部会

第30回金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）弘前コンファレンス

標記「第30回金属のアノード酸化部会（ARS）弘前コンファレンス」を下記日程で開催いたします。下記のように企業・大学関係者による依頼講演が行われ，アノード酸化に関連する最新の話題を提供して頂けます。また，現在ポスター発表を募集しております。皆様奮ってご応募くださいますようお願いいたします。

主催

本会・金属のアノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)

会期

平成25年11月7日（木）13：00～8日（金）12：00

会場

弘前パークホテル

(青森県弘前市土手町126，TEL：0172-31-0089）

［交通アクセス］ http://www.imgnjp.com/hiro_park/access/index.html

依頼講演

1日目：11月7日(木)

13：00-13：05　開会挨拶

セッション1：30回記念特別講演

13：05-13：45　アノード酸化とAl電解コンデンサー

旭川工業高等専門学校高橋英明

13：45-14：25　表面技術と医用デバイス形成－弘前大学における医工連携－

弘前大学牧野英司

14：25-14：45　休憩

セッション2：電解コンデンサおよびエネルギーデバイス応用

14：45-15：25　アルミニウム電極箔に懸けた熱い思いと夢

日本ケミコン(株)内秀則

15：25-16：05　機能性高分子ハイブリッドコンデンサの開発と商品紹介

パナソニック(株)青山達治

16：05-16：35　集電体用アルミニウム箔の表面改質による電池特性の向上

住友軽金属工業(株)本居徹也

16：35-17：05　リチウムイオン二次電池の集電体アルミニウムと活材層の接触抵抗について

山形大学立花和宏

17：05-17：35　金属微粒子援用エッチングによる太陽電池の高効率化

兵庫県立大学八重真治

17：35-18：30　ポスターセッション

19：00-21：00　技術交流会

2日目：11月8日(金)

セッション3：皮膜解析と機能性表面処理

08：30-09：00　純アルミニウムの電解研磨における電解条件が光沢度と表面構造に及ぼす影響

(株)中野科学中野信男

09：00-09：30　アノード酸化ポーラスアルミナの孔形態に対する素地結晶方位と前処理の影響

工学院大学小野幸子

09：30-09：55　新しいナノポーラスアルミナを求めて

北海道大学菊地竜也

09：55-10：20　Seeing is believing：低加速高分解能SEMを用いた表面観察事例

北海道大学幅崎浩樹

i-SEM laboratory清水健一

10：20-10：35　休憩

セッション4：アノード酸化皮膜の機能化

10：35-11：00　農業の6次化を支えるアルマイト触媒

東京農工大学亀山秀雄

11：00-11：25　二層アノード酸化によるポーラスアルミナスルーホールメンブレンの高スループット形成

首都大学東京柳下崇

11：25-11：50　溶液フロー型微小電気化学セルを用いる局部陽極酸化

北海道大学坂入正敏

11：50-12：15　火花放電アノード酸化による複合酸化皮膜の作製

近畿大学岩崎光伸

ポスター発表

・ポアフィリング法によるアノード酸化ポーラスアルミナの封孔度および耐食性の評価

（工学院大工）阿相英孝，小野幸子

・アノード酸化ポーラスアルミナ皮膜の構造に対する電解液混合の影響

（工学院大工）増田達也，阿相英孝，小野幸子

・表面微細構造を制御したアノード酸化ポーラスアルミナ皮膜の細胞適合性

（工学院大工）小林渉，阿相英孝，今村保忠，小野幸子

・Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体のアノード酸化で生成したポーラス酸化皮膜の構造

（工学院大工）菅原康祐，阿相英孝，小野幸子

・リチウムイオン二次電池の集電体アルミニウムと活材層の接触抵抗にPVDFバインダーの溶媒膨潤性が及ぼす影響

（山形大）本田千秋，小野寺伸也，立花和宏，仁科辰夫

・リチウムイオン二次電池の集電体アルミニウムと活材層の接触抵抗にスラリー中の異物金属粒子が及ぼす影響

（山形大）伊藤知之，高林哲，本田千秋，立花和宏，仁科辰夫

・リチウムイオン二次電池の集電体アルミニウムと活材層の接触抵抗に対するCNTアンダーコートの効果

（山形大）小野寺伸也，菊池秀人，本田千秋，立花和宏，仁科辰夫

・Al上に生成する有樹単分子膜の構造評価

（北大院総化，北大院工）佐藤妃奈，辻　悦司，青木芳尚，幅崎浩樹

・Alの化学エッチング／アノード酸化による低表面張力液体をはじく表面の作製

（北大院総化，北大院工）中山勝利，辻　悦司，青木芳尚，幅崎浩樹

・メルドラム酸を用いたアルミニウムのアノード酸化

（北大）佐渡惇貴，菊地竜也，夏井俊吾，鈴木亮輔

・スクアリン酸アノード酸化皮膜の成長挙動

（北大）山本堅士，菊地竜也，夏井俊吾，鈴木亮輔

・チタニアナノ粒子のカルシウム還元によるポーラスチタンの作製

（北大）吉田雅純，菊地竜也，夏井俊吾，幅崎浩樹，鈴木亮輔

・ナノポーラスアルミナの規則性におよぼすセレン酸濃度の影響

（北大）西長　理，菊地竜也，夏井俊吾，鈴木亮輔

・ポーラスアルミナを用いた膜乳化プロセスによるハイドロゲル微粒子の形成

（首都大）町田優也，柳下　崇，西尾和之，益田秀樹

・陽極酸化ポーラスアルミナの形成に及ぼすゲル層の電流抑制効果

（首都大）牛山和也，西尾和之，益田秀樹

・金属ナノ粒子を底にもつ多孔質シリコンを利用した高信頼性無電解めっき

（兵庫県立大，日本オイコス）榎本将人，八重真治，阪本　進，福室直樹，松田　均

・金属微粒子援用HFエッチングを用いて形成したシリコンの極薄多孔質層による反射防止

（兵庫県立大，日本オイコス）山川加能，八重真治，榎本将人，福室直樹
阪本　進，松田　均

・シリコンの陽極酸化時に形成される微細チューリングパターン

（京大院工, 京大エネ理工研, ミュンヘン工科大物）浦田智子，深見一弘，
Katharina Krischer，作花哲夫

・共存イオン種に着目したミクロ多孔質電極内の金属析出制御

（京大院工，京大エネ理工研）幸田吏央，小山　輝，深見一弘，西　直哉，作花哲夫

・ミクロポーラスシリコンへの白金置換析出にみられる孔内での反応促進

（京大エネ理工研，京大院工）小山　輝，幸田吏央，深見一弘，西　直哉，作花哲夫

・アルマイト放電電極によるオゾン発生機構に関する研究

（東京農工大，アルマイト触媒研）チュアミンジン，トランタンフォン，亀山秀雄

・アノード酸化/無電解めっきによる低純度Al基材への三次元ポーラスナノ構造体の作製

（岩手大）大坂杏輔，呉　松竹，八代　仁，(NIMS)瀬川浩代，和田健二，井上　悟

参加費

ARS会員（大学，国公立研究所）	23,000円
ARS会員（民間企業）	38,000円
協賛学協会会員（大学，国公立研究所）	25,000円
協賛学協会会員(民間企業)	40,000円
一般	45,000円
学生，同伴	16,000円

参加申込締切

10月18日（金）

問合先・
ポスター申込先

ARS事務局：首都大学東京益田研究室
（TEL：042-677-1111，内線4931，Fax. 042-677-2841，E-mail：ars@sfj.or.jp）