| 共催 | (一社)表面技術協会・めっき部会，(地独)東京都立産業技術研究センター |
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| 日時 | 平成27年5月20日（水）13：00〜17：00 |
| 会場 |
(地独)東京都立産業技術研究センター 本部（中2階）東京イノベーションハブ 所在地：東京都江東区青海2-4-10 交 通：http://www.iri-tokyo.jp/gaiyo/access/honbu.html |
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講演
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1．検討中
(地独)東京都立産業技術研究センター 木下 稔夫
2．ナノ粒子の複合めっき〜特徴とそのしくみ〜
長岡技術科学大学 松原 浩
3．ゾルゲル法による機能性膜の形成
茨城県工業技術センター 飯村 修志
4．ゲルめっき−次世代めっき技術としての可能性−
吉野電化工業(株) 吉野 正洋
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| 参加費 |
めっき部会・会員 1社2名迄無料 表面技術協会・会員 1名5,000円 学生 1名3,000円 一般 7,000円 シニア会員 無料（テキスト必要な場合2,000円） （消費税を含む） |
| 定員 | 100名 |
| 申込方法 | 参加ご希望の方は「めっき部会5月例会参加希望」と記載し，(1)参加者名，(2)勤務先（部課名），(3)住所，(4)会員種別（表協・協賛，一般，学生，シニア），(5)参加費請求書の有無を明記のうえ，めっき部会事務局上野(ueno912(a)sfj.or.jp，FAX：03-3252-3288）までお申し込み下さい。折り返し参加券・会場案内図をお送りいたします。 |