2023年：74巻3号
74巻3号（2023年3月号）Pages 131-168
巻頭言
- 新しい時代の標準，Z世代との協同
- Page 131
小特集：原子層スケールで制御する表面処理技術
企画趣旨
- “小特集：原子層スケールで制御する表面処理技術”発刊によせて
- Page 132
解説
- 室温原子層堆積法
- Pages 133-136
解説
- 電子デバイスへ向けた原子層堆積法で作製した金属酸化膜の研究
- Pages 137-140
解説
- 高純度オゾンガスを用いたALDプロセスの特徴
- Pages 141-146
解説
- 粉体ALDとその応用
- Pages 147-150
トピックス
- 原子層堆積用ガリウムプリカーサーの開発
- Pages 151-154
シリーズ：研究者紹介 61
- 低温プラズマの計測およびシミュレーション
- Page 155
シリーズ：研究者紹介 62
- 電池材料の性能予測とデータサイエンス
- Page 155
研究論文
- Mechanical, Oxidative Properties, and Wear Behaviors of CrAlSiN Coatings Applied on Cutting Tools
- Pages 156-162
速報論文
- ガラス上に作製した酸化スズ膜の熱処理とパラジウムレス電気銅めっき
- Pages 163-164