ナノテク部会 第72回研究会
テーマ:薄膜評価の基礎と実際
主 催 | (一社)表面技術協会 ナノテク部会 | ||||||||||||
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協 賛 | (公社)日本表面真空学会 | ||||||||||||
日 時 | 平成30年7月25日(水)13:30~ | ||||||||||||
会 場 | 東京都市大学・世田谷キャンパス 1号館 地下1階1BC会議室
交通:東急大井町線「尾山台駅」下車徒歩12分 https://www.tcu.ac.jp/access/index.html | ||||||||||||
講 演 |
1.曲面におけるスポット領域のスペクトル正反射率測定装置
(株)渋谷光学 王 薇
2.マイクロスクラッチ試験機の原理と測定事例の紹介
(株)レスカ 新井 大輔
3.流動電位法によるゼータ電位の測定とその展望
(株)アントンパール・ジャパン 中野 祐樹
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参 加 費 (消費税含む) |
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申込方法 | 参加希望の方は,「ナノテク部会 第72回研究会 参加希望」と明記のうえ,参加者1名につきそれぞれ,(1)氏名,(2)勤務先(所属),(3)参加費の会員種別(上記),(4)電子メールアドレス,(6)郵便物(有料の場合,請求書等)送付先,をご記載のうえ,下記あてに電子メールまたはFaxでお申し込みください。 | ||||||||||||
申 込 先 問 合 先 | 表面技術協会 ナノテク部会係 上野 E-mail:ueno912@sfj.or.jp,TEL:03-3252-3286,FAX:03-3252-3288 |