材料機能ドライプロセス部会 第114回例会
テーマ：光学薄膜の最新動向
近年の光学部品に対する要求が高まる中，ドライプロセスを用いた光学薄膜の重要性も増している。本例会では各種ドライプロセスを用いた光学薄膜の最新動向に関する講演を企画した。併せて，当部会に関係の深い先生方にこれまでのご研究を振り返っていただく企画を同時開催する。
| 主 催 | (一社)表面技術協会 材料機能ドライプロセス部会 | ||||||||
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| 日 時 | 2024年12月11日（水）13：25～16：50 | ||||||||
| 会 場 | 千葉工業大学 津田沼キャンパス 5号館 6階 大会議室およびオンライン | ||||||||
| プログラム |
13：25～13：30 開会にあたって
千葉工業大学 坂本 幸弘
13：30～14：30 光学薄膜の基礎（仮）
東海大学 室谷 裕志
14：30～15：30 光学多層膜形成におけるSiO層を用いた剥離防止
帝京大学 室 幸市
15：30～15：45 休憩
15：45～16：45 これまでの研究を振り返って（仮）
京都大学名誉教授 杉村 博之
16：45～16：50 閉会にあたって
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| 参加費 ＊消費税含む |
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| 申込方法 | 参加希望の方は，「材材料機能ドライプロセス部会 第114回例会 参加希望｣と明記し，（1）氏名，（2）所属，（3）電子メールアドレス，（4）参加種別（部会会員，表協会員，一般，学生），（5）請求書が必要な場合は郵送先，を記載のうえ，下記あてに，電子メールでお送りください。お申込みいただいた参加登録者には，開催日前までに，資料用URL等を通知いたします。URLはご登録者以外には知らせないようお願いいたします。 | ||||||||
| 申 込 先 問 合 先 | (一社)表面技術協会 材料機能ドライプロセス部会 事務局 E-mail：，TEL：03-3252-3286，FAX：03-3252-3288 |