ナノテク部会 第72回研究会

テーマ:薄膜評価の基礎と実際
主  催(一社)表面技術協会 ナノテク部会
協  賛(公社)日本表面真空学会
日  時平成30年7月25日(水)13:30~
会  場東京都市大学・世田谷キャンパス 1号館 地下1階1BC会議室
 交通:東急大井町線「尾山台駅」下車徒歩12分
  https://www.tcu.ac.jp/access/index.html
講  演
1.曲面におけるスポット領域のスペクトル正反射率測定装置
(株)渋谷光学 王   薇
2.マイクロスクラッチ試験機の原理と測定事例の紹介
(株)レスカ 新井 大輔
3.流動電位法によるゼータ電位の測定とその展望
(株)アントンパール・ジャパン 中野 祐樹
参 加 費
(消費税含む)
セミナーテキスト代(*購入必須)
 ナノテク部会・会員無料
 表協/協賛学協会・会員2,000円
 学生2,000円
 その他(大学/公的機関)5,000円
 その他(一般)10,000円
申込方法参加希望の方は,「ナノテク部会 第72回研究会 参加希望」と明記のうえ,参加者1名につきそれぞれ,(1)氏名,(2)勤務先(所属),(3)参加費の会員種別(上記),(4)電子メールアドレス,(6)郵便物(有料の場合,請求書等)送付先,をご記載のうえ,下記あてに電子メールまたはFaxでお申し込みください。
申 込 先
問 合 先
表面技術協会 ナノテク部会係 上野
 E-mail:ueno912@sfj.or.jp,TEL:03-3252-3286,FAX:03-3252-3288