプロジェクトの現状と将来展望（物質研）古賀義紀
懇親会 於：学内・第1食堂
3月16日（金）
A会場
シンポジウム／環境対応技術における表面技術の役割
16A-1 メタン・水素ガス プラズマ処理したチタニア膜の光触媒特性（埼玉大工，埼玉工大工*）杉山和夫，○村田修一，小川剛主，矢嶋龍彦*
16A-2 ゾル-ゲル電気泳動電着法により作製した不純物添加酸化TiO2皮膜の光触煤機能性の検討（宇都宮大工，宇都宮大院工*）○黒崎崇敏，飯付修志*，中川 玲*，吉原佐知雄*，白樫高史*
16A-3 酸化チタン光触媒反応における銅イオンの吸脱着（福島ハイテクプラザ）○大掘俊一，大河原薫，谷崎明子
16A-4(技) 塩銅法銅エッチング廃液の処理（日本ケミテック，環境技術開発研*）○石橋賢太郎，内藤
大，三上八州家*
16A-5 表面処理へのヨウ素化合物の応用と廃水の現況（千葉工大）○高谷松文，橋本和明，戸田善朝，前嶋正受
16A-依頼講演J新型二次電池における表面技術の役割（大工研）境 哲男
16A-10 水酸化ニッケル活物質の電析に及ぼす発泡基板多孔度の影響（関東学院大工）○佐々木康，山下嗣人
平成13年度技術賞受賞書記念講演会
高圧ガソリンポンプ用Ni-P/PTFE複合めっきの開発・実用化（トヨタ，デンソー*，上村工業**）○中田博道，仁藤丈裕，中村昌博，荒川幸一，大林伸吉*，千葉 格**
高光沢で耐傷付き性に優れた意匠性プレコート鋼板の開発（新日鐵君津技研，鉄鋼研*，君津製鐵所**）○木全芳夫，金井 洋*，野村広正*，稲田賢治**，西岡良二**，長瀬孫則**
薄膜磁気ヘッドめっき技術の開発（TDK）小柳 勤，中川善朗，木村富士巳，上島聡史，井上 聡，○篠浦 治
於：学友会館ホール
シンポジウム／環境対応技術における表面技術の役割
16A-22 Ni-MH電池用Zr系ラーベス相合金表面活性相のキャラクタリゼーション（都立大院工，都立大工*）釜崎清治，○泉 周平*，柴田正義*，見崎吉成
16A-23 Ni-MH電池用合金表面活性相へのCr添加効果（都立大院工）釜崎清治，○山本 哲，木原 勝
16A-24 Mg2Ni-MgNi3C複合体の電気化学特性（都立大院工，都立大工*）○武内朋哉，森 智志*，釜崎清治
16A-26 キャパシタ電極材料としてのルテニウム酸化物担持活性炭（神奈川大工，日産自動車*）○七海 毅，蓬田浩一，小早川紘一，佐藤祐一，大澤康彦*
16A-27 スズめっき皮膜のリチウム充放電特性に及ぼす電解液の影響（兵庫工技セ，大工研*）○園田 司，藤技卓也*，境 哲男*
16A-28 Li-Al合金/マンガン酸リチウム二次電池のサイクル特性（神奈川産総研，東京工芸大工*，東邦チタニウム**）○馬飼野信一，曽我雅康，祖父江和治，添田竜次*，池上雅史*，笠原 剛*，佐々木幸夫*，西村栄二**，新井良幸**，山脇徹也**
B会場
一般講演
16B-1 無電解めっきにおけるパラジウム触媒に代わる活性化法の開発（九工大工，名市工研*，石川金属工業**）○津留 豊，小田島梨恵，久米道之*，大八木八七**
16B-2 無電解めっきの初期析出形態に及ぼす活性化前処理の影響（兵庫工技セ．姫路工大工*）○山岸憲史，西羅正芳，八重真治*，松田 均*
16B-3 水晶振動子法による無電解Niめっき初期析出プロセスの解析〜触媒化プロセスの影響〜（長岡技科大分析セ）○米川武秀，松原 浩，西山 洋，斉藤信雄，井上泰宣
16B-4 分子軌道法による次亜リン酸酸化反応に対する金属表面依存の検討（早大理工）小松 功，○玉木亜弥子，中井浩巳，本間敬之，逢坂哲彌
16B-6 各種ノーシアン置換金めっき浴と下地ニッケルの相関性について（関東学院大工，関東学院大院*）○小岩賢太郎，山本誠二*，橋本幸雄*，田代雄彦*，本間英夫
16B-7 各種ノーシアン置換金めっき後のはんだ接合強度について（関東学院大院，関東学院大工*）○田代雄彦，小岩賢太郎*，橋本幸雄，山本誠二，本間英夫*
16B-8 チオ硫酸・亜硫酸塩混合浴による下地触媒型無電解金めっきの特性（早大理工，早大理工総研*，関東化学**，日立電線***）○大谷英勝，佐藤 潤，加藤 勝**，本間敬之，沖中 裕*，吉岡 修***，逢坂哲彌
16B-9 L−システインを錯化剤および還元剤とする無電解金めっき浴の開発（甲南大理，大和化成*）○岩崎保紀，縄舟秀美，水本省三，小幡恵吾*，小橋康人*
16B-10 有機窒素化合物を錯化剤および還元剤とする無電解銀めっき浴の開発−銅素材上への直接無電解銀めっき−（甲南大理，大和化成*）○城口慶子，縄舟秀美，水本省三，小橋康人*，小幡恵吾*
16B-22 無電解めっき法による高BsCoNiFeB軟磁性薄膜作製条件の検討（早大理工・材研，富士通研*）○祖父江匡爵，金子大樹 横島時彦，逢坂哲彌，竹房さなえ*，田中厚志*
16B-23（技） アルミニウム上の無電解ニッケルめっき膜密着性について（奥野製薬）○橋爪 佳，岩崎 誠，大塚邦顕
16B-24 ヒドラジンを還元剤とする無電解Ni光沢めっき（V）−浴組成と結晶構造−（姫路工大，兵庫工技セ*）○中野久継，山岸憲史*，八重真治，松田 均
16B-25 環境汚染軽減を目的とした微量スケールでの無電解めっき（関東学院大院，関東学院大工*）○石川 薫，阿部 治*，三浦修平，本間英夫*
16B-27 ポリイミド樹脂の表面改質および紫外線照射による銅のDirect
Patterning（甲南大理，日本リーロナール*）○池田慎吾，縄舟秀美，水本省三，清田 優*
16B-28 樹脂の表面改質を利用するZnO半導体薄膜の作製（甲南大理，日本リーロナール*）○石川俊輔，縄舟秀美，水本省三，清田 優*
16B-29 ゾル-ゲルシリカガラス中におけるCuの光還元反応（関東学院大工，関東学院大院*）福田成美，○内田佳邦*，松井和則
C会場
一般講演
16C-1 電子ビーム蒸着法によるVーY族化合物半導体GaSe薄膜の成膜と電子物性（東京高専）○伊藤 浩，大山昌憲
16C-2 電子ビーム蒸着法によるYSZ系遮熱コーティング膜の作製（近畿大工，広島西部工技セ*，電力中研**）○下瀬孝也，辻
徹郎，梶岡 秀*，京極秀樹，荒井正行**
16C-3 電子ビームPVD法によるW皮膜の構造と特性（近畿大院，近畿大理工*，阪大接合研**）○松田 亮，森本純司*，伊藤征司郎*，阿部信行*
16C-4 アークイオンプレーティング法による水素分離透過用Nb-Mo膜の作製と評価（東理大基礎工，東理大理工*，東京ガス**）○五木田洋平，佐田和美，湯本久美，明石和夫*，関 務**
16C-5 反応性高周波IPによるGeN膜の形成と評価（U）（東洋大工）○野田直揮，柏木邦宏，小海秀樹
16C-7 アークイオンプレーティング法により作製したTiO2薄膜による光触媒作用によるNO2分解（東理大基礎工）○湯本久美，松戸慎一郎，今村直樹
16C-8(技) PVD法による耐摩耗CrSiN系被膜の作製（イオン工学研）○轟 朝胤，太田安喜俊，安藤彰朗，渡辺久，大谷三郎，岩本信也
16C-9 Cr1-xAIxN薄膜の合成とAlの固溶挙動（慶大理工）○木村綾子，河手昌大，鈴木哲也
16C-10 ダイナミックイオンミキシング法で作製したTiMoN膜の諸特性（工学院大工）○中付 勲，馬田教康，鷹野一朗，沢田芳夫
16C-22 UBMスパッタ法によるW系皮膜の特性（帝国ピストンリング）○川合清行，山下信行
16C-23 アナログ型タッチパネル用SnO2：Ta透明導電性薄膜の作製とその評価（金沢工大AMSR＆DC）岸尾悦郎，菊地直人，○草野英二，南戸秀仁，金原 粲
16C-24 インバータープラズマを用いたイオンアシスト蒸着法（大工研，阪大工*）○木内正人，田中勝敏*，武智誠次*，杉本敏司*，後藤誠一*
16C-25 PSU法によるミリサイズチューブ内壁の表層改質（長崎工技セ）○馬場恒明，畑田留理子
16C-26 ヨウ素含有高分子膜の作製と摩擦特性（千葉工大）○大谷 親，坂本幸弘，高谷松文
16C-27 摩擦によるエキソ電子放出法（FIEE）を用いたFe，Ni，Cu金属表面の酸化膜の評価（茨城大工）○渡邊雅代，岩下昌央，江口美佳，百瀬義広
D会場
一般講演
16D-3 高真空中におけるTi系薄膜の摩擦摩耗特性に関する一考察（工学院大工）○佐々木道子，中村 勲，鷹野一朗，沢田芳夫
16D-4 CrN，TiN膜のヤング率（住友金属鉱山中研）市村博司
16D-5 PTFE/Ti多層薄膜における界面エネルギーの内部応力と硬さへの影響（金沢工大AMSR＆DC）津田和朗，菊地直人，草野英二，南戸秀仁，○金原 粲
16D-6 フラクタル次元によるアモルファス炭化珪素の内部応力解析法（東京高専，都立科技大*）○大山昌憲，伊藤 浩，藤田安彦*
16D-8(技) 窒化処理とTiNコーティングの複合表面改質層の処理温度による耐食性への影響（日立，茨城大工*）○鍵山 新，成澤敏明，山口 静，馬場
昇，寺門一佳，浦尾亮一*
16D-9(技) オーステナイト系ステンレス鋼の窒化と窒化後の加熱変化（住友金属鉱山中研）○五十嵐茂，阿部能之，石井芳朗，市村博司
16D-10 アルミニウム合金のラジカル窒化（千葉工大院，千葉工大*）○田幡和良，坂本幸弘*，高谷松文*