高機能トライボ表面プロセス部会 第8回例会
高機能トライボ表面やプロセス革新に向けた議論を行う場として，今回は「大電力パルススパッタリング(HiPIMS)技術」をキーワードして，3名の講師の方々にご講演をいただきます。また東京都立産業技術研究センターにおける施設見学に併せてHiPIMSプロセスプラズマ計測のデモンストレーションを実施いたします。是非ご出席下さいます様よろしくお願い申し上げます。 なお，研究会に引き続き懇親会を行いたいと思います。
| 共 催 | (地独)東京都立産業技術研究センター， (一社)表面技術協会・高機能トライボ表面プロセス部会， トライボコーティング技術研究会 |
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| 日 時 | 平成29年（2017年）12月1日（金） 13：20～17：10 |
| 会 場 | (地独)東京都立産業技術研究センター 本部 5階 会議室531
〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10 本部5階 https://www.iri-tokyo.jp/site/access/honbu.html |
| 参 加 費 （消費税含む） | H29年部会員の方は無料にてご聴講いただけます。部会の年会費は，企業：1万円，個人：3千円でございます。原則，個人会員は大学・研究機関の方とさせて頂きます。その場でご入会いただける場合，ご入金と引き換えに領収書をお渡し致します。非会員の方の参加も歓迎しますが，聴講料として6千円を頂戴いたします。（会員様の代理の方はご本人と同様に取り扱わせて頂きます。会員様のお連れ様からは，１人あたり資料代2千円を頂戴いたします。） |
| 申込締切 | 11月24日（金） |
| 申込方法 | 参加希望の方は「高機能トライボ表面プロセス部会 第8回例会・懇親会への出欠」と明記し，研究会への出席者人数，懇親会への出席者人数，所属機関名，代表者名，E-mail，Fax番号，電話番号，お連れの方がいる場合はその方の氏名を記載のうえ，下記までE-mailまたはFaxにてお申し込みください。 |
| 申 込 先 問 合 先 | 「高機能トライボ表面プロセス部会」事務局 E-mail：tribo.process@gmail.com FAX：052-789-2787 |
プログラム
| 13：20～13：30 |
開会の挨拶
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| 13：30～14：15 |
大電力パルスマグネトロンスパッタを用いたナノクラスター超原子の生成技術
慶應義塾大学 角山 寛規
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| 14：15～15：00 |
PBIIおよびHiPIMSによるDLC膜の作製
産業技術総合研究所中部センター 中尾 節男
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| 15：00～15：10 |
休憩
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| 15：10～15：55 |
HiPIMS with 2 µm/hour Deposition Rate
-The Trends in Coatings for Premium Cutting Tools- Cemecon K.K. Alexander Marxer
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| 16：00～17：00 |
(地独)東京都立産業技術研究センター施設見学
－HiPIMS成膜システムを用いたプラズマ計測デモンストレーション－ |
| 17：00～17：10 |
全体討論と閉会の挨拶
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| 17：10～ |
懇親会
会場：(地独)東京都立産業技術研究センター5階食堂 4,000円/人 |