部会

第31回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）足柄コンファレンス

標記「第31回金属のアノード酸化部会（ARS）足柄コンファレンス」を下記日程で開催いたします。下記のように企業・大学関係者による依頼講演が行われ，アノード酸化に関連する最新の話題を提供して頂けます。また，現在ポスター発表を募集しております。皆様奮ってご応募くださいますようお願いいたします。

主催

本会・金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)

協賛

電気化学会，日本表面科学会，軽金属学会，日本化学会

会期

平成26年11月20日（木）～21日（金）

会場

いこいの村あしがら

(神奈川県足柄上郡大井町柳260，TEL：0465-82-2381）

［交通アクセス］ http://www.ikoi.or.jp/map.html

依頼講演

1日目：11月20日(木)

セッション1：エネルギーデバイスへの利用

13：05～13：45　箔/粉末積層・焼結技術を利用した新しい電極材料の開発

東洋アルミニウム(株)　平　　敏文

13：45～14：25　リチウムイオン電池の特性向上に寄与するアルミニウム集電体

(株)UACJ　本川　幸翁

14：25～15：05　陽極酸化皮膜の電気絶縁特性

(株)神戸製鋼所　水野　雅夫

セッション2：表面処理とアノード酸化皮膜

15：25～16：05　電解プラズマ酸化処理における処理液中の金属酸素酸塩の影響

日本パーカライジング(株)　池田　芳宏

16：05～16：45　ポーラスアルミナの生成挙動におよぼす電解質化学種の影響

北海道大学　菊地　竜也

16：45～17：25　最初に観察ありき

i-SEM lab　清水　健一

17：25～18：30　ポスターセッション

19：00～21：00　技術交流会

2日目：11月21日(金)

セッション3：アノード酸化皮膜の機能化

08：30～09：10　アルミニウム合金の表面処理と気体放出特性

(株)アルバック　稲吉さかえ

09：10～09：40　鉄・ステンレス鋼への多孔質陽極酸化皮膜形成と応用

北海道大学　幅崎　浩樹

10：00～10：30　アルミナナノ細孔を利用したバイオセンサー

茨城大学　山口　　央

10：30～11：00　チタンワイヤボール（TWB）のアノード酸化と生体適合性

近畿大学　岩崎　光伸

11：00～11：30　微粒子陽極酸化プロセスにもとづく多孔性微粒子の作製

首都大学東京　柳下　　崇，益田　秀樹

11：30～12：00　種々の化学エッチングを用いた化合物半導体の微細加工

工学院大学　阿相　英孝，小野　幸子

（プログラムが変更になる場合もあります）

ポスター発表

・Li電池電極用のナノポーラスTiO₂-TiN複合アノード酸化皮膜の作製および充放電特性

（岩手大工・NIMS）○呉　松竹，作山春喜，齋藤早春，八代　仁，
瀬川浩代，和田健二，井上　悟

・金属援用エッチングによるシリコン太陽電池の反射防止－多孔質構造と光学薄膜としての特性－

（兵庫県立大院工・日本オイコス）○山川加能，阪本　進，福室直樹，八重真治

・ナノポーラス電極を用いた亜鉛デンドライト析出の抑制：共存イオン種の影響

（京大院工・JST-CREST）○幸田吏央，小山　輝，深見一弘，西　直哉，作花哲夫，
北田　敦，安部武志，邑瀬邦明

・ナノポーラス電極を用いた亜鉛デンドライト析出の抑制：錯体種の影響

（京大院工・JST-CREST）○鈴木湧也，幸田吏央，小山　輝，深見一弘，北田　敦，安部武志，邑瀬邦明

・p型シリコンの陽極酸化でみられる時空間パターンの温度依存性

（京大院工）鈴木湧也，○浦田智子，深見一弘，北田　敦，作花哲夫，邑瀬邦明

・アノード酸化ポーラスアルミナメンブレンの結晶化と昇温脱離法によるガス放出特性

（工学院大工）○増田達也，阿相英孝，小野幸子

・III-V族半導体の金属触媒エッチングによるパターニング

（工学院大工）○鈴木裕太，阿相英孝，小野幸子

・アノードエッチングにより作製したGaAsナノワイヤの電子放出特性

（工学院大工）○伊藤大喜，阿相英孝，小野幸子

・多段階電解により作製したマグネシウムアノード酸化皮膜の構造と耐食性

（工学院大工）○栗原綾香，阿相英孝，小野幸子

・Siのナノサイズ構造表面における濡れ性評価

（工学院大工）○町田健太，阿相英孝，吉田直哉，大倉利典，小野幸子

・固体コンデンサ用Ti-Zr合金の炭化抑制処理

（北大院総化・北大院工）小林康平，辻　悦司，青木芳尚，幅崎浩樹

・アノード酸化メソポーラスTiO₂膜の特異な成長挙動

（北大院総化・北大院工）松浦志紀，辻　悦司，青木芳尚，幅崎浩樹

・エチドロン酸アノード酸化と構造色発現

（北大院工）西長　理，菊地竜也，夏井俊悟，鈴木亮輔

参加費

ARS会員（大学，国公立研究所）	23,000円
ARS会員（民間企業）	38,000円
協賛学協会会員（大学，国公立研究所）	25,000円
協賛学協会会員(民間企業)	40,000円
一般	45,000円
学生，同伴	16,000円

ポスター
申込締切

10月24日（金）

参加申込締切

10月31日（金）

問合先・
ポスター申込先

ARS事務局：首都大学東京益田研究室
（TEL：042-677-2842，Fax. 042-677-2841，E-mail：ars@sfj.or.jp）