高機能トライボ表面プロセス部会・第20回例会
今回は，「日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会」，「東京都立産業技術研究センター」，「応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会」と共同で「日本－ベルギー 二国間研究交流ワークショップ～プラズマプロセスが切り拓く次世代表面処理技術の開発動向～」を開催いたします。是非ご参加下さいますよう，よろしくお願い申し上げます。
| WEBサイト |
詳細・申込は日本表面真空学会の下記ページをご参照ください。 日本－ベルギー 二国間研究交流ワークショップ ～プラズマプロセスが切り拓く次世代表面処理技術の開発動向～ https://www.jvss.jp/jpn/activities/40/detail.php?eid=00013 |
|---|---|
| 共 催 | (一社)表面技術協会・高機能トライボ表面プロセス部会， (公社)日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）， (地独)東京都立産業技術研究センター， (公社)応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会、 |
| 日 時 | 2022年12月5日（月）10：00～18：15 |
| 会 場 | 東京都立産業技術研究センター（本部）
講演会会場：5F講堂 技術交流会（ポスター形式）会場：5F食堂 |
| 講 演 |
10:00～10:30 開会式 司会：東京都立大学 清水徹英
10:30～10:45
“Introduction of FNRS-JSPS bilateral activities, “UpRISING”
Prof. Tetsuhide Shimizu (Tokyo Metropolitan University, Japan)
10:45～11:15
Innovative PVD strategies for the design of novel TiO2-based photoanode”
Prof. Rony Snyder (University of Mons, Belgium)
11:15～11:45
“Fabrication of isolated nanocolumnar structures by glancing-angle deposition in reactive plasma environments”
Prof. Yasushi Inoue (Chiba Institute of Technology, Japan)
11:45～12:00 技術交流会 ショートプレゼン
12:00～13:00 昼食休憩
13:00～13:30
“Thin film synthesis using atmospheric pressure dielectric barrier discharges : from uncontrolled amorphous organic films to chemically patterned and crystalline coatings.”
Prof. François Reniers (Université Libre de Bruxelles, Belgium)
13:30～14:00
“Deposition of diamond-like carbon film by high power pulse magnetron sputtering”
Prof. Takayuki Ohta (Meijo University, Japan)
14:00～14:30
“Bipolar high power impulse magnetron sputtering: a route to tailor the film properties”
Prof. Matthieu Michiels (Haute Ecole en Hainaut, Belgium)
14:30～15:15 技術交流会（ポスター形式）およびコーヒーブレイク
15:15～15:45
“Understanding pulsed sputtering via imaging of the ground state particles”
Prof. Nikolay Britun (Nagoya University, Japan)
15:45～16:15
“Toward a low pressure plasma Virtual Coater by fast multiscale computer modeling algorithms”
Prof. Stefan Lukas (University of Namur, Belgium)
16:15～17:00 技術交流会（ポスター形式）およびコーヒーブレイク
17:00～17:30
“Europe/Japan collaboration in the field of surface treatment technologies”
Dr. Koichi Suzuki (Surftech Transnational, Japan)
17:30～18:00
“Sputtering on liquids substrate, towards the synthesis of nanoparticles”
Prof. Stephanos Konstantinidis (University of Mons, Belgium)
18:00～18:10 閉会の挨拶
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| 参 加 費 | 無料 |
| テキスト代 |
共催団体部会 会員：無料
共催学協会 個人・法人(団体)正会員，維持会員，賛助会員に属する方：3,000円 教育機関，公的機関に属する方：3,000円 学生：無料（講演資料集冊子の配布はございません） 一般：5,000円 技術交流会発表者：無料 |
| 定 員 | 70名程度 |
| 申込方法 | 上記ホームページより11月21日（月）までにお申込みください。 |
| 問 合 先 | (一社)表面技術協会「高機能トライボ表面プロセス部会」事務局 E-mail：，TEL&FAX：058-293-2511 |