◇第１０１回講演大会(東京理科大学　野田校舎）　講演次第 ○印講演者

3月21日(火)
A会場
10:10　PA-1　a-CNおよびa-C薄膜のナノインデンテ−ション　(名大院工)　○鎖是宏磯,田島信宏,　杉村博之,　高井　治
10:15　PA-2　非晶質炭素膜の高周波スパッタリング形成における添加水素の影響　(慶大理工,　東大生研*)　○阪上昌史,　鈴木哲也,　小林剣二*,　光田好孝*
10:20　PA-3　DLCの光ディスク用保護膜ヘの応用　(日本ビクターメディア事,　技開本*)○下舞賢一,　川崎　実*
10:25　PA-4　面接触型潤滑性光ディスク保護膜の検討　(日本ビクター技開本,　メディア事*)○川崎　実,　下舞賢一*
10:30　PA-5　プラズマCVD法による超はっ水性薄膜の作製と赤外吸収スペクトルのその場測定　(名大院工)　　○岩井　淳,　井上泰志,　杉村博之,　高井　治
10:35　PA-6　エキシマランプを用いたメソポーラスシリカ中の有機物除去効率に及ぼす処理圧力の影響　(名大院工,　名工研*)　○平工勝政,　穂積　篤*,　杉村博之,　高井　治
10:40　PA-7　ポリアクリル酸ナトリウム厚膜の電気特性の湿度依存性　　(茨城大工)　　○渡邊美樹,　熊沢紀之,　竹内　学,　菊間　勲
10:45　PA-8　フタロシアニン薄膜ガスセンサー　(茨城大工)　　○小高健司,　関　政則,　金子冨士男,　竹内　学,　舛井正義
10:50　PA-9　ふん囲気が銅フタロシアニン太陽電池の光起電力特性に及ぼす影響　(茨城大工)　　○亀沢力弥,　舛井正義,　竹内　学
10:55　PA-10　自己組織化単分子膜をマスクに用いた選択めっき　(名大院工)　○判治貴之,　杉村博之,　高井　治

以下，会告A-4に記載


B会場
9:40　PB-1　微小領域における無電解めっき　(関東学院大工,　関東学院大院*)　○石川　　薫,　稲葉裕之*,　小林　健*,　本間英夫
9:45　PB-2　ヒドラジンを還元剤とする無電解ニッケル光沢めっき(�U)―光沢性と結晶構造―　(姫路工大工,　兵庫工技セ*)　○中野久継,　伊藤　潔,　山岸憲史*,　八重真治,　松田　均
9:50　PB-3　銅上への直接無電解ニッケルめっき　(関東学院大院,　関東学院大工*)　　○橋本幸雄,　福原芳晴*,　本間英夫*
9:55　PB-4　無電解めっきの再生と循環　(上村工業中研)　松井冨士夫,　川崎正悟,　○稲川　拡
10:00　PB-5　電気銅めっきを適用したビアフィリングの検討　(関東学院大院,　関東学院大工*)　　○川崎淳一,　三原邦昭,　藤吉健太郎*,小林　健,　本間英夫*
10:05　PB-6　各種銅めっきプロセスによるULSI配線の作製　(関東学院大院,　関東学院大工*)　　○高田祐一,　磯野恵子*,　深井　智*,本間英夫*
10:10　PB-7　銅電析に及ぼす添加剤の影響―表面形態,　配向性,　成長機構についての検討　(東理大理工)　　○江尻芳則,　松本　太,　井手本康,　小浦延幸
10:15　PB-8　電析Cu膜の微細構造　(都立大院工)　○富田真理,　渡辺　徹
10:20　PB-9　1　-　ethyl　-　3　-　methylimidazolium　-　bis　(trifluoromethanesulfone)　imide常温溶融塩中における銀の電析　(慶大理工)　　○　檀　聡美,　片山　靖,　美浦　隆,　岸　富也
10:25　PB-10　電析Ag膜の微細構造　(都立大院工)　○沢登広大,　渡辺　徹
10:30　PB-11　常温型溶融塩浴からのAl配向電析に関する研究　(2)　　(東理大理工)　　○田代洋介,　松本　太,　井手本康,　小浦延幸
10:35　PB-12　電析Ni膜の微細構造に及ぼす光沢材の影響とその電気化学的挙動　　(都立大院工)　○池田孝之,　近沢正敏,　渡辺徹　
10:40　(　休　憩　)　
10:50　PB-14　電析Sn膜の微細構造　(芝浦工大工,　芝浦工大院工*,　都立大院工**)　　○勅使河原智哉,　井上晃一郎*,　中田　毅,　渡辺　徹**
10:55　PB-15　孔食型電極のインピーダンスに対する電流線分布を考慮した解析　(東理大理工)　　○石踊大志,　田谷彰大,　板垣昌幸,　渡辺邦洋
11:00　PB-16　電析による金属多層膜の作製　(神奈川大工,　田中貴金属工業*)　　○工藤幸司,　望月千裕,　山本夕美*,　小早川紘一,　佐藤祐一
11:05　PB-17　ポリイミド樹脂の表面改質を利用するCo系多層膜の作製および磁気特性　(甲南大理,　日本リ−ロナ−ル*)　　○田村　康,　縄船秀美,　水本省三,　日下　　大,　清田　優*
11:10　PB-18　直流およびパルス電解法による非水溶媒からのSm-Co電析　(神奈川大工)　　○森内俊爾,　小早川紘一,　佐藤祐一
11:15　PB-19　EQCM法を用いた合金電析膜の　in-　situ組成解析　(九工大工)　　○軸屋雅之,　盛満正嗣,　松永守央
11:20　PB-20　コンピュータシミュレーションおよびSTMによる亜鉛デンドライト電析初期形態の検討　(東理大理工)　　○伊藤由賀,　松本　太,　井手本康,　小浦延幸
11:25　PB-21　チオフェンとアニリンを含む複成分系電解重合膜の合成とその特性　(東理大理工*,東理大界面科研**)　　○林　慎一,　湯浅　真*,**
11:30　PB-22　軟鋼の腐食に対する高分子間コンプレックスの効果(第3報)：ポリメタクリル酸/ポリエチレングリコール系での検討(東理大理工*,東理大界面科研**)　　○川合あさみ*,　諸岡正浩*,　関根　功*,　湯浅　真*,**
11:35　PB-23　スクラッチング電極法を用いたFe-Cr合金の再不働態化過程の解析　(東理大理工)　　○真下雅行,　板垣昌幸,　渡辺邦洋
11:40　PB-24　IrxTi1-xO2電極上の酸素発生反応速度の組成依存性　(慶大理工)　　○　遠藤一樹,　片山　靖,　美浦　隆,　岸　富也
11:45　PB-25　マグネシウムのアノード電解挙動と酸化皮膜構造　(千葉工大)　　○木島秀夫,　小野幸子,　山下智司,　増子　�f　
11:50　PB-26　泳動電着法を用いたゼオライト膜の作製(2)　(東理大理工)　　○對木洋文,　松本　太,　井手本康,　小浦延幸
11:55　PB-27　鉄表面に形成したアルキンアミン吸着膜の直接観察�U　(慶大理工)　　○赤尾　聡,　川喜多仁,　小林賢三　



3月21日(火)
A会場
ポスターセッション概要発表10件(10:10〜11:00)
10:10〜10:55　PA-1〜PA-10
　　　　プログラム会告A-3に記載
11:00(休憩)
一般講演
11:15　21A-8　アルミニウム表面の局部マイクロエッチング(北大院工，道工試*)○菊地竜也，坂入正敏，高橋英明，阿部芳彦*，片山直樹*
11:30　21A-9　ゾル･ゲル法によるSi酸化物に覆われたアルミニウムのアノード酸化(北大院工，室蘭工大*，東北大金研**)○渡辺恵司，坂入正敏，高橋英明，大久裕樹*，平井伸治*，高広克巳**，永田晋二**
11:45　21A-10　アルミニウムのバリヤー型複合酸化物皮膜の定電位分極時における構造変化(北大院工，日本ケミコン*)○田村義宏，坂入正敏，高橋英明，内　秀則*
12:00　(休憩)
13:00〜14:00　平成12年度論文賞受賞記念講演会
(13:00〜13:30)　表面制御された超はっ水性皮膜のマイクロ波プラズマCVD法による作製(名大院工　(現　名工研)，　名大院工*)○穂積　篤，高井　治*
(13:30〜14:00)　水溶液中のMo錯体構造とMo合金めっき機構(東北大素材研，京大院工*)○篠田弘造，早稲田嘉夫，松原英一郎*，植川英治*，邑瀬邦明*，平藤哲司*，粟倉泰弘*
14:00　(休憩)
14:15　21A-依頼講演�@　Feasibility　Study　to　Probe　Thin　Inorganic　and　Organic　Coatings　on　Aluminum　Substrates　by　Means　of　Visible　and　Infra　Red　Spectroscopic　Ellipsometry　　Vrije　Universiteit　Prof.　H.　Terryn
15:00　21A-23　フッ化物添加脂肪族カルボン酸浴中でのアルミニウムの陽極酸化に及ぼすpH変化の影響(近畿大理工)明星　里，千田洋介，○野口駿雄
15:15　21A-24(技)　ヨウ素化合物含浸アルミ陽極酸化皮膜の化学的，機械的特性(フジクラ，千葉工大*)○前嶋正受，猿渡光一，平田昌範，高谷松文*，橋本和明*
15:30　(休憩)
15:45　21A-26表面処理を施したアルミニウム合金の疲労強度(武蔵工大)○市川英治，眞保良吉，星野重夫
16:00　21A-27　アルミニウムバリヤー型アノード酸化皮膜の厚さとアニオン混入(千葉工大)○小野幸子，米谷秀嗣，山下智司，増子　昇
16:15　21A-28バリヤー型Alアノード酸化皮膜に封入されたバナジン酸アニオンの挙動(慶大経，東北大金研*)○清水健一，幅崎浩樹*
16:30　21A-29　非水溶液中で形成した陽極酸化皮膜の電子特性(�X)(三菱化学筑波研)○水谷文一，杉山　淑，竹内佐千江，佐藤成昭，宇恵　誠
16:45　21A-30　非水溶液中で形成した陽極酸化皮膜の構造解析(三菱化学筑波研)○杉山　淑，　竹内佐千江，佐藤成昭，水谷文一，宇恵　誠


B会場
ポスターセッション概要発表27件(9:40〜12:00)
9:40〜12:00　PB-1〜PB-27
プログラム会告A-3に記載
12:00(休憩)
14:00(休憩)
シンポジウム/環境保全と表面技術
14:15　21B-依頼講演�A　電気自動車技術の現状　トヨタ自動車　大川正尋
15:00　21B-23単結晶Al負極基板上におけるLiの析出溶解挙動(芝浦工大，神奈川産総研*都立大院工**)○齋田耕作，祖父江和治*，馬飼野信一*，井上晃一郎，中田　毅，今井八郎，渡辺　徹**
15:15　21B-24　アルミ陽極酸化膜を非めっきパターンとしたリサイクル電鋳原版(リコー生技研)池田邦夫
15:30　休憩
15:45　21B-26　Ni-MH電池用Zr系ラーベス相合金の設計にむけてのアプローチ(都立大院工，都立大工*)釜崎清治，○柴田正義*，月村孝徳*，見崎吉成
16:00　21B-27　遊星ボールミルにより合成したMg2Ni-MgNi3C複合体の電気化学特性(都立大院工，都立大工*)　○武内朋哉，森　智志*，釜崎清治
16:15　21B-28　MgNi2を改質材とするMg-Ni系水素吸蔵合金の電池負極特性(都立大院工)○小此木泰介，金山琢哉，釜崎清治
16:30　21B-29　超急冷法により合成した希土類系ABs型水素吸蔵合金の電池負極特性(都立大院工，都立大工*，帝国ピストンリング**)釜崎清治，○山本　哲*，木原　勝，小口昌弘*
16:45　21B-30　脱塩素イオン溶液における電極反応を利用した殺菌(三洋電機)○近藤康人，阿萬　誉，松添創一，志水康彦，米崎孝広，滝沢貴久男，須齋　嵩


C会場
一般講演
9:45　21C-2　LPD法による酸化スズ薄膜の選択成長(名大院工，日本ペイント*)○宇野　仁，蓬原正伸*，杉村博之，高井　治
10:00　21C-3　ITO薄膜使用NO2ガスセンサーの作製および検知特性評価(東理大基礎工)○近江篤志，佐古卓司，湯本久美
10:15　21C-4　単一蒸発容器を用いたMOCVD法によるフェライト薄膜の作製と生成膜組成の制御(東理大理工)○山本憲治，藤井　孝，伊藤　滋
10:30　(休憩)
10:45　21C-6　AIP法による水素分離透過用NbMo合金膜の作製(東理大基礎工，東理大理工*，東京ガス**)○左右木公嗣，瀧口博史，湯本久美，明石和夫*，関　　務**，太田洋州
11:00　21C-7　スパッタ法により作製されたFe-Ti膜へのN2+イオン注入による特性変化(工学院大工)○関戸　崇，鷹野一朗，沢田芳夫
11:15　21C-8　Ar+イオンビームアシスト蒸着法により作製したNiTi薄膜の諸特性(工学院大工)○末松茂虎，　鷹野一朗，沢田芳夫
11:30　21C-9　Ti過剰Ti-Niスパッタ膜の形成記憶特性(金材技研)○佐藤守夫，木村　隆，澤口孝宏，石田　章
11:45　21C-10　Ti-Pd-Ni系合金スパッタ膜の高温形状記憶特性(金材技研)　○澤口孝宏，佐藤守夫，　石田　章
12:00　(休憩)
14:00　(休憩)
14:15　21C-20プラズマソースイオン注入法により立体物へ作製したDLC膜の基材形状依存性　(長崎工技セ)○馬場恒明，畑田留理子
14:30　21C-21プラズマソースイオン注入法によるNおよびSiを添加したDLC膜作製と特性(長崎工技セ)馬場恒明，○畑田留理子
14:45　21C-22　Nイオン注入グラッシィ･カーボンの表面特性(�T)　(理研，千葉工大*)○岩木正哉，長田　実，戸井田浩*，寺島慶一*
15:00　21C-23　FおよびHFイオン注入グラッシィ･カーボンの表面特性(�T)　(千葉工大，理研*)○戸井田浩，寺島慶一，長田　実*，岩木正哉*
15:15　21C-24　高分子へのイオン照射により作製した炭素層の構造観察(理研)○小林知洋，岩木正哉
15:30　(休憩)
15:45　21C-26　He+イオンビームアシスト蒸着法により作製されたTiOx薄膜の諸特性(工学院大工)○牧　恵吾，沢田芳夫，鷹野一朗
16:00　21C-27　Ar+イオンビームアシスト法によりCuコーティングしたTiO2薄膜の光触媒特性(工学院大工)○高橋　功，鷹野一朗，沢田芳夫，佐藤光史，中根　央
16:15　21C-28　プラズマプロセスを用いたTiO2膜の酸化過程(東洋大工)○近江健一，柏木邦宏，小海秀樹，村山洋一
16:30　21C-29　高純度金属中微量成分のプラズマ固体発光分析における分光干渉(広島国際学院大工)大園洋仁，藤井和行，○松坂菊生


D会場
一般講演
9:30　21D-1　新しいアンモニウムイミド系室温溶融塩からの銅電析(京大院工)新田耕司，○邑瀬邦明，平藤哲司，粟倉泰弘
9:45　21D-2　Si上への無電解Ni-Pめっき(1)HF-HNO3-酢酸による活性化(山梨大工，富士電機*，富士日立パワーセミコン**)○柴田正実，大野貴弘，古屋長一，天野　彰*，一ノ瀬正樹**，中山茂幸*，野口顕修*
10:00　21D-3　　Si上への無電解Ni-Pめっき(2)HF-H2O2-H3PO4による活性化(山梨大工，富士電機*，富士日立パワーセミコン**)○柴田正実，大野貴弘，古屋長一，天野　彰*，一ノ瀬正樹**，中山茂幸*，野口顕修*
10:15　21D-4　各種添加剤を用いた硫酸銅めっき浴での銅電析挙動に関する研究(第2報):含硫黄系化合物の検討(東理大理工*，東理大界面科研**，EEJA***)山里卓洋*，関根　功*，湯浅　真*，**，進藤義朗***
10:30　21D-5　ビルドアップ基板用硫酸銅ビアフィリングめっき液の実用化(荏原ユージライト中研)○萩原秀樹，石川昌巳，石井和夫
10:45　(休憩)
シンポジウム/銅微細配線の現状と課題
11:00　21D-7　無電解めっき法によるULSI　Cu配線拡散バリア層の作製と評価(早大理工材研，NEC*)細田直宏，○黒川哲也，高野奈央，逢坂哲彌，上野和良*
11:15　21D-依頼講演�B　カッパーダマシンの技術動向　日本ノベラスシステムズ　播　直規
12:00　(休憩)
14:00　(休憩)
14:15　21D-依頼講演�C　銅微細配線技術の現状　日本電気ULSIデバイス開発研　上野和良
15:00　21D-依頼講演�D　銅微細配線技術の課題　甲南大ハイテク･リサーチ･センター　縄舟秀美
15:45　(休憩)
16:00　21D-27　ULSI銅微細配線におけるマイクロボイドの成因(甲南大理，石原薬品*)○北村浩司，　縄舟秀美，水本省三，内田　衛*，岡田　隆*
16:15　21D-28　添加剤の予備吸着を利用するULSI銅微細配線の形成(石原薬品，甲南大理*)○内田　衛，工藤富雄，縄舟秀美*，水本省三*
16:30　21D-29　コバルト(�U)化合物を還元剤とする中性無電解銅めっきの析出機構(甲南大理，松下テクノリサーチ*)○小畑雄一郎，縄舟秀美，水本省三，村上義樹*
16:45　21D-30　Co(�U)錯塩を還元剤とする無電解めっき浴の検討(関東学院大院，関東学院大工*)○川崎淳一，阿部拓郎，小林　健，本間英夫*



3月22日(水)
A会場
一般講演
9：30　　22A-1　　アルミニウムのD.C.エッチングにおけるエッチング形態の解析(東理大理工)○三浦修平，松本　太，井手本康，小浦延幸
9：45　　22A-2　　アルミニウムの交流エッチングにおける生成物とピットの増殖(YAST，山形工技セ*)○菅沼栄一，船越　明，丹野裕司*
10：00　22A-3(技)　アルミ電解コンデンサ用新規高容量エッチング技術の開発(�T)実験計画法によるトンネルエッチングの容量発現因子の解明(旭硝子中研，エルナー*)○遠藤榮冶，今川　誠，岩元純次郎，神保晴男*
10：15　22A-4(技)　アルミ電解コンデンサ用新規高容量エッチング技術の開発(�U)因子のエッチング形状に及ぼす影響解明と新規腐食抑制剤の開発　(旭硝子中研，エルナー*)○遠藤榮冶，今川　誠，岩本純次郎，神保晴男*
10：30　22A-5　　アルマイト処理を施したAl線材の窒化(東理大理工)○笹岡史典，鈴木清志，藤井　孝，伊藤　滋
10：45　(休憩)
11：00　22A-7(技)マグネシウム合金の陽極酸化処理(STC)島尻芳文
11：15　22A-8(技)マグネシウム合金上へのノンクロメート化成処理(三井金属総研)○百武正浩，松嶋英明，鈴木光夫，笠原暢順，土橋　誠
11：30　22A-9　　CaとPを含むTi陽極酸化皮膜の微細構造(室蘭工大，北大院工*，無機材研**)西中一仁，○渡辺恵司*，平井伸治，嶋影和宜，和田健二**，高橋英明*
11：45　22A-10　　CaとPを含むTi陽極酸化皮膜の生体材料としての可能性(室蘭工大，北大院工*，無機材研**，北大歯***)○西中一仁，渡辺恵司*，平井伸治，嶋影和宜，和田健二**，宇尾基弘***，亘理文夫***，高橋英明*
12：00　(休憩)
13：00〜13：20　第1回優秀講演賞及び6回学術奨励講演賞授与式
13：20　会長あいさつ
13：25〜14：25　特別講演・第52回武井記念講演会“グローバル二酸化炭素リサイクル”(東北工業大学)橋本　功二　於：12号館(司会　実行委員長　小浦　延幸)
14：25　(休憩)
14：45　22A-22　Mo/Alオキシ水酸化物皮膜による鉄鋼材料の耐食性の向上(北大院工)○鳴海弘一，金野英隆
15：00　22A-23　純アルミニウムのNaCl/エタノール水溶液中における孔食特性(東北学院大工)○樋渡洋一郎，遠藤春男，星宮　務
15：15　22A-24　表面pH測定による大気腐食評価(金材技研)○野田和彦，山本正弘，升田博之，小玉俊明
15：30　22A-25　さび層のイオン透過性におよぼす合金元素の影響(金材技研)○野田和彦，西村俊弥，升田博之，小玉俊明
15：45　(休憩)
16：00　22A-27　スズめっき皮膜のアノード酸化とその耐食性(鈴鹿高専，愛知工技セ*，名大工**)○兼松秀行，多気佳史，野口裕臣*，沖　猛雄**
16：15　22A-28　EQCM併用WJRDEによる電析銅電極での反応生成物の分離・定量(東理大理工)○門脇　淳，板垣昌幸，渡辺邦洋
16：30　22A-29　チャンネルフロー電極法を用いた銅孔食に対するいくつかの検討−銅の不均化反応を中心に−(東理大理工)○山本浩久，板垣昌幸，渡辺邦洋
16：45　22A-30　銅表面で起こる蟻の巣状腐食機構の考え方(慶大理工)○佐藤泰之，川喜多仁，小林賢三
17：30〜19：00　懇親会


3月22日(木)
B会場
シンポジウム/環境保全と表面技術
9:30　22B-依頼講演�E　スパッタ被覆ガラスを使用した建物の省エネルギー性　旭硝子　斉藤栄亮
10:15　22B-依頼講演�F　光触媒膜の大気浄化材料への応用　資源環境技研　竹内浩士
11:00　(休憩)
11:15　22B-依頼講演�G　テフロンチューブ濃縮法を併用する環境試料水の分析　東理大理工　渡辺邦洋
12:00　(休憩)
14:25　(休憩)
14:45　22B-依頼講演�H　鉛フリーはんだの動向　東大先端科技セ　須賀唯知
15:30　22B-25　複合めっき法によるSn-Ag合金皮膜の微細組織(阪市工研，関西大工*)　○藤原　裕，榎本英彦，中谷淳司*，山内英子*
15:45　22B-26　グルコン酸浴からのスズ-ビスマス合金めっき(福島ハイテクプラザ，阪市工研*)　○大堀俊一，藤原　裕*，榎本英彦*
16:00　(休憩)
一般講演
16:15　22B-28スズめっき皮膜のはんだ濡れ挙動について(キザイ，阪市工研*)　○楢原泰栄子，尾野博三，藤原　裕*，榎本英彦*，船田清孝
16:30　22B-29　メタンスルホン酸浴からのスズ―銀―銅合金の電析および皮膜特性(甲南大理，石原薬品*，大和化成**)　○芝　一博，縄舟秀美，水本省三，青木和博*，武内孝夫**
16:45　22B-30　ホーランダイト型構造を有するKXGaXSn8-XO16薄膜の作製と評価(東理大連携院，無機材研*)　○藤本憲次郎，鈴木　潤，森　利元，渡辺　遵
3月22日(水)　C会場
シンポジウム／ドライプロセスによる表面硬化
9:30　　22C-1　　燃焼炎による炭素膜合成装置の特性(日本電子工業，千葉工大*)○舟木義行，千葉善直*，貝沼数敏*，坂本幸弘*，高谷松文*
9:45　　22C-2　　燃焼炎による炭素膜の合成における反応ガスの影響(千葉工大，日本電子工業*)○千葉善直，貝沼数敏，坂本幸弘，高谷松文，舟木義行*
10:00　22C-3　　燃焼炎による炭素膜の合成における基板回転の影響(千葉工大，日本電子工業*)○坂本幸弘，千葉善直，貝沼数敏，高谷松文，舟木義行*
10:15　22C-4　　燃焼炎により作製した炭素膜のラマン分光分析による評価(千葉工大，日本電子工業*)○貝沼数敏，千葉善直，坂本幸弘，高谷松文，舟木義行*
10:30　(休憩)
10:45　22C-依頼講演�I　ドライプロセスによる表面硬化処理の現状と新しい試み−プラズマ・イオンプロセスの応用を中心に　東理大　明石和夫
11:30　22C-9　　分子イオンビーム法によるSiC薄膜形成の低温化(阪大院工，大工研*)○松本貴士，美本和彦，木内正人*，杉本敏司，後藤誠一
11:45　22C-10　RFマグネトロンスパッタ法による窒化ホウ素(BN)薄膜の作製とその微細構造変化に関する研究(茨城大教育)○吉澤　勲，近藤量行
12:00　(休憩)
13:00〜13:20　第1回優秀講演賞及び第6回学術奨励講演賞授与式
13:20　会長あいさつ　(司会　実行委員長　小浦　延幸)
13:25〜14:25　特別講演・第52回武井記念講演会　“グローバル二酸化炭素リサイクル”(東北工業大学)橋本　功二　於:12号館
14:25　(休憩)
14:45　22C-依頼講演�J　ドライプロセスによる機械的特性向上の現状　日本電子工業　池永　勝
15:30　22C-25　鉄鋼材料のプラズマ浸硫窒化(日本電子工業)○伊藤恭二，須摩浩之，舟木義行
15:45　22C-26　ガス浸硫窒化処理を施したステンレス鋼の表面硬化層特性に及ぼすガス組成の影響(松山技研，信州大工*，信州大院**，長野工試***)○野村博郎，杉本公一*，杉山竜太**，滝澤秀一
16:00　(休憩)
16:15　22C-28　アーク法TiNコーティング材の硬度解析(住友金属鉱山中研，アルゼンティン国立原子力研究所*)○市村博司，Adolfo　Rodorigo*
16:30　22C-29　TiNコーティング材料の硬度と密着力(住友金属鉱山中研，アルゼンティン国立原子力研究所*)○市村博司，Adolfo　Rodorigo*
16:45　22C-30　窒化鋼材の硬度解析(住友金属鉱山中研)○市村博司，石井芳朗
17:00　22C-31　多層構造薄膜の微小押し込み硬さ試験によるエネルギー解析(金沢工大AMSR＆DC)沢平嘉浩，津田和朗，菊地直人，草野英二，南戸秀仁，○金原　粲
17:30〜19:00　懇親会　於:第三食堂


3月22日(水)　D会場
一般講演
9:30　　22D-1　　2-アミノエタンチオールを錯化剤および還元剤とする無電解金めっきとその析出機構(甲南大理，大和化成*)○谷久保正人，縄舟秀美，水本省三，武内孝夫*，小橋康人*
9:45　　22D-2　　ノーシアン無電解金めっきへの第二還元剤の適用(関東学院大院，関東学院大工*)○渡邊健治，鷲見隆一*，本間英夫*
10:00　22D-3　　ノーシアン下地触媒型無電解金めっき浴開発の試み(関東化学，早大理工*，早大理工総研**，日立電線***)○加藤　勝，佐藤　潤*，吉澤賢一*，本間敬之*，沖中　裕**，吉岡　修***，逢坂哲彌*
10:15　22D-4　　ヒドロキシルアミンを還元剤とするノーシアン無電解金めっきの反応機構(早大理工，関東化学*，早大理工総研**，日立電線(株)***)○佐藤　潤，加藤　勝*，吉澤賢一，本間敬之，沖中　裕**，吉岡　修***，逢坂哲彌
10:30　(休憩)
10:45　22D-6　　AFMによる無電解Ni-Pめっき皮膜の成長過程の解明(阪市工研)○小林靖之，藤原　裕，榎本英彦
11:00　22D-7　　無電解ニッケルめっきの初期析出過程(関東学院大工，関東学院大院*)○山本誠二，橋本幸雄*，田代雄彦*，本間英夫
11:15　22D-8　　各種無電解ニッケルめっきの初期析出形態について(関東学院大院，関東学院大工*)○田代雄彦，橋本幸雄，山本誠二*，本間英夫*
11:30　22D-9　　ポリイミド樹脂の表面改質を利用するCd系半導体薄膜の作製(甲南大理，日本リーロナール*)○石川俊輔，縄舟秀美，水本省三，清田　優*11:45　22D-10　無電解めっきにおけるDMAB酸化反応の分子軌道法による解析(早大理工)○玉木亜弥子，小松　功，中井浩巳，本間敬之，逢坂哲彌
12:00　(休憩)
13:00〜13:20　第1回優秀講演賞及び第6回学術奨励講演賞授与式
13:20　会長あいさつ　(司会　実行委員長　小浦　延幸)
13:25〜14:25　特別講演・第52回武井記念講演会　“グローバル二酸化炭素リサイクル”(東北工業大学)橋本　功二　於:12号館
14:25　(休憩)
14:45　22D-22サファイア研磨基板上の無電解Ni-Pめっき膜の密着性に及ぼす触媒析出形態の影響(山梨工技セ，山梨大工*)○有泉直子，柴田正実*，古屋長一*
15:00　22D-23　無電解CoFeB軟磁性薄膜を用いたマイクロパターニング(早大理工，富士通研究所*)横島時彦，○中村精一，金子大樹，逢坂哲彌，竹房さなえ*，田中厚志*
15:15　22D-24　無電解めっき法による高比抵抗NiFeB軟磁性薄膜の作製(早大理工材研，富士通研究所*)○久保宮敬幸，横島時彦，逢坂哲彌，竹房さなえ*，田中厚志*
15:30　22D-25　Ni-P/Alハードディスク基板のGDOESによる分析および断面TEMによる観察(慶大経，東北大金研*)○清水健一，幅崎浩樹*
15:45　(休憩)
16:00　22D-27(技)　メモリーディスク用アルミ基板のめっき後の平坦度経時変化(メルテックス，日軽金*)○関山和弘，田代雄彦，小山有一，川島　敏，佐野　弘*，岡　安夫*
16:15　22D-28(技)　アルミニウム素地の孔食抑制を目的としたジンケート浴の検討(メルテックス)○小山有一，田代雄彦，関山和弘，川島　敏
16:30　22D-29　無電解Ni-Pめっき皮膜のトライボロジー特性に及ぼす雰囲気湿度の影響(岡山工技セ，阪府大工*)○日野　実，平松　実，辻川正人*，川本　信*
16:45　22D-30(技)　無電解Ni-Pめっき浴の廃液処理(上村工業中研)○松井冨士夫，川崎正悟，稲川　拡
17:30〜19:00　懇親会　於:第三食堂



3月23日(木)
A会場
一般講演
　9:45　23A-2　コンクリート中における溶融亜鉛めっき材料の腐食挙動に関する研究(三重工研,鈴鹿高専*,名大工**)　○村上和美，兼松秀行*，野田篤史*，市野良一**，沖　猛雄**
10:00　23A-3　各種めっき材の多湿オゾン雰囲気中における耐食性について(鈴鹿高専，ダイキン*，名大工**)　○兼松秀行，井上哲雄，福井直樹*，沖　猛雄**
10:15　23A-4　インピーダンス法を用いた粉体塗装鋼板の劣化評価(三洋電機，関東学院大工*)　○中山佳則，相川一好，滝沢貴久男，阿竹尚志*，山下嗣人*
10:30　23A-5　3-D複素平面プロットによるインピーダンス経時変化の解析(東理大理工)　○田谷彰大，板垣昌幸，渡辺邦洋
10:45　(休憩)
11:00　23A-7(技)　良摺動性無機耐指紋鋼板の品質特性(川鉄技研)　○多田千代子，海野　茂，望月一雄
11:15　23A-8　シリカ富化水環境での新規な浸食性パラメータの検討(東理大理工*，東理大界面科研**，オルガノ***)　○坂井祐介*，関根　功*，湯浅　真*,**，和氣敏治***，村田浩陸***，染谷新太郎***
11:30　23A-9(技)　1液湿気硬化形ウレタン塗料の防食性について(大日本塗料)　○永井昌憲，多記　徹，松本剛司，田辺弘往
11:45　23A-10　ポリアニリン含有塗料の防食性能評価(東理大理工*，東理大界面科研**，テック大洋工業***，日本オルメコン****)　○三上智志*，関山之郭*，林　慎一*，湯浅　真*,**，鳥潟浩司***，B.Wessling****)
12:00　(休憩)
13:00〜14:00　　平成12年度技術賞受賞記念講演会
(13:00〜13:30)　非シアン無電解金めっき液の開発(日立製作所，習和工業*，日立化成**)　○井上隆史，安藤節夫，牛尾二郎，竹原裕子，奥平弘明，太田敏彦，横野　中，富沢　明*，山本　弘**，嶋崎　威**　
(13:30〜14:00)　プリント基板用アルカリエッチング液のリサイクル技術の構築と実用化(メルテックス，東海メルテックス*)　川島利夫，○高桑尚徳*
14:00　(休憩)
14:15　23A-20　アニオン型電着樹脂の分散構造に関する検討(上村工業中研*，京大エネ理工研**)　○土家和代*，福井洋一*，鈴木祥一郎*,**
14:30　23A-21　カチオン型電着塗膜の析出機構(上村工業中研*，京大エネ理工研**)　○福井洋一*，土家和代*，鈴木祥一郎*,**
14:45　23A-22　X線照射による酸化チタン光触媒の高機能化(宇都宮大院工，宇都宮大工*)　○飯村修志，手塚秀夫，中川玲*，吉原佐知雄，白樫高史
15:00　23A-23　水中熱基板法による水酸アパタイト皮膜の析出(名大院工，名大理工総研*)　○宮下喜敬，大澤良二，黒田健介*，市野良一，興戸正純*，高井　治
15:15　23A-24　昇温光電子放出法(TPPE)を用いた金属表面の解析(茨城大工)　本間正和，○鴨沢勅郎，百瀬義広
15:30　23A-25　アルミニウム表面の昇温光電子放出法(TPPE)およびXPS特性(茨城大工)　本間正和，鴨沢勅郎，○百瀬義広，竹内　学


B会場
一般講演
9:30　23B-1　常圧非平衡プラズマを用いたシリコンウェハ上のフォトレジストの除去(埼玉大工)　○熊谷　大，堀井真吾，杉山和夫
9:45　23B-2　電子シャワー蒸着法によるセメンタイト単相膜の作製と耐食性(東理大基礎工，スーパーメタル研究体*)　○湯本久美，李　松姫，山崎祐一，下斗米道夫*
10:00　23B-3　Pd-Ag合金膜の水素の吸蔵･放出による表面形態の変化(2)(東理大理工，東京ガス基礎技研*)　○栗原雅尚，藤井　孝，伊藤　滋，明石和夫，関　　務*，太田洋州*
10:15　23B-4　フッ素化炭化水素プラズマ処理による超はっ水性固体材料表面の発現と希釈ガスの効果(埼玉工大工)　矢嶋龍彦，栗城善隆，平野　崇，○土門孝之，岡部芳雄
10:30　(休憩)
10:45　23B-6　気流を用いた大気圧プラズマによるポリプロピレンの表面処理(金沢工大AMSR＆DC)　○福島和宏，一山正則，菊地直人，草野英二，南戸秀仁，金原　粲
11:00　23B-7　イオン照射したプラスチックのキャラクタリゼーション(横浜工技支援セ，千葉工大*)　○山崎善弘，井出美江子，寺島慶一*
11:15　23B-8　ゾル―ゲル法によるプラスチック基板への透明薄膜作製とその界面特性(横浜工技支援セ)　志田あずさ
11:30　23B-9(技)　複合表面硬化処理鋼の焼付き特性(都立産技研)　○藤木　栄，石田直洋，大久保一宏
11:45　23B-10(技)　工具鋼材とリン青銅材を摺動部とする電磁クラッチの耐摩耗性(東理大理工)　○加川穂積，石井賢一，佐藤金司


3月23日(木)
C会場
シンポジウム/ドライプロセスによる表面硬化
9：30　23C-1　マイクロマシン用大型平板ダイヤモンドの合成(日本工大)○竹内貞雄，宮沢　肇，村川正夫
9：45　23C-2　多層構造ダイヤモンド膜の機械的特性評価(日本工大)○竹内貞雄，小田澄嗣，村上正夫
10：00　23C-3　マイクロ波プラズマCVDによるTi系基板へのダイヤモンド合成(千葉工大)○坂本幸弘，貝沼数敏，高谷松文
10：15　23C-4　マイクロ波プラズマCVDにより作製したダイヤモンドの電界電子放出特性に及ぼす膜質への影響(千葉工大)○渡邉芳則、坂本幸弘，高谷松文
10：30　23C-5　ダイヤモンドを陰極とした直流プラズマCVD法による低い陰極温度におけるダイヤモンド薄膜の合成−炭素源に対する依存性−(日本工大工，東海大工*，トーメイダイヤ**)三上敏秀，蟹和良一，○石川　豊，広瀬洋一*，山中　博**
10：45　(休憩)
11：00　23C-依頼公演�K　イオンプレーティングによる硬質膜の密着性とトライボ特性　都立産技研　仁平宣弘
11：45　23C-10　イオンプレーティングにより合成した窒素含有炭素膜の機械的特性(日本工大)○渡部修一，三宅正二郎，村川正夫
12：00　(休憩)
14：00　(休憩)
14：15　23C-依頼公演�L　浸炭・窒化処理による表面硬化法の現状と将来　オリエンタルエンヂニアリング　河田一喜
15：00　23C-23　ラジカル窒化を施した鉄系材料の摩擦摩耗特性(千葉工大院，千葉工大*)○古美門崇，坂本幸弘*，高谷松文*
15：15　23C-24　アルミニウムのラジカル窒化(千葉工大)○田幡和良，坂本幸弘，高谷松文
15：30　(休憩)
15：45　23C-26　MoS2複合膜の開発(日本コーティングセンター，Multi-Arc　Inc.*)　○川名淳雄，N.E.LoBiondo*　
16：00　23C-27　イオン窒化とTiNコーティングの複合表面改質(日立，日立協和*，茨城大工**)○寺門一佳，鍵山　新，熊井浩一*，浦尾亮一**
16：15　23C-28　Fe-Co系合金のプラズマ窒化(東理大理工)○岡野　憲，藤塚裕樹，藤井　孝，
伊藤　滋，明石和夫
16：30　23C-29　WC−Co系溶射皮膜の非破壊評価(近畿大理工，近畿大院*)○伊藤　亨，溝口浩一郎*，肥田　昭
16：45　23C-30　溶射皮膜のサンドエロージョン摩耗特性(近畿大理工，近畿大院*，日立造船技研**)森本純司，富江通雄，○川口一成*，山田勝弘**


D会場
一般公演
9：30　23D-1(技)　硫酸浴からのZn-Ni合金めっき皮膜のクロメート処理性に及ぼす界面活性剤の影響(岡山工技セ，岡山理大工*)○日野　実，平松　実，厨子智和*，金谷輝人*
9：45　23D-2　Zn-Te合金電析に及ぼす熱基板電極の効果(名大院工，名大理工総研*)関嶋洋介，○市野良一，興戸正純*
10：00　23D-3　酸性硫酸塩浴からの亜鉛パルスめっきに関する研究(名市工研)○矢嶋恭子，久米道之
10：15　23D-4　パルス電解法を用いた亜鉛上酸化皮膜生成に関する研究(名市工研，BAM*)○松本宏紀，矢嶋恭子，久米道之，W.Paatsch*
10：30　(休憩)
10：45　23D-6　スルファミン酸塩浴からのニッケルめっきとその残留応力(九工大工，山口工技セ*)○津留　豊，藤森博之，山田隆裕*
11：00　23D-7　ニッケルめっき法によるアルミニウム丸棒間の接合とその評価(九工大工)○津留　豊，岡本孝三，田渕　誠
11：15　23D-8(技)　電解Ni-PFA複合めっき皮膜のはっ水性と表面形態　(大阪ガス)松好弘明
11：30　23D-9　電気Ni-W合金めっき浴のクローズド化の試み(阪府産総研，野村鍍金*，ウィング**)○森河　務，中出卓男，佐藤幸弘，横井昌幸，石田幸平*，湯屋　進**
11：45　23D-10　チオ硫酸・亜硫酸塩混合浴軟質電解金めっき膜の微量イオン混入機構(早大理工，関東化学*，早大理工総研**，日立電線***)○吉澤賢一，佐藤　潤，加藤　勝*，美里賢史，本間敬之，沖中　裕**，吉岡　修***，逢坂哲彌
12：00　(休憩)
14：00　(休憩)
14：15　23D-20　薄膜ヘッド用CoNiFeP軟磁性薄膜の磁気特性(東理大基礎工)○湯本久美，渡邉浩史，藤田　智
14：30　23D-21　Cu/Ni-P多層膜の摩耗特性(名市工研，岐阜大*)○三宅猛司，久米道之，山口浩一*，杉浦　隆*，箕浦秀樹*
14：45　23D-22(技)　めっきを用いた微小構造体作製の検討(神奈川産総研，山王*)○安井　学，平林康男*，小林　賢，岩城泰彦*
15：00　23D-23　光アシスト化学析出法による水溶液からの鉄酸化物膜の作製(阪市工研)伊崎昌伸
15：15　23D-24　電析法による超伝導体(Pb0.5Tl0.5Ca2Sr2Cu3Ox)の作製(東工大工附属高専)○中村豊久，河合正昭，河喜多祥義，佐藤　晃
15：30　(休憩)
15：45　23D-26　UV照射下の電位変化による次亜リン酸イオンの定量(関東学院大院，関東学院大工*)○西脇泰二，宮前鉄平*，本間英夫*
16：00　23D-27　無電解めっき浴の自動給排制御(上村工業中研)○川崎正悟，松井冨士夫，稲川　拡
16：15　23D-28　高磁場中での銅の無電解めっきにおける反応面サイズ効果(埼玉工技セ，JST*)○走出　真，青柿良一
16：30　23D-29　高磁場中での銅粉への置換めっきにおける粒子の挙動(埼玉工技セ，JST*)○米持真一，青柿良一*
16：45　23D-30　リチウムイオンを含む非溶液中における銅酸化物の還元挙動(慶大理工)○川喜多仁，小林賢三