2010年：61巻2号

61巻2号（2010年2月号），Pages 81-214
創立60周年記念号「踏みだそう！新たな一歩」
第1部　踏みだそう！新たな一歩
巻頭言
百年に一度の不況のなかでの創立60周年に寄せて
Page 81
縄舟　秀美
座談会
Ⅰ　日本のものづくりの現状と課題
Pages 82-94
安藤　　誠，伊藤　　叡，田邉　弘往，別所　　毅，若林　信一，
来田　勝継，大塚　邦顕
Ⅱ　表面技術に見る夢
Pages 95-107
新井　　進，上田　幹人，大貝　　猛，蒲生西谷美香，邑瀬　邦明，
八重　真治，松原　　浩
寄稿
工科教養のすすめ
Pages 108-111
増子　　曻
表面処理技術の発展を期待して
Pages 112-115
粟倉　泰弘
アルミニウムアノード酸化研究のこれまでの足跡と将来への期待
Pages 116-119
高橋　英明
プラズマプロセシングの発展史概要－萌芽期・成長初期に重点をおいて－
Pages 120-124
明石　和夫
第2部　最近の技術の進歩
1．成膜技術
1．1　電気めっき
1．1．1　銅めっき
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西城　信吾
1．1．2　ニッケルめっき
Pages 126-127
吉川　　豊
1．1．3　クロムめっき
Pages 128-129
森河　　務
1．1．4　亜鉛めっき
Pages 130-131
野嶋　成彦
1．1．5　すず，半田めっき
Pages 132-133
村上　浩二，日野　　実，水戸岡　豊，高見沢政男，仲井　清眞
1．1．6　金めっき
Pages 134-135
渡辺　秀人
1．1．7　銀めっき
Pages 136-137
北村　慎吾
1．2　無電解めっき
1．2．1　無電解銅めっき
Page 138
相木　文男
1．2．2　無電解ニッケルめっき
Pages 139-140
田嶋　和貴
1．2．3　無電解貴金属めっき
Pages 141-142
長谷川　清
1．3　溶融めっき
1．3．1　合金化溶融亜鉛めっき鋼板
Page 143
鈴木　善継
1．3．2　溶融Zn-Al-Mg合金めっき鋼板
Page 144
清水　　剛
1．3．3　その他溶融めっき鋼板
Page 145
黒崎　将夫
1．4　PVD
1．4．1　イオンプレーティング
Page 146
滝川　浩史
1．4．2　スパッタリング
Page 147
小島　啓安
1．4．3　レーザーアブレーション
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土屋　哲男
1．4．4　複合化技術
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川名　淳雄
1．5　CVD
1．5．1　プラズマCVD
Page 150
坂本　幸弘
1．5．2　熱CVD
Page 151
竹内　貞雄
1．5．3　MOCVD
Page 152
伊藤　　滋
1．5．4　プラズマ重合
Page 153
矢嶋　龍彦
1．6　溶射
Pages 154-156
児島　慶享
2．アノード酸化
2．1　アルミニウムのアノード酸化
2．1．1　バリヤー型皮膜
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清水　健一，幅崎　浩樹
2．1．2　ポーラス型皮膜
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西尾　和之
2．2　ニオブおよびタンタルのアノード酸化
Page 159
幅崎　浩樹
2．3　チタンのアノード酸化
Pages 160-161
伊藤征司郎
2．4　シリコンのアノード酸化
Page 162
八重　真治
2．5　マグネシウムのアノード酸化
Pages 163-164
小野　幸子
2．6　その他金属のアノード酸化（スズ，亜鉛など）
Page 165
阿相　英孝
3．　化成処理
Pages 166-168
石井　　均
4．塗料・塗装
4．1　粉体塗装
Page 169
佐川　千明
4．2　電着塗料
Page 170
黒田　将伸，嵐倉彰一郎
4．3　活性エネルギー線による塗装（UV硬化，EB硬化）
Page 171
大原　伸一
4．4　重防食塗覆法
Page 172
岩瀬　嘉之
4．5　機能性塗装
Page 173
小西　元也
5．表面改質
5．1　イオン注入法
Pages 174-175
鷹野　一朗
5．2　レーザー処理
Pages 176-177
新納　弘之
5．3　表面硬化，拡散浸透処理
5．3．1　窒化
Page 178
桑原　秀行
5．3．2　浸炭
Page 179
渡邊　陽一
5．3．3　表面焼入れ
Page 180
川嵜　一博
5．3．4　ピーニング
Page 181
白木　尚人
6．エッチング
6．1　ウェットエッチング
Page 182
池永知加雄
6．2　ドライエッチング
Page 183
関根　　誠
7．　研磨
Page 184
辻村　　学
8．表面・界面の分析・評価
8．1　電子顕微鏡
Pages 185-186
三石　和貴
8．2　プローブ顕微鏡
Page 187
珠玖　　仁，末永　智一
8．3　固体・表面分析
Page 188
水野　　薫，高木　康夫，林　　俊一
8．4　電気化学分析
Page 189
板垣　昌幸
9．物性評価
9．1　めっき膜の内部応力
Pages 190-191
津留　　豊
9．2　めっき膜の密着性
Pages 192-194
日野　　実，村上　浩二，金谷　輝人
第3部　トピックス
ZnOの無電解薄膜形成
Page 195
片山　順一
ダイレクトプレーティング
Page 196
村田　俊也
UV照射をエッチング代替処理として適用した新しい樹脂めっき法（UVプロセス）
Page 197
杉本　将治
LTCC上厚膜導体ペースト電極へのめっき
Page 198
橋本　貴治
ナノダイヤモンドの複合めっき
Page 199
松原　　浩
Cat-CVD技術
Page 200
松村　英樹
ダイヤモンドライクカーボン
Page 201
斎藤　秀俊
エアロゾルデポジション(AD)法
Page 202
明渡　　純
窒化ホウ素
Page 203
津田　　統
火花放電絶縁破壊陽極酸化
Page 204
水木　一成
ポーラスアルミナの構造制御と応用
Page 205
益田　秀樹
陽極酸化による金属酸化物ナノチューブの創製とその応用
Page 206
土谷　博昭
アノード酸化皮膜を利用した新規な微細構造体作製法
Page 207
菊地　竜也，坂入　正敏，米澤　　徹，Himendra Jha，高橋　英明
自己集積化分子膜
Page 208
杉村　博之
プラズマ環境における動的斜め堆積法
Page 209
井上　泰志，高井　　治
第4部　電子アーカイブ紹介
表面技術誌のJ-STAGE登載と電子アーカイブ事業
Page 210