表面技術協会関東支部/神奈川県立産業技術総合研究所 合同講演会
エレクトロニクス・表面技術フォーラム

テーマ:高速・高周波に対応した低損失回路形成技術
WEBサイト 詳細・申込は神奈川県立産業技術総合研究所ホームページ
https://www.kistec.jp/innovation-hub2021/ )を参照ください。
共  催(一社)表面技術協会 関東支部,(地独)神奈川県立産業技術総合研究所
日  時2021年11月26日(金)13:00~15:00
会  場オンライン開催
プログラム
13:00~13:30 基調講演「先進的表面処理技術の開発と産学協同のルーツ」
関東学院大学 特別栄誉教授
関東学院大学 材料・表面工学研究所 顧問 本間 英夫 先生
[概要]種々の産業分野において要求されている表面処理は,5G技術をはじめとする先進的な製品開発を通じ,私たちの生活向上,また持続可能な社会の構築のために,日々研究開発が進められている。本講演では,産学共同のルーツとして評価されるようになった関東学院大学におけるめっき技術開発の歴史を紐解き,関東学院大学 材料・表面技術研究所における研究成果および新規技術開発に必要な心構えやセレンディピティについて解説する。
13:30~15:00 技術講演「高速・高周波に対応した低損失回路形成技術」
関東学院大学 材料・表面工学研究所 講師 堀内 義夫 先生
[概要]実用化が始まった5Gに対応するためには,従来と比べて伝送損失の低い材料の上に回路を形成する必要がある。また,高速伝送に対応する高周波の交流電流は,導体の表面に集中して流れるようになる表皮効果が知られている。そのため,低誘電率・低誘電正接を示す様々な基板の上に形成する銅膜との界面には,平滑性と密着性を両立することが求められる。そこで,従来の過マンガン酸処理に代わる大気UV処理法を用い,絶縁樹脂材料の上に銅皮膜を形成する技術を中心に,弊所で研究開発を進めているめっき技術について報告する。
参 加 費無料
申込方法sm-electronic-material(a)kistec.jp まで,ご所属,お名前,ご連絡先をご記入の上,メールにてお申込みください。
問 合 先(地独)神奈川県立産業技術総合研究所 電子技術部 安井 学(TEL:046-236-1500,内3315))
(一社)表面技術協会 関東支部担当(TEL:03-3252-3286)